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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23003件
The invention relates to the new pseudopolymorphic forms of 2-[2-[4-[bis(4- fluorophenyl)methyl]-1-piperazinyl]ethoxy]acetic acid dihydrochloride, defined by the X-ray diffraction pattern, namely, anhydrous 2-[2-[4-[bis(4-fluorophenyl)methyl]-l-piperazinyl]ethoxy]acetic acid dihydrochloride and a monohydrate of the crystal, and relates to the method for preparation of the pseudopolymorphic crystal.例文帳に追加
2−〔2−〔4−〔ビス(4−フルオロフェニル)メチル〕−1−ピペラジニル〕エトキシ〕酢酸ジヒドロクロリドの新規偽多形であり、X線回折パターンで定義される無水2−〔2−〔4−〔ビス(4−フルオロフェニル)メチル〕−1−ピペラジニル〕エトキシ〕酢酸ジヒドロクロリド及び該結晶の一水和物、並びにこれらの偽多形相結晶の製造方法。 - 特許庁
The method of manufacturing the color filter includes processes of: forming the negative type films 18 by using green, blue and red colored compositions in accordance with a plurality of photo-electric conversion elements 12 in an imaging device 14; performing pattern-exposure of the films via a density distribution mask; and thereafter, developing the film to form the outer surface of each color filter into a convex lens shape.例文帳に追加
カラーフィルター製造方法は:撮像素子14の複数の光電変換素12に対応して緑,青,赤色組成物によりネガ型膜18を形成し、この膜を濃度分布マスクを介してパターン露光した後に現像し、現像後に各色フィルターの外表面が凸レンズ形状に形成されている。 - 特許庁
In this method for forming a wiring, after an upper face of a translucent main body 24 of a reticle 22 which forms a wiring light blocking pattern 26 is positioned at a focal position X, and a negative photoresist film 18 is sensitized by i-rays 30, a lower face of the translucent main body 24 is positioned at a focal position to sensitize a light-shielding photoresist film 16.例文帳に追加
配線用遮光パターン26が形成してあるレチクル22の透光性本体24の上面を焦点位置Xにし、i線30によりネガ型フォトレジスト膜18を感光させたのち、透光性本体24の下面を焦点位置にして遮光フォトレジスト膜16を感光させる。 - 特許庁
The electronic watermark embedding method for the video image reduces picture quality deterioration for embedding the electronic watermark by deciding a watermark embedding pattern or embedding multiplicity of the watermark, using an estimation result estimating features of an input signal and a picture quality deterioration estimation result calculated from that.例文帳に追加
本発明は、画像に対して電子透かしを埋め込む方法において、入力信号の特徴を評価し、この評価結果及びこれにより算出される画質劣化評価結果によって、透かしの埋め込みパターンや埋め込み多重度を決定することで、電子透かしの埋め込みに画質劣化の低減を行う。 - 特許庁
Since this method allows the mask pattern 46 of high precision to be formed on the imprint resin layer 42 by impression of the nano-stamper 43, the monolithic semiconductor lens 23 having a desired shape is formed more easily than conventional methods which use wet etching or form resist patterns by baking.例文帳に追加
この方法では、ナノスタンパ43の押印によってインプリント樹脂層42に精度の高いマスクパターン46を形成できるので、従来のようにウエットエッチングを用いる場合や、ベーキングによってレジストパターンを形成する場合と比較して、所望の形状を有するモノリシック半導体レンズ23を簡易に形成できる。 - 特許庁
The method for making synthetic fiber fabric with translucent print (dyeing) pattern comprises a printing process before etching process by sodium hydroxide or the like, wherein the printing process comprises printing of paste for dyeing on the surface of the fabric, and/or printing which contains a transparent developer.例文帳に追加
水酸化ナトリウム等によるエッチング工程の前にプリント工程を含み、そのプリント工程は織物の表面上に染色用のペーストをプリントすること、および/または透明なプリント用顕色剤を含んでプリントすることを包含する、半透明なプリント(染色)パターンをその上に有する合成繊維織物を製造する。 - 特許庁
A method for manufacturing an inkjet printhead includes a process for: forming an aperture plate by disposing a silicon layer on the aperture plate; using photolithography to create a textured pattern on an outer surface of the silicon layer; and chemically modifying the textured surface by disposing a conformal oil repellent coating on the textured surface.例文帳に追加
