「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(442ページ目) - Weblio英語例文検索

In a clock regenerator and a clock regeneration method, a clock synchronized with an input signal is generated, and a head bit of synchronous data in a specified pattern added to the head of each packet contained in an input signal is detected, and when the head bits of the synchronous data are detected, the phase of the clock is reset to the initial phase.例文帳に追加

クロック再生装置及びクロック再生方法において、入力信号に同期したクロックを生成し、入力信号に含まれる各パケットの先頭に付加された所定パターンの同期データの先頭ビットを検出し、同期データの先頭ビットを検出したときに、クロックの位相を初期位相にリセットするようにした。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for semiconductor laser that can correct a horizontal deviation angle of a far field pattern (FFP) of semiconductor laser's emission light and realize a desirable emission light property when the horizontal deviation angle arises in the FFP of the semiconductor laser's emission light by making up semiconductor laser, e.g., with an off substrate in semiconductor laser manufacture.例文帳に追加

半導体レーザの製造において、例えばオフ基板によって半導体レーザを構成したことにより半導体レーザの出射光のファーフィールドパターン（ＦＦＰ）に水平ズレ角が発生する場合に、このＦＦＰの水平ズレ角を修正し、所望の出射光特性を実現する半導体レーザの製造方法を提供する。 - 特許庁

This micro-bead automatic identifying method comprises a step of acquiring an image of a circular surface of the cylindrical micro-bead having the identification pattern and a plurality of reference points formed on the circular surface, and a step of acquiring information about both sides and/or tilting of the micro-bead based on the positions of the reference points in the acquired image.例文帳に追加

識別パターンと複数の基準点を円形面に形成した円柱形のマイクロビーズの円形面の画像を取得するステップと、取得された画像において、基準点の位置に基づき、マイクロビーズの裏表及び／又は傾きに関する情報を取得するステップと、を含むマイクロビーズ自動識別方法を提供する。 - 特許庁

In a method for manufacturing an aligner, a reticle R1 held by a reticle stage system RST is illuminated via illumination systems IL1, IL2 with exposed lights from an exposure light source 16, and images of a pattern of the reticle R1 are projected on a wafer W1 held by a wafer stage system WST via a projection optical system PL.例文帳に追加

露光光源１６からの露光光で、照明系ＩＬ１，ＩＬ２を介してレチクルステージ系ＲＳＴに保持されているレチクルＲ１を照明し、レチクルＲ１のパターンの像を投影光学系ＰＬを介してウエハステージ系ＷＳＴに保持されているウエハＷ１上に投影する露光装置の製造方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing has the part body forming process in which the molded articles are each irradiated with the laser beam to cut it into a required shape and to form a plurality of the part bodies, and the fitting and arranging process in which a plurality of the part bodies are each fitted and arranged so as to turn them into a specified pattern in a receiving tray.例文帳に追加

本発明の製造方法は、前記成型品それぞれに、レーザー光を照射して所望形状に切断し、複数の部分体を形成する部分体形成工程と、受皿内において、前記複数の部分体を所定の模様となるようにそれぞれ嵌合配置する嵌合配置工程とを有している。 - 特許庁

Performance selecting condition inference processing B106 infers the next selection candidate performance method in accordance with game panel information (command receiving frequency, change pattern appearance probability, etc.), stored in a game information database B104 and performance selection result information, and it additionally stores the result in a selecting condition database B107.例文帳に追加

演出選択条件推論処理（Ｂ１０６）は、遊技情報データベース（Ｂ１０４）に格納された遊技台情報（コマンド受信回数、変動パターン出現確率等）等と演出選択結果情報に基づいて、次回の選択候補演出方法を推論し、その結果を選択条件データベース（Ｂ１０７）に追加格納する。 - 特許庁

The method of manufacturing the liquid crystal display includes supplying the liquid crystal by at least one dispenser, controlling a dropping amount of the liquid crystal by matching it with a pattern width of a sealant formed on any one roll film base material and being continuously bonded by a roll laminator comprising rollers on one side or both the sides.例文帳に追加

液晶の供給を少なくとも１台のディスペンサより行い、液晶の滴下量を何れかのロールフィルム基材上に形成されたシール材のパタン幅に合わせて制御し、片側ないし両側にローラーを具備したロールラミネーターにより連続して貼合する事を特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 特許庁

