「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(439ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method and a device for spraying particulate capable of definitely suppressing the spraying of the particulate over a portion that is not required and stably forming an arbitrary spraying pattern that is clear-cut even if the particulate is being sprayed at a high speed over a fiber assembly conveyed with a conveyance belt.例文帳に追加

搬送ベルトにより搬送されてくる繊維集合体上に粉粒体を高速で撒布しても、撒布の不要な部分への粉粒体の撒布を確実に抑えると共に、鮮明な輪郭を有する任意の撒布パターンを安定して形成できる、粉粒体の撒布方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor test circuit for remarkably reducing an amount of a scanning test pattern and shortening a full scanning test time by modifying the constitution of an inside scanning chain at any time without increasing a test terminal and remarkably shortening a once-scanning shift action period in an LSI full scanning design, and to provide its test method.例文帳に追加

ＬＳＩのフルスキャン設計において、テスト端子を増加させずに、内部スキャンチェーンの構成を随時変更し、１回のスキャンシフト動作期間の大幅な短縮を行うことで、スキャンテストパターン量の大幅な削減とフルスキャンテスト時間の短縮を可能とする半導体テスト回路及びそのテスト方法を提供する。 - 特許庁

The method is characterized that a wiring pattern is formed by forming a resist coating film where a circuit is expected to be formed after a 1st thin metal coating film is formed on a surface of an insulating substrate, removing the resist coating film after etching, and then forming the 2nd metal coating film by carrying out electrolytic plating.例文帳に追加

絶縁基板の表面に薄い第一金属皮膜を形成した後、回路の形成を予定する部分にレジスト皮膜を形成し、次いで、エッチング除去を行った後、レジスト皮膜を除去し、次いで、電解メッキを行うことにより第二金属皮膜を形成して、配線パターンを形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film material of a multilayer resist film used in lithography, for forming a resist underlayer film capable of reducing reflectance, having high etching resistance, high heat resistance and solvent resistance, and free of the occurrence of twist particularly in the etching of a substrate; and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、反射率を低減でき、エッチング耐性が高く、高い耐熱性、耐溶媒性を有し、特に基板のエッチング中によれの発生がないレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of forming a pad oxide film on a semiconductor substrate, forming a silicon nitride film on the pad oxide film, and providing a resist pattern containing at least one droplet capturing area in plan view, in an area that serves as a scribe line on the silicon nitride film.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、半導体基板上にパッド酸化膜を形成する工程と、パッド酸化膜上にシリコン窒化膜を形成する工程と、シリコン窒化膜上のスクライブラインとなる領域に平面から見て少なくとも１つの水滴捕獲領域を含むレジストパターンを設ける工程とを有している。 - 特許庁

To provide a toothbrush implanted with needle-like bristles manufacturable in a simple process reducing a fraction defective, and a toothbrush manufacturing method using defective bristles failing in adjusting the length for manufacturing the toothbrush, more firmly fixing the bristles for the toothbrush to the toothbrush, and freely adjusting an implanting bristle pattern and the quantity of bristles.例文帳に追加

製造工程が簡単で不良率が減少された針状毛が植毛された歯ブラシと、長さ調節に失敗した不良毛を歯ブラシの製造に利用でき、歯ブラシ用毛を歯ブラシに一層堅固に固定でき、植毛される毛のパターンと毛の数量を自由に調節できる歯ブラシの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an organic electronics device which excels in reproducibility of high-definition pattern printing where low-viscosity ink is used for printing and also can form especially an organic electronics layer in even thickness up to the very end thereof thanks to high film thickness uniformity of an organic electronics layer, and an organic electronics device manufactured thereby.例文帳に追加

低粘度のインクを用いた印刷において、高精細なパターン印刷の再現性に優れ、かつ、有機エレクトロニクス層の膜厚均一性が高く、特に有機エレクトロニクス層をその端部まで均一な厚さで成膜できる有機エレクトロニクスデバイスの製造方法、及び有機エレクトロニクスデバイスを提供すること。 - 特許庁

In the method for forming the pattern, a photoresist layer 12 that allows heat-mode deformation is irradiated with condensed light to form a plurality of concave portions 15, wherein the photoresist layer is irradiated with light to form the concave portion 15 while air which is an inactive gas to the photoresist layer 12 is blown and moved on the photoresist layer 12.例文帳に追加