アパチャプレート上にシリコン層を配置することでアパチャプレートを形成する工程と、写真平版術を用いてシリコン層の外面にテクスチャード加工パターンを作成する工程と、テクスチャード加工面に共形の撥油性被覆を配置することでテクスチャード加工面を化学的に改質する工程とを含む。 - 特許庁
This leakage sensing method of the injector for the LPI vehicle finally restrains injection with an integral frequency as a reference by integrating a counter one by one every time when starting required time exceeds target time in a starting delay by fuel leakage of an LPI engine and a reducing pattern of unburnt hydrocarbon HC.例文帳に追加
本発明のLPI車両用インジェクターの漏洩感知方法は、LPIエンジンの燃料漏洩による始動遅延及び未燃焼炭化水素(HC)の低減パターンに関し、始動所要時間が目標時間を超えるたびにカウンターを1ずつ積算し、結局積算回数を基準に噴射することを抑制するものである。 - 特許庁
To provide an image forming method in which toner concentration is made stable by controlling toner replenishment according to previous detection data without optically detecting a test pattern only at the time of restarting the operation of equipment after stopping or controlling it according to data on image amount in addition to the previous detection data.例文帳に追加
本発明は、休止後の機器動作再開時のみテストパターンを光学的に検知をせず、先回の検知データにより、トナー補給制御を行うかまたは先回の検知データに加え画像量のデータによりトナー補給制御を行うことで、トナー濃度の安定を図る画像形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide an advertisement information providing method for speculating which item really attracts a user with high precision on the basis of the living style or action pattern of the user of the Internet, and for providing advertisement information demonstrating sufficiently high advertising effects to a user.例文帳に追加
インターネットサイトのユーザの生活スタイルや行動パターンに基づいて、ユーザが本当に興味を持つ事項が何かを高い精度で推測することができ、その結果ユーザに対して充分に高い広告効果を発揮する広告情報を提供することのできる広告情報提供方法を提供すること。 - 特許庁
A manufacturing method for the piezoelectric MEMS includes laminating a plurality of piezoelectric films and a plurality of conductive films on a substrate to interpose each piezoelectric film between conductive films and etching the piezoelectric films and conductive films in order from their surface layer to form a pattern spreading toward a lower layer.例文帳に追加
本発明による圧電型MEMSの製造方法は、それぞれの圧電膜が導電膜の間に挟まれるように複数の圧電膜と複数の導電膜とを基板上に積層し、積層された複数の導電膜と複数の圧電膜とを下層に向かって広がるパターンに表層から順にエッチングする、ことを含む。 - 特許庁
A method for evaluating an arteriosclerosis lesion includes: a step of detecting a marker protein that shows a characteristic expression pattern (variation of an expression) on a specific disease stage of an arteriosclerosis lesion on a subject; and a step of evaluating the arteriosclerosis lesion of the subject based on the detection result.例文帳に追加
被験体において、動脈硬化病変において特定の疾患ステージに特徴的な発現パターン(発現の変動)を示すマーカータンパク質を検出するステップと、 その検出結果に基づいて被験体における動脈硬化病変を評価するステップとを含む、動脈硬化病変の評価方法。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can ensure a prescribed necessary thickness and a uniform thickness in any position on a semiconductor substrate regardless of a difference in uneveness of a planar pattern constitution forming a base step, and a semiconductor device using it.例文帳に追加
所定の必要十分な厚さを確保することができると共に、その厚さを下地段差を形成している凸部の平面的パターン構成の粗密の違いに因らず半導体基板上のどの位置でも均一なものとすることができる半導体装置の製造方法およびそれによって製造される半導体装置を提供する。 - 特許庁
The method of manufacturing the flexible printed board is characterized by maintaining an oxygen concentration in an etching processing atmosphere at 2 vol.% or below in a process of forming a copper wiring pattern by performing etching processing on a copper coating layer formed at least on one surface of an insulator film without interposing an adhesive.例文帳に追加
フレキシブルプリント基板の製造方法であって、絶縁体フィルムの少なくとも片面に接着剤を介さずに形成された銅被覆層をエッチング処理して銅配線パターンを形成する工程における前記エッチング処理雰囲気の酸素濃度が、2体積%以下に維持されることを特徴とする。 - 特許庁
