「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(438ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a push-button switch keytop capable of finely indicating conventional screen print, a large number of characters and symbols which are difficult in a printing method such as pad printing, and complicated and fine design, pattern, or the like at high resolution, reducing the number of processes, and inexpensively having an excellent design property and image quality; and its manufacturing method.例文帳に追加

従来のスクリーン印刷、パッド印刷等の印刷方式では困難であった多数の文字や記号、複雑で細かな絵柄や模様などを、解像度を高くきれいに表示させることができ、高度な印刷技術等を要求することなく、工程数が削減され、安価にデザイン性や画質に優れた押釦スイッチ用キートップ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a weak alkaline developable photosensitive resin composition which enables formation of a solder resist having sufficiently high heat resistance and thermal shock resistance and formation of a dry film showing sufficiently excellent storage stability, a photosensitive film for a permanent resist using the composition, a resist pattern forming method, a printed wiring board and a method for producing the same, a surface protective film, and an interlayer insulating film.例文帳に追加

充分に高い耐熱性及び耐熱衝撃性を備えたソルダーレジストを形成でき、かつ、充分に優れた貯蔵安定性を示すドライフィルムを形成できる、弱アルカリ現像可能な感光性樹脂組成物及びこれを用いた永久レジスト用感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、プリント配線板及びその製造方法、表面保護膜、層間絶縁膜を提供する。 - 特許庁

To provide a method of efficiently manufacturing a high quality printed matter by performing a single process to correct defects in barrier walls and an ink layer in regard to the method of manufacturing the printed matter which comprises a substrate, the pattern-like barrier walls disposed on the substrate and the ink layer disposed on an opening part divided by the barrier walls by using an ink delivery printer.例文帳に追加

本発明の課題とするところは、基板と、基板上にパターン状に設けられた隔壁と、この隔壁によって区切られた開口部に設けられたインキ層を含む印刷物を、インキ吐出印刷装置を用いて製造する方法において、隔壁とインキ層の欠陥の修正を一度の工程で行い、高品質な印刷物を効率よく製造する方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a mold which can form a magnetic field having an enough strength distribution in a sheet molding material layer and mold an anisotropically conductive sheet having conductive parts of a complex pattern with a small pitch and a desired insulating property between the conductive parts, a method for producing the mold, and a method for producing the anisotropically conductive sheet using the mold.例文帳に追加

シート成形材料層に対して十分な強度分布を有する磁場を形成することができ、ピッチが小さくて複雑なパターンの導電部を有し、かつ、導電部間において所要の絶縁性を有する異方導電性シートを成形することが可能な金型およびその製造方法、並びにこの金型を用いた異方導電性シートの製造方法。 - 特許庁

To provide a method of forming a crystalline thin film or a crystalline structure capable of forming a desired pattern, including a three-dimensional shape, of a crystalline thin film having excellent interface state by a simple formation process while lowering the heat treatment temperature required for crystallization, and to provide a structure having a crystalline thin film formed by the formation method.例文帳に追加

シンプルな製造工程により界面状態の良好な結晶性薄膜を立体形状を含む所望のパターンに形成可能であり、結晶化に要する熱処理温度を低減させることが可能な結晶性薄膜又は結晶性構造体の製造方法、及び当該製造方法により形成された結晶性薄膜を備えた構造体を提供する。 - 特許庁

To provide an exposing method, an aligner, and a device manufacturing method which can obtain good resolution in multiple exposure, especially, expand the focusing depth according to a pattern intended for the resolution and required depth, and reduce the influence of the astigmatism on the image to obtain a good resolution even in a process with a small factor k1.例文帳に追加

多重露光において良好な解像を得ることが可能となり、特に、焦点深度を、解像を目的とするパターンと必要深度に対応して拡大することができ、また、ｋ_1ファクターの小さいプロセスにおいても、収差の像性能への影響を軽減することが可能となり、良好な解像を得ることができる露光方法、露光装置、およびデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which can keep both high adhesion to and high peelability from the substrate even in using the substrate for circuit formation having less surface irregularity, and is excellent in plating resistance, etching resistance and resolution, and to provide a photosensitive element using the composition, a method for producing a resist pattern and a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加