ヒートモードの形状変化が可能なフォトレジスト層１２に、集光した光を照射することで複数の凹部１５を形成するパターン形成方法であって、フォトレジスト層１２に対して不活性な気体である空気を吹き付けて、フォトレジスト層１２上で移動させながら光を照射して凹部１５を形成する。 - 特許庁

The target substance detecting element is used for detecting a target substance in a specimen using a plasmon resonance method and has a substrate, the metal thin film formed on the substrate, the dielectric layer formed on the metal thin film and the metal pattern layer formed on the dielectric layer.例文帳に追加

検体中の標的物質をプラズモン共鳴法を利用して検出するために用いられる素子であって、基板と、該基板上に形成された金属薄膜と、該金属薄膜上に形成された誘電体層と、該誘電体層上に形成された金属パターン層とを有する標的物質検出素子。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed board which can manufacture a circuit pattern with higher accuracy than that of a resist to be printed and formed by silk printing, or can use a high viscosity resist as the resist is printed on copper surface of the printed board by a gravure printing roll to be then etched or plated.例文帳に追加

グラビア印刷用ロールによりプリント基板の銅表面へレジストを印刷してその後、エッチングするか又はメッキするものであるので、シルク印刷によりレジストのパターンを印刷形成するよりも高精細な回路パターンを製作することができ、又、高粘度レジストを用いることができるプリント基板の製造方法。 - 特許庁

In the method for the electron beam exposure, exposure is repeated on the periphery of an adjoining pattern drawn by using a partial collective exposure mask by using an electron beam exposure mask having proximity effect correction openings arranged such that the size of the openings varies periodically at a predetermined ratio in the order of arrangement.例文帳に追加

開口部の大きさが配列順に所定の割合で周期的に変化するように配列された近接効果補正用の開口部を有する電子ビーム露光用マスクを用いて、部分一括露光用マスクを用いて描画した隣接するパターンの周辺部に重ねて露光することを特徴とする電子ビーム露光方法による。 - 特許庁

This method comprises steps of: depositing a copper-containing metallic thin film on a base material; selectively exposing the metallic thin film; and applying etching to the exposed part or the unexposed part by the use of the etching agent to which the additive for prevention of secular change is added to form the desired pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上に銅を含む金属薄膜を形成する工程と、その金属薄膜を選択的に露光する工程と、露光された部位又は露光されない部位を経時変化防止用添加剤が添加されたエッチング剤でエッチングして所望のパターンを形成する工程とからなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a substrate for wiring circuit formation capable of improving the adhesiveness between an insulating layer and a conductive pattern and preventing delamination in metal thin layer, and to provide a wiring circuit substrate for which the substrate is employed and a method of forming a metal thin layer for forming the metal thin layer.例文帳に追加

絶縁層と導体パターンとの間の密着性の向上を図ることができ、しかも、金属薄層における層間剥離を防止することのできる、配線回路形成用基板、それが用いられる配線回路基板、その金属薄層を形成するための金属薄層の形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a copolymer for semiconductor lithography, controlling a composition of a repeating unit containing a hydroxyl group in a low molecular weight region to improve shift pattern shape in a semiconductor lithography process which is a factor largely affecting a processing precision, an integration degree and yield.例文帳に追加

加工精度に大きく影響し、集積度やさらには歩留まりを左右する大きなファクターである、半導体リソグラフィー工程におけるレジストパターン形状を改善するために低分子領域における水酸基含有繰り返し単位の組成を制御した半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法を提供する。 - 特許庁

This vibration suppression method for a working arm drives a base with a speed pattern in which the speed is continuously changed using a sin function when driving the base of the working arm to move a distal end and when suppressing the vibration during the movement of and after the stop of the distal end.例文帳に追加

作業腕の基部を駆動して先端部を移動させるとともに、その先端部の移動中および停止後の振動を抑制するに際し、前記基部の駆動を、ｓｉｎ関数を用いて速度を連続的に変化させる速度パターンで行うことを特徴とする作業腕の振動抑制方法である。 - 特許庁

To provide a method for continuously and effectively producing textile printed article of polylactic acid by textile printing a molded article of the polylactic acid into an arbitrary pattern and hue with excellent color reproducibility while substantially keeping a proper softness and toughness which are inherent in the polylactic acid, even after textile printing.例文帳に追加