A novel and useful method, system and framework is provided for extending the event processing pattern language to include constructs and patterns in the language in order to support historical patterns and associated retrospective event processing that enable a user to define patterns that consist of both online streaming patterns and historical (retrospective) patterns.例文帳に追加
ユーザがオンライン・ストリーミング・パターンと履歴(遡及)パターンとの両方からなるパターンを定めることができるようにする履歴パターン及び関連する遡及イベント処理をサポートするために、言語内に構造及びパターンを含むようにイベント処理パターン言語を拡張するための新規で有用な方法、システム、及びフレームワークである。 - 特許庁
In the charged particle beam scanning method scanning charged particle beams in the prescribed scanning pattern and the charged particle beam device, in accordance with a replacement of a frame, a scanning starting point in the vertical direction of a scanning line is changed by the prescribed amount in the prescribed direction.例文帳に追加
上記目的を達成するための一態様として、所定の走査パターンにて荷電粒子ビームを走査する荷電粒子ビーム走査方法、及び装置において、フレーム更新に従って、走査線の垂直方向における走査始点を、所定の方向に、所定量ずつ変化させる方法、及び装置を提案する。 - 特許庁
A template surface treatment method includes hydroxylating the surface of a template having an uneven pattern or absorbing water on the surface to distribute OH radicals on the surface, and coupling a coupling agent on the template surface on which the OH radicals are distributed.例文帳に追加
本実施形態によれば、テンプレートの表面処理方法は、凹凸を有するパターン面を備えたテンプレートの表面を水酸化するか又は前記表面に水を吸着させて、前記表面にOH基を分布させる工程と、前記OH基が分布したテンプレート表面にカップリング剤を結合させる工程と、を備える。 - 特許庁
In the imprint method for imprinting a pattern formed on a mold onto a resin, a wavelength of light incident on an imaging device is controlled in accordance with a gap between the mold and the substrate when an alignment mark provided on the mold is imaged by the imaging device.例文帳に追加
本発明の第1の側面は、モールドに形成されたパターンを基板上の樹脂にインプリントするインプリント方法であって、該モールドに設けられているアライメントマークを撮像素子で撮像する場合に、該モールドと該基板との間のギャップに応じて、該撮像素子に入射する光の波長を制御する、インプリント方法である。 - 特許庁
To provide a device and a method for preventing an erroneous detection from being generated by an impurity, dust or the like existing on lead wires or therebetween inside a pattern of a substrate of one portion of main assembling components used in manufacture for various kinds of semiconductor integrated circuits and preventing an erroneous detection in an optical inspection.例文帳に追加
種々の半導体集積回路の製造で用いられる主要な組立部品の一部分である基板のパターン内でリード線上又はこれらの間に存在する不純物やほこり等から生じた誤った検出を防止する、光学検査で誤った検出を防止する装置及び方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing a copolymer for semiconductor lithography, controlling a composition of a repeating unit containing a hydroxyl group in a low molecular weight region to improve shift pattern shape in a semiconductor lithography process which is a factor largely affecting a processing precision, an integration degree and yield.例文帳に追加
加工精度に大きく影響し、集積度やさらには歩留まりを左右する大きなファクターである、半導体リソグラフィー工程におけるレジストパターン形状を改善するために低分子領域における水酸基含有繰り返し単位の組成を制御した半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法を提供する。 - 特許庁
This vibration suppression method for a working arm drives a base with a speed pattern in which the speed is continuously changed using a sin function when driving the base of the working arm to move a distal end and when suppressing the vibration during the movement of and after the stop of the distal end.例文帳に追加
作業腕の基部を駆動して先端部を移動させるとともに、その先端部の移動中および停止後の振動を抑制するに際し、前記基部の駆動を、sin関数を用いて速度を連続的に変化させる速度パターンで行うことを特徴とする作業腕の振動抑制方法である。 - 特許庁
To provide a method for continuously and effectively producing textile printed article of polylactic acid by textile printing a molded article of the polylactic acid into an arbitrary pattern and hue with excellent color reproducibility while substantially keeping a proper softness and toughness which are inherent in the polylactic acid, even after textile printing.例文帳に追加