表面の凹凸が少ない回路形成用基板を用いる場合であっても、該基板に対する密着性と剥離特性との双方を高水準で維持することができ、耐めっき性、耐エッチング性及び解像性に優れた感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a structure in a cell with high definition by decreasing variance in resolution or irregular density of the pattern formed on the exposure face of a photosensitive layer without using a photomask, to provide a structure in a cell with high definition manufactured by the above method for manufacturing a structure in a cell, and to provide a display device using the structure in a cell.例文帳に追加

フォトマスクを用いることなく、感光層の被露光面上に形成される前記パターンの解像度のばらつきや濃度のむらを軽減することにより、セル内構造を、高精細に形成可能な製造方法、及び該セル内構造の製造方法により製造される高精細なセル内構造、並びに該セル内構造を用いた表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for producing an embossed endless belt which can be produced simply and promptly at a low cost, can transfer a precise pattern surely, and has a good mold release property during the processing of an embossed sheet, the embossed endless belt produced by using the method, an embossed sheet producing apparatus having the embossed endless belt, and the embossed sheet produced by using the apparatus.例文帳に追加

簡便に、迅速に、かつ低コストで製造できるとともに、精密な模様を確実に転写でき、しかもエンボスシート加工時の離型性がよいエンボスエンドレスベルトの製造方法、この製造方法を用いて製造されたエンボスエンドレスベルト、このエンボスエンドレスベルトを備えたエンボスシート製造装置、およびこの装置を用いて製造されたエンボスシートを提供することにある。 - 特許庁

The method for forming an alignment layer to align liquid crystal molecules includes: a plasma polymerization film forming step of forming a plasma polymerization film 86a on a substrate by using a plasma chemical vapor phase method; and a UV ray irradiation step of irradiating the plasma polymerization film 86a with UV rays to form a rugged pattern and rendering the plasma polymerization film as an alignment layer.例文帳に追加

液晶分子を配向する配向膜の形成方法であって、プラズマ化学気相法を用いて基板上にプラズマ重合膜８６ａを形成するプラズマ重合膜形成工程と、紫外光を照射することによって上記プラズマ重合膜８６ａに凹凸を形成し、これによって上記プラズマ重合膜を上記配向膜とする紫外光照射工程とを有する。 - 特許庁

This positive type photosensitive composition containing a polymer compound having a structure expressed by a specific general formula at its terminal, a photoacid-forming agent for forming an acid by the irradiation of an active beam of light or a radiation, the polymer compound used for the positive type photosensitive composition, the method for producing the polymer composition and the method for forming the pattern by using the positive type photosensitive composition are provided.例文帳に追加

末端に特定の一般式で表される構造を有する高分子化合物及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する光酸発生剤を含有するポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に使用される高分子化合物、該高分子化合物の製造方法及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

This ink composition used in the method for producing a color filter by forming a color pattern on a transparent substrate plate by the inkjet method is characterized by using the ink composition for the color filter, containing a coloring pigment, a thermosetting resin, a solvent and a silicone-based surfactant for the formation of the colored ink layer of the color filter.例文帳に追加

透明基板上にインクジェット方式にて色パターンを形成するカラーフィルタの製造方法において用いられるインキ組成物であって、着色顔料、熱硬化性樹脂、溶剤、およびシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とするカラーフィルタ用インキ組成物をカラーフィルタの着色インク層形成に使用することで課題を解決することができる。 - 特許庁

The manufacturing method for the solar cell has a process in which the power generation layer 102 is formed on the first surface of the polycrystalline semiconductor substrate 101, a pattern by a growth preventive film 103 is formed on the surface of the layer 102, and a texture structure is formed by selectively growing a semiconductor layer 105 on the surface of the layer 102 in an epitaxial manner by a liquid-phase growth method.例文帳に追加

多結晶半導体基板１０１の第一の表面に発電層１０２を形成し、該発電層１０２表面上に成長阻止膜１０３によるパターンを形成し、該発電層１０２表面上に液相成長法にて半導体層１０５を選択的にエピタキシャル成長することによりテクスチャ構造を形成する工程を有する太陽電池の製造方法。 - 特許庁