ポリ乳酸成形体に対し、優れた発色再現性をもって任意の柄、色相に捺染することができるとともに、ポリ乳酸が本来有する適切な柔軟性と強靭性を、捺染後においても実質的に保持したポリ乳酸捺染物を連続的かつ効率良く製造し得る方法を提供すること。 - 特許庁

This method for producing the oxidized compound comprises a process of oxidizing an organic compound by reacting the organic compound with an oxidizing agent in the presence of a titanosilicate (I) obtained by making contact of a titanosilicate (II) having the following X-ray diffraction pattern with a structure-regulating agent, or its silylated compound.例文帳に追加

下記Ｘ線回折パターンを有するチタノシリケート（ＩＩ）と構造規定剤とを接触させることにより得られるチタノシリケート（Ｉ）又はそのシリル化物の存在下に、有機化合物と酸化剤とを反応させることにより、前記有機化合物を酸化させる工程を含む酸化化合物の製造方法の提供。 - 特許庁

To recognize the urgency of speech communication before receiving a telephone call from a caller by an incoming operation pattern corresponding to particular character information regarding a communication terminal device and incoming operation control method for receiving the particular character information from a transmitting side and controlling an incoming operation in accordance with the particular character information.例文帳に追加

発信側からの特定の文字情報を受信し、特定の文字情報に応じて着信動作を制御する通信端末装置と着信動作制御方法に関し、特定の文字情報に対応する着信動作パターンにより、発信者からの電話を受ける前に通話の緊急度を認識することを目的とする。 - 特許庁

The method includes: (a) making a molding material 10 get in line contact with an open molding mold 16 and stamping a microfluid treatment structure pattern on the molding material 10 to mold a molding; and (b) separating the molding from the molding surface.例文帳に追加

（ａ）成形可能材料（１０）と成形面を有する開放成形型（１６）とを互いに線接触させて、ミクロ流体処理構造パターンを成形可能材料（１０）上に捺印することにより、成形品を形成することと、（ｂ）成形品を成形面から分離することとを含む成形品を作製する方法。 - 特許庁

To provide a plate for gravure printing, which surely holds printing paste, suppresses the random occurrence of stringiness and enables a graphic pattern excellent in the uniformity of smoothness and thickness to be formed by the gravure printing, and also to provide a manufacturing method for a laminated ceramic electronic component using the plate for the gravure printing, and a gravure printer.例文帳に追加

印刷ペーストを確実に保持するとともに、糸引きがランダムに発生することを抑制することが可能で、グラビア印刷により、平滑性や厚みの均一性に優れた図形パターンを形成することが可能なグラビア印刷用版、それを用いた積層セラミック電子部品の製造方法およびグラビア印刷装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate for a transfer mask, capable of stably manufacturing the mask which does not have faults, without having to break the transfer pattern of an upper single-crystal silicon wafer in a step of manufacturing the mask by using the substrate for the mask, its transfer mask, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

転写マスク用基板を用いて転写マスクを製造する工程において、上部単結晶シリコンウェハの転写パターンが破壊されず、欠陥のない転写マスクを安定して製造することを可能とする転写マスク用基板、及びその転写マスク並びにその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a high frequency induction heating method for crankshaft and its apparatus with which the outer peripheral surface of a pin part or a journal part in the crankshaft can uniformly be heated over the entire periphery in a short period of time and therefor, a good (uniform) hardened layer pattern can be obtained by eliminating the inequality of the hardened layer depth.例文帳に追加

クランクシャフトのピン部又はジャーナル部の外周面をその全周にわたり短時間で均一加熱することができ、従って焼入硬化層深さの不均一を解消し得て良好な（均一な）焼入硬化層パターンを得ることのできるクランクシャフトの高周波誘導加熱方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide an acid-degradable resin imparting good properties to a resist composition and having an alicyclic group, and a method for producing the acid-degradable resin; and to provide the positive-type resist composition having excellent properties of having a wide process window and a small dependency on the pattern density by using the acid-degradable resin.例文帳に追加

レジスト組成物に良好な性能をもたらす脂環基を有する酸分解性樹脂及びその製造方法を提供することであり、また、当該酸分解性樹脂を用いることによりプロセスウインドウが広く、疎密依存性が小さい優れた性能を有するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an inorganic board, capable of producing the inorganic board containing mineral fibers, an inorganic powdery material and a binder as indispensable components and having an embossed uneven pattern having a good close adhesion with a decorative layer in a good productivity, and a highly designed inorganic decorative board by using the inorganic board as a substrate.例文帳に追加