ポリ乳酸成形体に対し、優れた発色再現性をもって任意の柄、色相に捺染することができるとともに、ポリ乳酸が本来有する適切な柔軟性と強靭性を、捺染後においても実質的に保持したポリ乳酸捺染物を連続的かつ効率良く製造し得る方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an image forming method and apparatus, and a storage medium that can set an optional copy inhibit area on an image, generate image information with a prescribed pattern added thereto on the copy inhibit area to be set, display an image including the copy inhibit area and easily confirm the area.例文帳に追加
画像上に任意の複写禁止領域を設定し、その設定された複写禁止領域に所定のパターンを付与した画像情報を作成でき、またその複写禁止領域を含む画像を表示して、容易にその領域を確認できる画像形成方法及び装置と記憶媒体を提供する。 - 特許庁
As regards images acquired by irradiating the electron beam onto a pattern on a substrate formed through the multiple exposure method, the electron beam measuring technique has a means to classify the above respective patterns into two or more groups in accordance to the exposure history based on a difference in luminance or in shape of a white band of the respective patterns within these images.例文帳に追加
多重露光法により形成された基板上のパターンに前記電子ビームを照射して取得した画像について、該複数の画像内のそれぞれのパターンの明るさまたはホワイトバンドの形状の差から、前記それぞれのパターンを露光履歴に応じた複数のグループに分類する手段を有することを特徴とする。 - 特許庁
An electromagnetic wave shielding material manufacturing method comprises the first step of collecting a laser beam onto a conductive sheet constituted by forming a conductive layer comprising a conductive substance on a first base, removing the conductive layer, and forming a conductive pattern; and the second step of filling a portion between the conductive patterns with resin.例文帳に追加
第1の基材上に導電性物質を含んでなる導電性層を形成してなる導電性シートに、レーザを集光させて前記導電性層を除去し、導電性パターンを形成する第1の工程と、前記導電性パターン間に、樹脂を充填する第2の工程とを含む電磁波遮蔽材の製造方法。 - 特許庁
To provide a polymer which has excellent transparency, excellent dry etching resistance and excellent solubility in organic solvents, to provide a chemical amplification type resist composition suitable for far infrared light excimer laser lithography, electron beam lithography and the like, and to provide a method for forming a pattern with the chemical amplification type resist composition.例文帳に追加
優れた透明性と高いドライエッチング耐性とを有し、有機溶媒に対する溶解性にも優れた重合体、遠紫外光エキシマレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適な化学増幅型レジスト組成物、および、この化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
A photosensitive composition containing a compound for generating an acid by irradiation with a beam of active light or a radiation, a specific basic compound having a polar group, a specific basic compound having no polar groups, and a specific surfactant, and a pattern forming method using the same are provided.例文帳に追加
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、極性基を有する特定の塩基性化合物、極性基を有さない特定の塩基性化合物、及び、特定の界面活性剤を含有することを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁
To provide a plate for gravure printing, which surely holds printing paste, suppresses the random occurrence of stringiness and enables a graphic pattern excellent in the uniformity of smoothness and thickness to be formed by the gravure printing, and also to provide a manufacturing method for a laminated ceramic electronic component using the plate for the gravure printing, and a gravure printer.例文帳に追加
印刷ペーストを確実に保持するとともに、糸引きがランダムに発生することを抑制することが可能で、グラビア印刷により、平滑性や厚みの均一性に優れた図形パターンを形成することが可能なグラビア印刷用版、それを用いた積層セラミック電子部品の製造方法およびグラビア印刷装置を提供する。 - 特許庁
To provide a substrate for a transfer mask, capable of stably manufacturing the mask which does not have faults, without having to break the transfer pattern of an upper single-crystal silicon wafer in a step of manufacturing the mask by using the substrate for the mask, its transfer mask, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加