This method for forming the fine structural pattern has an arranging process for arranging a large number of plastic particles on a predetermined substrate, a plating process for precipitating a predetermined metal element on the substrate and the gaps between the plastic particles and a process for dissolving the plastic particles in an organic solvent.例文帳に追加

本方法は、所定の基板上に、多数のプラスチック粒子を配列させる配列工程と、前記基板上及び前記プラスチック粒子どうしの隙間に、所定の金属元素を析出させるめっき工程と、前記プラスチック粒子を有機溶剤に溶解させる工程を有する微細パターンの形成方法である。 - 特許庁

To provide a photo-curable paint for a film and a method for forming a decorative coating using the same, wherein defective curing of a coating is not caused and a coating can be formed in a short time and a decorative effect can be realized by generating a rough pattern in the coating itself upon curing the coating.例文帳に追加

塗膜の硬化不良等の問題を生じず、短時間で塗膜を形成することができるとともに、塗膜を硬化させる際に塗膜自体に凹凸を発生させて装飾効果を発揮させることのできる光硬化性塗料、及び該塗料を使用した装飾性塗膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

The method comprises the steps of forming a plating resist to a metal plate as a lead for electrolytic plating, and then irradiating laser or partially etching to the metal plate of the part to be finally becoming a terminal for connecting the chip, forming a wiring pattern by the electrolytic plating, forming an insulating film on it, and removing the metal plate by etching at the end.例文帳に追加

電解メッキ用リードとしての金属板にメッキレジストを形成後、最終的にチップ接続用端子となる部分の金属板に、レーザー照射もしくは、部分エッチングを行い、電解メッキにより配線パターンを形成し、その上に絶縁膜を形成し、最後に金属板をエッチングにより除去する。 - 特許庁

This method has a process step (S1) of condensing exposure light 112 to a master disk 108 coated with a photosensitive material 111 and subjecting the master disk to scanning exposure while modulating the light quantity thereof and a process step (S2) of forming the three-dimensional pattern shapes of the depth meeting exposure energy by developing the exposed master disk 108.例文帳に追加

感光性材料１１１が塗布された原盤１０８に露光光１１２を集光してその光量を変調しながらスキャニング露光する工程（Ｓ１）と、その露光された原盤１０８を現像することで露光量に応じた深さの３次元パターン形状を形成する工程（Ｓ２）と、を備える。 - 特許庁

To provide manufacturing methods for a glass substrate for an electronic device and a mask blank with which no fine uneven surface defect occurs on a substrate surface or a failure rate is low, and a manufacturing method for a transfer mask free from a phase defect or a pattern defect caused by the fine uneven surface defect on the substrate surface.例文帳に追加

基板表面に微小な凸状、凹状の表面欠陥が発生しないか又は発生率の低い電子デバイス用ガラス基板及びマスクブランクスの製造方法、並びに基板表面に微小な凸状、凹状の表面欠陥が起因する位相欠陥やパターン欠陥のない転写マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

This machining method for the encoder glass disk is so formed that the glass pane 1 sticking with an ultraviolet hardening tape 10 is mounted on an absorbing stand 12, the mechanical coordinates of the disk pattern 2 are determined by reading the alignment marks 11 on the glass pane 1 by a CCD camera 15, and the edge 17 of the coring grinding wheel cuts it to provide the glass disk.例文帳に追加

本発明によるエンコーダ用ガラスディスクの加工方法は、紫外線硬化テープ(10)を貼着したガラス板(1)を吸着台(12)上に載置し、ガラス板(1)のアライメントマーク(11)をＣＣＤカメラ(15)で読み取ってディスクパターン(2)の機械座標を決定し、コアリング用砥石(16)の刃(17)が切断してガラスディスクを得る方法である。 - 特許庁

In a method of manufacturing a semiconductor device, a mask pattern having a first mask 6b covering from a first region 1a to a second region 1b, a space part 7b provided above the second region, and a second mask 6c covering from the second region 1b to a third region 1c, is provided on conductive films 5a and 5b.例文帳に追加

半導体装置の製造方法では、導電膜上５ａ，５ｂにおいて、第１の領域１ａから第２の領域１ｂまでを覆う第１のマスク６ｂ、第２の領域の上方にスペース部７ｂ、及び第２の領域１ｂから第３の領域１ｃまでを覆う第２のマスク６ｃを有するマスクパターンを設ける。 - 特許庁

To provide an exposure method without causing any resolution failure on a face of an exposure object in a direct exposure device that forms a desired exposure pattern on a face of an exposure object by irradiating the face of the exposure object with light rays through a plurality of spatial light modulation elements, and to provide a computer program therefor.例文帳に追加