鉱物質繊維と無機質粉状体と結合剤とを必須成分として含む、化粧層との密着性が良いエンボス凹凸模様を有する無機質板を、生産性良く製造することができる無機質板の製造方法と、この無機質板を基板とする高意匠の無機質化粧板を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming method and apparatus, and a storage medium that can set an optional copy inhibit area on an image, generate image information with a prescribed pattern added thereto on the copy inhibit area to be set, display an image including the copy inhibit area and easily confirm the area.例文帳に追加

画像上に任意の複写禁止領域を設定し、その設定された複写禁止領域に所定のパターンを付与した画像情報を作成でき、またその複写禁止領域を含む画像を表示して、容易にその領域を確認できる画像形成方法及び装置と記憶媒体を提供する。 - 特許庁

As regards images acquired by irradiating the electron beam onto a pattern on a substrate formed through the multiple exposure method, the electron beam measuring technique has a means to classify the above respective patterns into two or more groups in accordance to the exposure history based on a difference in luminance or in shape of a white band of the respective patterns within these images.例文帳に追加

多重露光法により形成された基板上のパターンに前記電子ビームを照射して取得した画像について、該複数の画像内のそれぞれのパターンの明るさまたはホワイトバンドの形状の差から、前記それぞれのパターンを露光履歴に応じた複数のグループに分類する手段を有することを特徴とする。 - 特許庁

An electromagnetic wave shielding material manufacturing method comprises the first step of collecting a laser beam onto a conductive sheet constituted by forming a conductive layer comprising a conductive substance on a first base, removing the conductive layer, and forming a conductive pattern; and the second step of filling a portion between the conductive patterns with resin.例文帳に追加

第１の基材上に導電性物質を含んでなる導電性層を形成してなる導電性シートに、レーザを集光させて前記導電性層を除去し、導電性パターンを形成する第１の工程と、前記導電性パターン間に、樹脂を充填する第２の工程とを含む電磁波遮蔽材の製造方法。 - 特許庁

To provide a molding method which reduces the molded object weight difference between the end part and central part of a mold in multi-impression molding of a sheet to suppress the weight/strength fluctuations between molded objects, and is capable of obtaining the molded object reduced in the strain of a printing pattern caused by molding, and a mold therefor.例文帳に追加

複数個取りのシート成形で、金型端部と中央部の成形体重量差を少なくし、成形体間の重量・強度変動を抑えると共に、印刷樹脂フィルムを積層したシートの成形においては、成形による印刷図柄の歪みが少ない成形体をうる成形方法及び金型を提供する。 - 特許庁

To provide an effective method for obtaining a conduit pattern binary image for forming an emboss plate capable of performing a delicate correction work of making the plate close to an irregular form owned by natural wood grain from a gradation image taken by a digital camera in which a conduit part is emphasized but the resolution is low.例文帳に追加

デジタルカメラにより撮影したような、導管部が強調されてはいるが低解像度の階調画像から、天然の木目が有する凹凸形状に近づけるような精細な修正作業も可能な、エンボス版を形成するための導管図形２値画像を得る有効な方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of determining a type of an optical disk further rapidly determining the type of the loaded disk by varying the type determination sequence of the optical disk by taking the user's pattern of using the optical disk, a frequency and a point of time of using the optical disks by the types into consideration.例文帳に追加

ユーザーの光ディスク使用パターン、類型別の光ディスクの使用頻度及び使用時点を考慮して、光ディスクの類型判別順序を可変させることによって、ローディングされた光ディスクの類型をさらに迅速に判別できる光ディスクの類型判別方法及びそのデータ記録及び／または再生装置を提供する。 - 特許庁

This electroconductive ink composition comprises a metal powder treated with a surfactant, a resin and a volatile solvent, and is used in a printing method where an ink coating film image formed on the surface of a silicone blanket is transferred onto a substrate to be printed, and the resultant accurate pattern is printed on the substrate to be printed.例文帳に追加

シリコーンブランケット表面に画像形成されたインキ塗膜を被印刷基材上に転写して精密パターンを被印刷基材上に印刷する印刷法に用いられるインキ組成物であって、界面活性剤で処理された金属粉末、樹脂及び揮発性溶剤を含有する導電性インキ組成物を用いる。 - 特許庁