The present invention provides a manufacturing method comprising: a film formation process which forms vapor phase synthesized diamond film 2 on a main surface of a silicon substrate 1 by a vapor phase deposition method; a routing process which forms a pattern on the vapor phase synthesized diamond film 2 using a laser; and a protrusion process which forms a protrusion on the routed vapor phase synthesized diamond film 2 by a reactive chemical dry etching.例文帳に追加

本発明は、シリコン基板１主面部に気相合成法によって気相合成ダイヤモンド膜２を成膜する成膜工程と、該気相合成ダイヤモンド膜２をレーザーによって外形を切り出す外形工程と、切り出した気相合成ダイヤモンド膜２に反応性化学ドライエッチングによって突起を形成する突起工程を経ることを特徴とするダイヤモンドプローブの製造方法である。 - 特許庁

This image processing method for executing image processing based on input image information acquired from an image inputting means to obtain output image information includes a process for identifying an object to be photographed existing in an image, and for dividing the image into a plurality of portions, and for obtaining an object pattern whose image processing is performed by a method determined from a relation between each of those divided images and the other images.例文帳に追加

画像入力手段から得られた入力画像情報に基づいて画像処理を行い、出力画像情報を得る画像処理方法において、画像内に存在する被写体を識別して画像を複数に区分し、該区分された画像毎に、他の画像との関係から決定された方法で画像処理可能な被写体パターンとする工程を経る画像処理方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device with which a dielectric film for forming a capacity element can be prevented from being left as an etching residue in the edge part of a wiring pattern for other non-capacitance elements and the yield of the semiconductor device be improved, in the method for a semiconductor device in which transistors such as bipolar transistors, MOS transistors, etc., and capacitance elements coexist for example.例文帳に追加

たとえば、バイポーラトランジスタ、ＭＯＳトランジスタ等の種々のトランジスタと容量素子が混在する半導体装置の製造方法において、容量素子を形成するための誘電膜が他の非容量素子の配線パターンのエッジ部にエッチング残渣として残ることを確実に防止でき、半導体装置の歩留りを向上させることができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

An evaluation method learns an evaluation object learning pattern by using a learning parameter read from a learning parameter storing means, acquires the number of support vectors from a learning result, obtains an evaluation value of the feature set by means of a feature set evaluation index obtained by the number of support vectors and the existing method, and determines a feature set having the highest evaluation value as the optimum feature set.例文帳に追加

本発明は、学習パラメータ記憶手段から読み出した学習パラメータを用いて評価対象学習パターンについて学習し、学習結果からサポートベクターの数を取得し、サポートベクター数、既存の方法により求めた特徴セット評価指標を利用して特徴セットの評価値を求め、特徴セットの評価値の最も高いものを最適特徴セットとする。 - 特許庁

The method includes a circuit layout pattern and layout method for making it possible to match circuit parts accurately or proportionally by uniformly distributing the circuit parts so that the circuit parts are not affected by an environment or a process variation or an influence is kept to a minimum and, thereby improving the performance of an analog and mixed-signal circuit.例文帳に追加

回路部品が環境の影響またはプロセス変動の影響を受けないような形で、またはその影響を最小限に抑えるような形で回路部品を一様に分配することによって回路部品を正確にまたは比例的に適合させることを可能にし、それによってアナログおよび混成信号回路の性能を改善する回路レイアウト・パターンおよびレイアウト方法を含む。 - 特許庁

To prevent wiring accuracy from being lowered by etching fine wiring already, molded as well when etching a thin metal layer in semi-additive method (FAM: foil additive method) for forming fine wiring, by removing the thin metal layer on the surface of an insulating substrate after adding the thin metal layer on the surface of the substrate, and forming a wiring pattern with electric plating.例文帳に追加

絶縁基板表面に薄手の金属層を付加し、電気めっきにより配線パターンを形成後、基板表面の薄手金属層を除去して微細配線を形成するセミアデイテイブ（ＦＡＭ：Ｆｏｉｌ Ａｄｄｉｔｉｖｅ Ｍｅｔｈｏｄ）工法において、薄手金属層のエッチング時に既に成形した微細配線をもエッチングして、配線精度の低下を招くことを防止する。 - 特許庁