複数の空間光変調素子によって描画対象物の面上に光を照射することで描画対象物の面上に所望の描画パターンを形成する直接描画装置において、描画対象物の面上に解像不良が生じない描画方法およびコンピュータプログラムを実現する。 - 特許庁

In this method for coating the building board, a natural groove pattern coating film with stereoscopic effect is formed by spraying a coating material adjusted to have 2,000-300,000 mPa s viscosity to the groove part of the building board using a fine spray nozzle having 0.3-3.0 mm diameter at 0.02-0.3 mPa atomizing air pressure.例文帳に追加

建築板の溝部に対して、口径０．３〜３．０ｍｍ、アトマイズエアー圧力０．０２〜０．３ｍＰａの微細噴霧ノズルで、粘度２,０００〜３０，０００ｍＰａ・ｓに調整した塗料を噴霧することにより、自然で立体感のある溝模様塗膜を形成させることを特徴とした建築板の塗装方法とする。 - 特許庁

To provide a polymer which has dry etching resistance, is high in sensitivity, resolution and light transmittance, when used for resist compositions for DUV excimer laser lithography or the like, has small line edge roughness of resist patterns and can resist to thin resist films, to provide a resist composition, and to provide a method for producing a substrate on which a resist pattern is formed.例文帳に追加

ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、レジストパターンのラインエッジラフネスが小さく、レジスト膜の薄膜化に耐えることができるドライエッチング耐性を有する重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

This pattern correction method alternately executes a process for applying a correction fluid 20 to the rib-missing defective part 35a, and a process for regularly baking the applied correction fluid 20 by local heating at a temperature in a range melting both the correction fluid 20 and a normal part of the rib 35 without breaking the shapes thereof.例文帳に追加

このパターン修正方法では、リブ欠け欠陥部３５ａに修正液２０を塗布する工程と、修正液２０とリブ３５の正常な部分との両方が溶け、かつそれらの形状が崩れない範囲の温度で、塗布された修正液２０を局所加熱により本焼成する工程とを交互に行なう。 - 特許庁

To provide an unexposed original disk for an optical recording medium wherein formation of a pit pattern and a groove is facilitated while the constitution of an exposure device, condition determination before exposure and exposure machine operation during exposure are simplified at a reduced cost, to provide its exposure method and to provide an undeveloped original disk for the optical recording medium obtained by the exposure.例文帳に追加

ピットパターン及びグルーブの形成を容易にするのみならず、露光装置の構成や露光実施前の条件決定、露光中の露光機操作をより簡潔にし、コストを抑制できる光記録媒体用未露光原盤とその露光方法、及び該露光により得られる光記録媒体用現像前原盤の提供。 - 特許庁

To provide a slow-cooling and slow-depressurizing device and method for a vacuum cooling apparatus, which enables both of slow-cooling control and slow-depressurizing control with a single device, permits easy setting of a cooling pattern in accordance with an object to be cooled, and ensures efficient operation in a short time without damaging the object to be cooled.例文帳に追加

一つの装置で徐冷制御も徐圧制御も可能であり、また被冷却物の種類に応じた冷却パターンが容易に設定でき、さらに被冷却物に損傷を与えることなく、短時間で効率良く、しかも確実性がある真空冷却装置の徐冷徐圧装置及び徐冷徐圧方法を得る。 - 特許庁

The method for producing the laminate includes the steps of: melt-coextruding the polyolefin resin with the thermoplastic resin other than the polyolefin resin to obtain a film-shaped material; inserting the film-shaped material between a pattern imparting roll and a touch roll so that the polyolefin resin-side surface may be brought into contact with the shaping roll to form a mat shape on the thermoplastic resin-side surface.例文帳に追加

また、本発明の製造方法は、ポリオレフィン系樹脂と該ポリオレフィン系樹脂以外の熱可塑性樹脂とを溶融共押出してフィルム状物を得、前記ポリオレフィン系樹脂の面が賦型ロールに接触するように賦型ロールとタッチロールの間に挿入し、前記熱可塑性樹脂の面に、マット形状を形成する。 - 特許庁

The method of manufacturing this printed wiring board is constituted of a process of bonding a metal foil having the metallic anchor 503 to the insulating board 51, a process of removing a part of the metal foil and forming an anchor-scattered section, where the metallic anchors 503 are left on the insulating substrate 51, and a process of forming a wiring pattern at the anchor scattered section.例文帳に追加