The method further includes, after adjusting at least one of the loss compensation and the offset compensation, adjusting at least one of the loss compensation and the offset compensation applied to the signal as well based on one or more of the sampled data values and boundary values associated with the pattern in the second set of data patterns.例文帳に追加

損失補償及びオフセット補償の少なくとも１つを調整した後に、第２群のデータパターンについても同様に、データパターンに関するサンプリングされたデータ値及び境界値の１つ以上に基づいて、信号に適用された損失補償及びオフセット補償の少なくとも一方を調整する。 - 特許庁

In the method for producing a fine pattern, the photosensitive resin composition is shaped into a film by casting and drying on a substrate, and this film is exposed through a photomask, developed with alcohol, glycol or monoalkyl ether of glycol, and subjected to dehydration ring closure by heating or with a cyclodehydrating reagent to form a polyimide film having a repeating unit represented by formula (2).例文帳に追加

前記の感光性樹脂組成物を基板上に流延・乾燥して製膜し、フォトマスクを介してこれを露光し、アルコール、グリコールまたはグリコールのモノアルキルエーテルで現像後、加熱あるいは脱水環化試薬を用いて脱水閉環して、式（２）で表される繰り返し単位を有するポリイミド膜とする微細パターンの製造方法。 - 特許庁

In the patterning method, the pattern of a photomask is transferred to an underlying material by exposure processing thus forming a first guide where the surface energy of the underlying material is changed, and a second guide where the surface energy of the underlying material is changed is formed between the first guides by diffraction of exposure light resulting from exposure processing.例文帳に追加

実施の形態のパターン形成方法は、露光処理により、フォトマスクのパターンを下地材に転写して下地材の表面エネルギーを変化させた第１のガイドを形成すると共に、露光処理により生じる露光光の回折により、第１のガイド間に下地材の表面エネルギーを変化させた第２のガイドを形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate having high sensitivity and little decrease in sensitivity (sensitivity change) by a hold time, and to provide a method for forming a resist pattern including steps of forming a photosensitive resin layer on a substrate using the above photosensitive resin laminate, exposing and developing.例文帳に追加

本発明は高感度でホールドタイムによる感度低下（感度変化）の少ない感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、この感光性樹脂積層体を用いて、基板上に感光性樹脂層を形成し、露光し、現像する工程を含むレジストパタ-ンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a device and a method for preventing an erroneous detection from being generated by an impurity, dust or the like existing on lead wires or therebetween inside a pattern of a substrate of one portion of main assembling components used in manufacture for various kinds of semiconductor integrated circuits and preventing an erroneous detection in an optical inspection.例文帳に追加

種々の半導体集積回路の製造で用いられる主要な組立部品の一部分である基板のパターン内でリード線上又はこれらの間に存在する不純物やほこり等から生じた誤った検出を防止する、光学検査で誤った検出を防止する装置及び方法を提供する。 - 特許庁

The tissue structure has the structural characteristic in which the crystal structure substantially exclusive of a graphite structure does not substantially exist, the diffraction lines belonging to the metal Si and Si compound by the pattern analysis using an X-ray diffraction method are not detected and the granular structure is not identifiable by the observation of a transmission type electronmicroscope(TEM).例文帳に追加

その組織構造は、実質的に黒鉛構造以外の結晶構造が存在せず、Ｘ線回折法によるパターン解析により金属Ｓｉ及びＳｉ化合物に帰属する回折線が検出されず、透過型電子顕微鏡(TEM) の観察によって粒状組織が識別できない組織性状を備えている。 - 特許庁

To provide a polymer which has excellent transparency, excellent dry etching resistance and excellent solubility in organic solvents, to provide a chemical amplification type resist composition suitable for far infrared light excimer laser lithography, electron beam lithography and the like, and to provide a method for forming a pattern with the chemical amplification type resist composition.例文帳に追加

優れた透明性と高いドライエッチング耐性とを有し、有機溶媒に対する溶解性にも優れた重合体、遠紫外光エキシマレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適な化学増幅型レジスト組成物、および、この化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A photosensitive composition containing a compound for generating an acid by irradiation with a beam of active light or a radiation, a specific basic compound having a polar group, a specific basic compound having no polar groups, and a specific surfactant, and a pattern forming method using the same are provided.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、極性基を有する特定の塩基性化合物、極性基を有さない特定の塩基性化合物、及び、特定の界面活性剤を含有することを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