転写マスク用基板を用いて転写マスクを製造する工程において、上部単結晶シリコンウェハの転写パターンが破壊されず、欠陥のない転写マスクを安定して製造することを可能とする転写マスク用基板、及びその転写マスク並びにその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide a high frequency induction heating method for crankshaft and its apparatus with which the outer peripheral surface of a pin part or a journal part in the crankshaft can uniformly be heated over the entire periphery in a short period of time and therefor, a good (uniform) hardened layer pattern can be obtained by eliminating the inequality of the hardened layer depth.例文帳に追加
クランクシャフトのピン部又はジャーナル部の外周面をその全周にわたり短時間で均一加熱することができ、従って焼入硬化層深さの不均一を解消し得て良好な(均一な)焼入硬化層パターンを得ることのできるクランクシャフトの高周波誘導加熱方法及び装置を提供する。 - 特許庁
To provide an acid-degradable resin imparting good properties to a resist composition and having an alicyclic group, and a method for producing the acid-degradable resin; and to provide the positive-type resist composition having excellent properties of having a wide process window and a small dependency on the pattern density by using the acid-degradable resin.例文帳に追加
レジスト組成物に良好な性能をもたらす脂環基を有する酸分解性樹脂及びその製造方法を提供することであり、また、当該酸分解性樹脂を用いることによりプロセスウインドウが広く、疎密依存性が小さい優れた性能を有するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing an inorganic board, capable of producing the inorganic board containing mineral fibers, an inorganic powdery material and a binder as indispensable components and having an embossed uneven pattern having a good close adhesion with a decorative layer in a good productivity, and a highly designed inorganic decorative board by using the inorganic board as a substrate.例文帳に追加
鉱物質繊維と無機質粉状体と結合剤とを必須成分として含む、化粧層との密着性が良いエンボス凹凸模様を有する無機質板を、生産性良く製造することができる無機質板の製造方法と、この無機質板を基板とする高意匠の無機質化粧板を提供する。 - 特許庁
To provide a molding method which reduces the molded object weight difference between the end part and central part of a mold in multi-impression molding of a sheet to suppress the weight/strength fluctuations between molded objects, and is capable of obtaining the molded object reduced in the strain of a printing pattern caused by molding, and a mold therefor.例文帳に追加
複数個取りのシート成形で、金型端部と中央部の成形体重量差を少なくし、成形体間の重量・強度変動を抑えると共に、印刷樹脂フィルムを積層したシートの成形においては、成形による印刷図柄の歪みが少ない成形体をうる成形方法及び金型を提供する。 - 特許庁
To provide an effective method for obtaining a conduit pattern binary image for forming an emboss plate capable of performing a delicate correction work of making the plate close to an irregular form owned by natural wood grain from a gradation image taken by a digital camera in which a conduit part is emphasized but the resolution is low.例文帳に追加
デジタルカメラにより撮影したような、導管部が強調されてはいるが低解像度の階調画像から、天然の木目が有する凹凸形状に近づけるような精細な修正作業も可能な、エンボス版を形成するための導管図形2値画像を得る有効な方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method of determining a type of an optical disk further rapidly determining the type of the loaded disk by varying the type determination sequence of the optical disk by taking the user's pattern of using the optical disk, a frequency and a point of time of using the optical disks by the types into consideration.例文帳に追加
ユーザーの光ディスク使用パターン、類型別の光ディスクの使用頻度及び使用時点を考慮して、光ディスクの類型判別順序を可変させることによって、ローディングされた光ディスクの類型をさらに迅速に判別できる光ディスクの類型判別方法及びそのデータ記録及び/または再生装置を提供する。 - 特許庁
This electroconductive ink composition comprises a metal powder treated with a surfactant, a resin and a volatile solvent, and is used in a printing method where an ink coating film image formed on the surface of a silicone blanket is transferred onto a substrate to be printed, and the resultant accurate pattern is printed on the substrate to be printed.例文帳に追加
シリコーンブランケット表面に画像形成されたインキ塗膜を被印刷基材上に転写して精密パターンを被印刷基材上に印刷する印刷法に用いられるインキ組成物であって、界面活性剤で処理された金属粉末、樹脂及び揮発性溶剤を含有する導電性インキ組成物を用いる。 - 特許庁