このプリント配線板を製造する方法は，絶縁基板に金属アンカーを有する金属箔を接着する工程と，金属箔の一部を除去して，絶縁基板の上に上記金属アンカーが残ったアンカー点在部を形成する工程と，アンカー点在部に配線パターンを形成する工程とから構成される。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes: a step of coating a semiconductor substrate, having a wiring pattern formed, with an oxide film; a step of covering the oxide film with the film to be etched made of a conductive material; and a step of patterning the film to be etched through plasma etching while giving selectivity to the oxide film by adding a compound containing no carbon and containing sulfur.例文帳に追加

配線パターンが形成された半導体基板上に酸化膜を被覆する工程と、酸化膜上に導電材料の被エッチング膜を被覆する工程と、炭素を含まず硫黄を含む化合物を添加して、被エッチング膜を酸化膜に対して選択性を持たせつつプラズマエッチングしてパターニングする工程とを含む。 - 特許庁

In this pattern correcting method, after correcting liquid 20 is laminated in an area including a defective portion 35a missing a rib and a normal rib top face 35b on its both sides, and forming a deposition layer 36 higher than the normal rib top face 35b, tape polishing is applied to a portion of the deposition layer 36 which is higher than the normal rib top face 35b.例文帳に追加

このパターン修正方法では、リブ欠け欠陥部３５ａとその両側の正常なリブトップ面３５ｂを含む範囲に修正液２０を積層し、正常なリブトップ面３５ｂよりも高い堆積層３６を形成した後、堆積層３６のうちの正常なリブトップ面３５ｂよりも高い部分をテープ研磨する。 - 特許庁

Since this method allows the mask pattern 46 of high precision to be formed on the imprint resin layer 42 by impression of the nano-stamper 43, the monolithic semiconductor lens 23 having a desired shape is formed more easily than conventional methods which use wet etching or form resist patterns by baking.例文帳に追加

この方法では、ナノスタンパ４３の押印によってインプリント樹脂層４２に精度の高いマスクパターン４６を形成できるので、従来のようにウエットエッチングを用いる場合や、ベーキングによってレジストパターンを形成する場合と比較して、所望の形状を有するモノリシック半導体レンズ２３を簡易に形成できる。 - 特許庁

The method for making synthetic fiber fabric with translucent print (dyeing) pattern comprises a printing process before etching process by sodium hydroxide or the like, wherein the printing process comprises printing of paste for dyeing on the surface of the fabric, and/or printing which contains a transparent developer.例文帳に追加

水酸化ナトリウム等によるエッチング工程の前にプリント工程を含み、そのプリント工程は織物の表面上に染色用のペーストをプリントすること、および／または透明なプリント用顕色剤を含んでプリントすることを包含する、半透明なプリント（染色）パターンをその上に有する合成繊維織物を製造する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can ensure a prescribed necessary thickness and a uniform thickness in any position on a semiconductor substrate regardless of a difference in uneveness of a planar pattern constitution forming a base step, and a semiconductor device using it.例文帳に追加

所定の必要十分な厚さを確保することができると共に、その厚さを下地段差を形成している凸部の平面的パターン構成の粗密の違いに因らず半導体基板上のどの位置でも均一なものとすることができる半導体装置の製造方法およびそれによって製造される半導体装置を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the flexible printed board is characterized by maintaining an oxygen concentration in an etching processing atmosphere at 2 vol.% or below in a process of forming a copper wiring pattern by performing etching processing on a copper coating layer formed at least on one surface of an insulator film without interposing an adhesive.例文帳に追加

フレキシブルプリント基板の製造方法であって、絶縁体フィルムの少なくとも片面に接着剤を介さずに形成された銅被覆層をエッチング処理して銅配線パターンを形成する工程における前記エッチング処理雰囲気の酸素濃度が、２体積％以下に維持されることを特徴とする。 - 特許庁

A novel and useful method, system and framework is provided for extending the event processing pattern language to include constructs and patterns in the language in order to support historical patterns and associated retrospective event processing that enable a user to define patterns that consist of both online streaming patterns and historical (retrospective) patterns.例文帳に追加

ユーザがオンライン・ストリーミング・パターンと履歴（遡及）パターンとの両方からなるパターンを定めることができるようにする履歴パターン及び関連する遡及イベント処理をサポートするために、言語内に構造及びパターンを含むようにイベント処理パターン言語を拡張するための新規で有用な方法、システム、及びフレームワークである。 - 特許庁