Related to the manufacturing method for a bipolar transistor, the external base region is formed into a heavily-doped region and a lightly-doped region at a ratio between them, by only changing the layout pattern of the heavily-doped external base region 8, so that the number of manufacturing processes will not increase, resulting in easier manufacture and shorter construction period.例文帳に追加

また、バイポーラトランジスタの製造方法は、高濃度外部ベース領域８のレイアウトパターンを変更することだけで、外部ベース領域が任意の比率で高濃度の領域と低濃度の領域とに形成されることにより、製造工程の数が増えないので、製造が容易で工期が短くなる。 - 特許庁

Further, the exposure method includes acquiring second OPE error corresponding to the first and second transcriptional pattern portions transcribed with the exposure apparatus to which the first and second correction amounts are imparted, and performing exposure processing with the exposure apparatus by the exposure apparatus to which the first correction amount and the second correction amount are imparted, when the second OPE error is included in a predetermined range.例文帳に追加

第１補正量及び第２補正量が与えられた前記露光装置による第１及び第２の転写パターン部分に対応する第２のＯＰＥ誤差を取得し、第２のＯＰＥ誤差が所定範囲に含まれている場合に、第１補正量及び第２補正量を与えた露光装置により露光処理を行う。 - 特許庁

After a metal wiring pattern 101 is formed on a semiconductor substrate 100, a first tight-contact layer 102 of a siloxane-contained organic fluoride film is deposited over the entire surface of the semiconductor substrate 100 by a plasma CVD method, which uses a first material gas comprising a mixed gas of C4F8/CH4/vinyl trimethoxysilane.例文帳に追加

半導体基板１００の上に金属配線パターン１０１を形成した後、Ｃ_4Ｆ_8／ＣＨ_4 ／ビニルトリメトキシシランの混合ガスからなる第１の原料ガスを用いるプラズマＣＶＤ法により、半導体基板１００の上に全面に亘ってシロキサン含有フッ素化有機膜からなる第１の密着層１０２を堆積する。 - 特許庁

To provide a resin capable of constituting a photosensitive resin composition which can easily adjust an alkali dissolution rate to enable good developing properties by an alkali aqueous solution and also can cope with the formation of a fine pattern, and particularly is suitable for photolithography, a photosensitive resin composition containing the resin, and a method for producing the resin.例文帳に追加

アルカリ水溶液による現像特性が良好となるアルカリ溶解速度を容易に調整でき、微細なパターン形成にも対応可能で、特にフォトリソグラフィーに好適な感光性樹脂組成物を構成し得る樹脂と、該樹脂を含有する感光性樹脂組成物、および該樹脂の製造方法を提供する。 - 特許庁

A method for evaluating the TEG chip 31 comprises the steps of providing chip-inserting parts 42 to a characteristics evaluation socket 41 and concave-shaped electrodes 44, arranged corresponding to bump electrodes 33 of a specific TEG pattern on the TEG chip 31, and inserting and pulling the TEG chip 31 to and from the socket 41.例文帳に追加

特性評価用ソケット４１にチップ嵌め込み部４２を設けるとともに、ＴＥＧチップ３１上の特定のＴＥＧパターンのバンプ電極３３に対応して配置された凹状電極４４を設け、特性評価用ソケット４１にＴＥＧチップ３１を抜き差しすることにより、ＴＥＧチップ３１の評価を行う。 - 特許庁

To provide a toothbrush implanted with needle-shaped bristles, which has a simple manufacturing process and decreases percent defective, and a manufacturing method of the toothbrush, which utilizes defective bristles failed in adjustment of length for manufacturing a toothbrush, further firmly fixes ng toothbrush bristles to the toothbrush, and freely controls a pattern of implanted bristles and the amount of bristles.例文帳に追加

製造工程が簡単で不良率が減少された針状毛が植毛された歯ブラシと、長さ調節に失敗した不良毛を歯ブラシの製造に利用でき、歯ブラシ用毛を歯ブラシに一層堅固に固定でき、植毛される毛のパターンと毛の数量を自由に調節できる歯ブラシの製造方法を提供する。 - 特許庁