A manufacturing method of an LED package 100 includes the steps of forming a resin molding part 108 for sealing an LED chip 105; and applying a phosphor-containing coating agent to the surface of the resin molding part 108 by a conical and spiral spray pattern, in particular, with a spray coating method, and forming a phosphor thin film 120 on the surface of the resin molding part.例文帳に追加

ＬＥＤパッケージ１００の製造方法は、ＬＥＤチップ１０５を封止する樹脂モールディング部１０８を形成する工程と、スプレーコーティング法で、特に円錐型の渦状のスプレーパターンで上記樹脂モールディング部１０８の表面に蛍光体含有コーティング剤を塗布して上記樹脂モールディング部の表面上に蛍光体薄膜１２０を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

The method for the discrimination of strawberry species comprises the amplification of a nucleic acid genome DNA derived from strawberry by using a multiplex PCR method to use a plurality of primer pairs containing a random amplified polymorphic DNA (RAPD) marker specifically found in cultured strawberry species or an amplified fragment length polymorphism (AFLP) marker, and discriminating the species of the strawberry based on the band pattern of the obtained amplification product.例文帳に追加

栽培イチゴ品種に特異的に見い出されるランダム増幅多型ＤＮＡ（ＲＡＰＤ）マーカー或いは増幅断辺長多型（ＡＦＬＰ）マーカーを含む複数のプライマー対を使用するマルチプレックスＰＣＲ法を用いてイチゴ由来のゲノムDNAを核酸増幅し、得られる増幅産物のバンドパターンに基づいてイチゴ品種を識別することを特徴とする、イチゴ品種の識別方法。 - 特許庁

This fermentation yeast discrimination method includes amplifying the genome DNA of the fermentation yeast by a PCR method using a primer for amplifying a part or whole of a DNA sequence containing FLO5 gene and YHR213W gene or YAR062W gene, electrophoresing their amplified gene fragments or electrophoresing the amplified gene fragments after a restriction enzyme treatment, and then discriminating the yeast by the difference of the pattern of the electrophoresis.例文帳に追加

醸造用酵母のゲノムＤＮＡをＦＬＯ５遺伝子及びＹＨＲ２１３Ｗ遺伝子又はＹＡＲ０６２Ｗ遺伝子を含むＤＮＡ配列の一部又は全部を増幅させるプライマーを用いて、ＰＣＲ法にて増幅させ、それら増幅させた遺伝子断片を電気泳動し、又は制限酵素処理したのち電気泳動し、その電気泳動のパターンの違いにより酵母を判別する。 - 特許庁

According to one embodiment, a method (10) is shown for improving image capturing capability, the method comprising a step of electronically analyzing captured images to determine variations from received image criteria (200), a step of electronically analyzing the determined variations to determine the pattern of determined variations, and steps (201c, 204, 207, 312) of indicating relative image capturing performance.例文帳に追加

一実施形態によれば、取り込まれた画像を電子的に解析して、受け入れられた画像基準（200）からのばらつきを決定するステップと、この決定されたばらつきを電子的に解析して、決定されたばらつきのパターンを決定するステップと、相対的な画像取込み性能を指示するステップ（201c、204,207,312）とを含む、画像取込み能力を向上させる方法（10）が示される。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device comprises the steps of: depositing an SiO_2 film 3 on a substrate 1 on which a wiring pattern 2 is formed; applying an SOG film 4 on the SiO_2 film 3; and by a chemical mechanical polishing method, polishing the SOG film 4 by using cerium oxide and slurry containing at least one or more kinds of cationic surfactants.例文帳に追加

配線パターン２が形成された基板１上にＳｉＯ_２膜３を堆積する堆積工程と，ＳｉＯ_２膜３上にＳＯＧ膜４を塗布する塗布工程と，ＳＯＧ膜４を酸化セリウムおよび少なくとも一種類以上のカチオン性界面活性剤を含むスラリーを用いて化学的機械的研磨法により研磨する研磨工程と，を有する半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