In the charged particle beam scanning method scanning charged particle beams in the prescribed scanning pattern and the charged particle beam device, in accordance with a replacement of a frame, a scanning starting point in the vertical direction of a scanning line is changed by the prescribed amount in the prescribed direction.例文帳に追加

上記目的を達成するための一態様として、所定の走査パターンにて荷電粒子ビームを走査する荷電粒子ビーム走査方法、及び装置において、フレーム更新に従って、走査線の垂直方向における走査始点を、所定の方向に、所定量ずつ変化させる方法、及び装置を提案する。 - 特許庁

A template surface treatment method includes hydroxylating the surface of a template having an uneven pattern or absorbing water on the surface to distribute OH radicals on the surface, and coupling a coupling agent on the template surface on which the OH radicals are distributed.例文帳に追加

本実施形態によれば、テンプレートの表面処理方法は、凹凸を有するパターン面を備えたテンプレートの表面を水酸化するか又は前記表面に水を吸着させて、前記表面にＯＨ基を分布させる工程と、前記ＯＨ基が分布したテンプレート表面にカップリング剤を結合させる工程と、を備える。 - 特許庁

In the imprint method for imprinting a pattern formed on a mold onto a resin, a wavelength of light incident on an imaging device is controlled in accordance with a gap between the mold and the substrate when an alignment mark provided on the mold is imaged by the imaging device.例文帳に追加

本発明の第１の側面は、モールドに形成されたパターンを基板上の樹脂にインプリントするインプリント方法であって、該モールドに設けられているアライメントマークを撮像素子で撮像する場合に、該モールドと該基板との間のギャップに応じて、該撮像素子に入射する光の波長を制御する、インプリント方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing a photomask blank having a thin film for forming at least a pattern on a transparent substrate is characterized in that the thin film is formed by sputtering a target facing the position to which the center axis of the substrate shifts while the substrate is rotated.例文帳に追加

透明基板上に少なくともパターンを形成するための薄膜を有するフォトマスクブランクの製造方法において、前記薄膜を、前記基板を回転させながら、前記基板の中心軸からその中心軸がずれた位置に対向するターゲットをスパッタリングすることによって成膜することを特徴とするフォトマスクブランクの製造方法。 - 特許庁

To provide a wiring circuit board in which the electrostatic breakdown of an electronic component to be mounted can be prevented surely by ensuring a plurality of grounding portions of a semiconductive layer and a metal supporting substrate and removing the static electricity of a conductor pattern surely, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

半導電性層と金属支持基板との接地部分を確実に複数箇所確保することができ、確実に導体パターンの静電気を除去して、配線回路基板に実装される電子部品の静電破壊を防止することのできる、配線回路基板およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method for identifying the race of a plant, belonging to the genus Sasa, comprises amplifying a specific region of the chloroplast DNA of a specimen by using DNA polymerase and a primer set, and polymorphically analyzing the amplified fragment and detecting the characteristic DNA pattern.例文帳に追加

ササ属植物の系統を同定する方法において、被検体物の葉緑体ＤＮＡの特定領域をＤＮＡポリメラーゼ及びプライマーセットを用いて増幅させ、増幅断片の多型解析を行い、特徴的なＤＮＡパターンを検出することを特徴とするササ属植物の系統の同定方法である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a resin circuit board in which catalyst metal in a surface layer of a base made of a polymer resin is suitably removed without damaging the base even when a metal circuit pattern having higher surface density than on a surface of the base is formed using the catalyst metal.例文帳に追加

触媒金属を用いて、高分子樹脂からなる基材の表面により表面密度の高い金属回路パターンを形成した場合であっても、基材にダメージを与えることなく、基材の表面層にある触媒金属を好適に除去することができる樹脂回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a casting master form capable of molding an uneven pattern even on a discontinuous surface or circular arc surface part, a method for manufacturing a sand mold using the same, and a resin molded object molded by a mold molded from the sand mold.例文帳に追加

本発明は、かかる事情に鑑み、不連続面部分や円弧面部分においても、凹凸模様を成形することができる鋳造用原型及びこれを用いた砂型の製造方法、並びに、この砂型から成形された成形用金型によって成形される樹脂成形体を提供することを課題とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device has a process that forms one arbitrary lump of dopant regions off the surface of a semiconductor inside a semiconductor substrate, and a process that performs ion implantation a plurality of times with the disposition of a mask pattern end for the ion implantation changed.例文帳に追加