The method further includes, after adjusting at least one of the loss compensation and the offset compensation, adjusting at least one of the loss compensation and the offset compensation applied to the signal as well based on one or more of the sampled data values and boundary values associated with the pattern in the second set of data patterns.例文帳に追加
損失補償及びオフセット補償の少なくとも1つを調整した後に、第2群のデータパターンについても同様に、データパターンに関するサンプリングされたデータ値及び境界値の1つ以上に基づいて、信号に適用された損失補償及びオフセット補償の少なくとも一方を調整する。 - 特許庁
In the method for producing a fine pattern, the photosensitive resin composition is shaped into a film by casting and drying on a substrate, and this film is exposed through a photomask, developed with alcohol, glycol or monoalkyl ether of glycol, and subjected to dehydration ring closure by heating or with a cyclodehydrating reagent to form a polyimide film having a repeating unit represented by formula (2).例文帳に追加
前記の感光性樹脂組成物を基板上に流延・乾燥して製膜し、フォトマスクを介してこれを露光し、アルコール、グリコールまたはグリコールのモノアルキルエーテルで現像後、加熱あるいは脱水環化試薬を用いて脱水閉環して、式(2)で表される繰り返し単位を有するポリイミド膜とする微細パターンの製造方法。 - 特許庁
In the patterning method, the pattern of a photomask is transferred to an underlying material by exposure processing thus forming a first guide where the surface energy of the underlying material is changed, and a second guide where the surface energy of the underlying material is changed is formed between the first guides by diffraction of exposure light resulting from exposure processing.例文帳に追加
実施の形態のパターン形成方法は、露光処理により、フォトマスクのパターンを下地材に転写して下地材の表面エネルギーを変化させた第1のガイドを形成すると共に、露光処理により生じる露光光の回折により、第1のガイド間に下地材の表面エネルギーを変化させた第2のガイドを形成する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin laminate having high sensitivity and little decrease in sensitivity (sensitivity change) by a hold time, and to provide a method for forming a resist pattern including steps of forming a photosensitive resin layer on a substrate using the above photosensitive resin laminate, exposing and developing.例文帳に追加
本発明は高感度でホールドタイムによる感度低下(感度変化)の少ない感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、この感光性樹脂積層体を用いて、基板上に感光性樹脂層を形成し、露光し、現像する工程を含むレジストパタ-ンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
This method for producing the oxidized compound comprises a process of oxidizing an organic compound by reacting the organic compound with an oxidizing agent in the presence of a titanosilicate (I) obtained by making contact of a titanosilicate (II) having the following X-ray diffraction pattern with a structure-regulating agent, or its silylated compound.例文帳に追加
下記X線回折パターンを有するチタノシリケート(II)と構造規定剤とを接触させることにより得られるチタノシリケート(I)又はそのシリル化物の存在下に、有機化合物と酸化剤とを反応させることにより、前記有機化合物を酸化させる工程を含む酸化化合物の製造方法の提供。 - 特許庁
To recognize the urgency of speech communication before receiving a telephone call from a caller by an incoming operation pattern corresponding to particular character information regarding a communication terminal device and incoming operation control method for receiving the particular character information from a transmitting side and controlling an incoming operation in accordance with the particular character information.例文帳に追加
発信側からの特定の文字情報を受信し、特定の文字情報に応じて着信動作を制御する通信端末装置と着信動作制御方法に関し、特定の文字情報に対応する着信動作パターンにより、発信者からの電話を受ける前に通話の緊急度を認識することを目的とする。 - 特許庁
The tissue structure has the structural characteristic in which the crystal structure substantially exclusive of a graphite structure does not substantially exist, the diffraction lines belonging to the metal Si and Si compound by the pattern analysis using an X-ray diffraction method are not detected and the granular structure is not identifiable by the observation of a transmission type electronmicroscope(TEM).例文帳に追加