上記の課題を解決するため、本発明は、半導体表面から離れた任意の一固まりの不純物領域を半導体基板内部に形成する工程であって、イオン注入用のマスクパターン端の配置の変更を伴った、複数回のイオン注入を行う工程を備える半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A diffusion preventing film pattern 12 is formed on a semiconductor substrate 10, an SOG film doped with impurities is formed on the semiconductor substrate 10, and impurity ions are additionally implanted into the SOG film by a plasma ion implantation method to increase the SOG film in impurity concentration.例文帳に追加

拡散防止膜パターン１２の形成された半導体基板１０上にｉｍｐｕｒｉｔｙが含まれたＳＯＧ膜を形成した後で、ｉｍｐｕｒｉｔｙが含まれたＳＯＧ膜に追加的にプラズマイオン注入法でｉｍｐｕｒｉｔｙイオンを注入してｉｍｐｕｒｉｔｙ濃度を高める。 - 特許庁

To provide a laser mask obtaining a thin film having uniform crystallization characteristics without any X- and Y-overlaps, by applying a slit having a fixed pattern to the mask and considering repeatability in such a slit for advancing laser crystallization, and to provide a crystallization method utilizing the laser mask.例文帳に追加

一定のパターンを有するスリットをマスクに適用し、このようなスリットの反復性を考慮してレーザー結晶化を進行させることによって、Ｘ−オーバーラップ及びＹ−オーバーラップのない均一な結晶化特性を有する薄膜が得られるレーザーマスク及びこれを利用した結晶化方法を提供する。 - 特許庁

The present invention allows a diagnosis of the resistance to leukemia by confirming a specific development pattern of the DOCK180 in a tumor cell of leukemia, in particular, acute leukemia and provides useful information for therapies by medical doctors through a simple method targeting the blood sample.例文帳に追加

本発明によれば、白血病、特に急性白血病の腫瘍細胞におけるＤＯＣＫ１８０の特異的な発現パターンを確認することで、白血病の抵抗性を診断することができ、医師による治療に対し有益な情報を、血液検体を対象にした簡便な方法により提供することができる。 - 特許庁

A pattern is formed by at least using a droplet delivering method for delivering and applying liquid material as droplets on a reel to reel substrate which is a tape-shaped substrate 11 and end parts of the tape-shaped substrate 11 are respectively wound on a first reel 101 and a second reel 102.例文帳に追加

テープ形状基板１１であって該テープ形状基板１１の両端部位がそれぞれ第１リール１０１と第２リール１０２に巻き取られてなるリールツーリール基板に、液状体を液滴として吐出して塗布する液滴吐出方式を少なくとも用いて、パターンを形成することを特徴とする。 - 特許庁

In the manufacturing method of the plane heating element in which an aluminum foil laminated on the insulating board is etched in a given pattern, carbon paste is printed, current input terminals are coupled in parallel, and the aluminum foil laminated on the insulating board is etched by tempering step by step.例文帳に追加

絶縁基板に積層されたアルミニウムホイルを所定のパターンでエッチングし、カーボンペーストをプリンティングした後、電流入力端子を並列に連結する面状発熱体の製造方法において、絶縁基板に積層されたアルミニウムホイルを段階的にテンパリングしてエッチングすることを特徴とする面状発熱体の製造方法。 - 特許庁

To provide a reflection transmission liquid crystal display device which permits manufacturing of the above device of high image quality to make the same color purity obtainable by making the optical efficiency in a reflection section and transmission section the same, has the simple pattern of buffer layers and can improve a process yield and its manufacturing method.例文帳に追加

反射部と透過部での光学的効率を同じにし同じ色純度を得ることができ、高画質の反射透過型液晶表示裝置を製作することができ、バッファ層の模様が単純で工程収率を改善することができる反射透過型液晶表示装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacture method of unidirectional diffusion plate, the unidirectional diffusion plate is manufactured by utilizing a speckle pattern formed when the surface relief type diffusion plate having groove depth of ≥2 μm and ≤20 μm on the surface is irradiated with the light of linear coherence.例文帳に追加

表面の溝の深さが２μｍ以上２０μｍ以下であるような、表面レリーフ型の拡散板で、直線状の可干渉性のある光を拡散板に照射して、そのときに生じるスペックルパターンを用いて作成することを特徴とする一方向性拡散板の作成方法および表面レリーフ型拡散板である。 - 特許庁