その組織構造は、実質的に黒鉛構造以外の結晶構造が存在せず、X線回折法によるパターン解析により金属Si及びSi化合物に帰属する回折線が検出されず、透過型電子顕微鏡(TEM) の観察によって粒状組織が識別できない組織性状を備えている。 - 特許庁
Related to the manufacturing method for a bipolar transistor, the external base region is formed into a heavily-doped region and a lightly-doped region at a ratio between them, by only changing the layout pattern of the heavily-doped external base region 8, so that the number of manufacturing processes will not increase, resulting in easier manufacture and shorter construction period.例文帳に追加
また、バイポーラトランジスタの製造方法は、高濃度外部ベース領域8のレイアウトパターンを変更することだけで、外部ベース領域が任意の比率で高濃度の領域と低濃度の領域とに形成されることにより、製造工程の数が増えないので、製造が容易で工期が短くなる。 - 特許庁
Further, the exposure method includes acquiring second OPE error corresponding to the first and second transcriptional pattern portions transcribed with the exposure apparatus to which the first and second correction amounts are imparted, and performing exposure processing with the exposure apparatus by the exposure apparatus to which the first correction amount and the second correction amount are imparted, when the second OPE error is included in a predetermined range.例文帳に追加
第1補正量及び第2補正量が与えられた前記露光装置による第1及び第2の転写パターン部分に対応する第2のOPE誤差を取得し、第2のOPE誤差が所定範囲に含まれている場合に、第1補正量及び第2補正量を与えた露光装置により露光処理を行う。 - 特許庁
The method for manufacturing a photomask blank having a thin film for forming at least a pattern on a transparent substrate is characterized in that the thin film is formed by sputtering a target facing the position to which the center axis of the substrate shifts while the substrate is rotated.例文帳に追加
透明基板上に少なくともパターンを形成するための薄膜を有するフォトマスクブランクの製造方法において、前記薄膜を、前記基板を回転させながら、前記基板の中心軸からその中心軸がずれた位置に対向するターゲットをスパッタリングすることによって成膜することを特徴とするフォトマスクブランクの製造方法。 - 特許庁
To provide a wiring circuit board in which the electrostatic breakdown of an electronic component to be mounted can be prevented surely by ensuring a plurality of grounding portions of a semiconductive layer and a metal supporting substrate and removing the static electricity of a conductor pattern surely, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
半導電性層と金属支持基板との接地部分を確実に複数箇所確保することができ、確実に導体パターンの静電気を除去して、配線回路基板に実装される電子部品の静電破壊を防止することのできる、配線回路基板およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁
The method for identifying the race of a plant, belonging to the genus Sasa, comprises amplifying a specific region of the chloroplast DNA of a specimen by using DNA polymerase and a primer set, and polymorphically analyzing the amplified fragment and detecting the characteristic DNA pattern.例文帳に追加
ササ属植物の系統を同定する方法において、被検体物の葉緑体DNAの特定領域をDNAポリメラーゼ及びプライマーセットを用いて増幅させ、増幅断片の多型解析を行い、特徴的なDNAパターンを検出することを特徴とするササ属植物の系統の同定方法である。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a resin circuit board in which catalyst metal in a surface layer of a base made of a polymer resin is suitably removed without damaging the base even when a metal circuit pattern having higher surface density than on a surface of the base is formed using the catalyst metal.例文帳に追加
触媒金属を用いて、高分子樹脂からなる基材の表面により表面密度の高い金属回路パターンを形成した場合であっても、基材にダメージを与えることなく、基材の表面層にある触媒金属を好適に除去することができる樹脂回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a casting master form capable of molding an uneven pattern even on a discontinuous surface or circular arc surface part, a method for manufacturing a sand mold using the same, and a resin molded object molded by a mold molded from the sand mold.例文帳に追加
本発明は、かかる事情に鑑み、不連続面部分や円弧面部分においても、凹凸模様を成形することができる鋳造用原型及びこれを用いた砂型の製造方法、並びに、この砂型から成形された成形用金型によって成形される樹脂成形体を提供することを課題とする。 - 特許庁
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