In the manufacturing method of an electroluminescent element in which a hole transport layer 4 and an electron transport luminous layer 5 are provided as a layer having a light-emitting region between a transparent picture element electrode 2 and a negative electrode 10, at least the electron transport luminous layer 5 is formed in a prescribed pattern by the transfer of its constituting material by the letterpress reverse-offset method.例文帳に追加

透明画素電極２と陰極１０との間に、発光領域を有する層としてホール輸送層４及び電子輸送性発光層５が設けられた電界発光素子の製造方法において、少なくとも電子輸送性発光層５を、その構成材料の凸版反転オフセット法による転写で所定パターンに形成することを特徴とする、電界発光素子の製造方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an EL element capable of greatly reducing defects when performing transfer such as excessive transfer and defective transfer at a comparatively low transfer temperature and obtaining high-quality EL element when manufacturing the EL element by transferring an organic EL layer on a substrate like a pattern by a transfer method.例文帳に追加

本発明は、転写法により有機ＥＬ層を基板上にパターン状に転写させてＥＬ素子を製造する際に、比較的低い転写温度を用い、かつ過剰転写や転写不良といった転写に際しての不具合を大幅に低減させることができ、高品質のＥＬ素子を得ることができるＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

The method for manufacturing the printing plate and the method for removing the laser engraving tails are featured by containing processes of: preparing a sheet like printing original plate by optically building a photosensitive resin composition; preparing the printing plate by irradiating laser beams on the printing original plate to form a purpose pattern; and brushing the surface of the obtained printing plate in a water series developing on a surface of the obtained printing plate.例文帳に追加

感光性樹脂組成物を光架橋させてシート状の印刷原版を作成する工程、前記印刷原版にレーザー光線を照射し目的のパターンを形成し印刷版を作成する工程、得られた印刷版の表面の水系現像液中でのブラッシング工程を含むことを特徴とする印刷版の製造方法およびレーザー彫刻カスの除去方法。 - 特許庁

To provide a new resin useful for a dispersing resin for a fine pigment and a production method for it, a pigment dispersion liquid using the resin superior in dispersibility and dispersion stability, a colored curable composition superior in capacity for removing a region which is not yet cured contains the pigment dispersion liquid, a high contrast color filter with a colored pattern using the above and to provide a production method for it.例文帳に追加

微細な顔料用の分散樹脂として有用な新規な樹脂とその製造方法、該樹脂を用いた顔料の分散性・分散安定性に優れた顔料分散液、顔料分散液を含有する未硬化領域の除去性に優れた着色硬化性組成物、それを用いた着色パターンを有する高コントラストなカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A method for obtaining a crystal lattice Moire pattern of a crystal structure through the use of a scanning microscope includes the process for periodically arranging a plurality of virtual lattice points in a scanning surface of the crystal structure according to the crystal structure and orientation, the process for detecting signals from the plurality of virtual lattice points through the use of an incidence probe, and the process for generating a crystal lattice Moire pattern of the crystal structure on the basis of detected signals.例文帳に追加

走査型顕微鏡を用いて、結晶構造の結晶格子モアレパターンを取得する方法であって、前記結晶構造の走査面において、前記結晶構造と方位に対応して、複数の仮想格子点を周期的に配置する工程と、入射プローブを用いて複数の前記仮想格子点からの信号を検出する工程と、検出した前記信号に基づいて、前記結晶構造の結晶格子モアレパターンを生成する工程と、を備えている。 - 特許庁

In this case, the method also includes a step to apply plasma dry etching surface treatment to the exposed polyimide surface of the film substrate 1 made of polyimide resin that is not covered with the wiring pattern 6 after the wiring pattern 6 is formed.例文帳に追加

ポリイミド樹脂からなるフィルム基材１上にシード層２を形成してなる基板の表面に配線パターン６を形成する工程と、前記配線パターン６の表面にめっき層７を形成する工程とを有する半導体装置用テープキャリアの製造方法であって、前記配線パターン６を形成した後、当該配線パターン６で覆われておらず露出している部分の前記ポリイミド樹脂からなるフィルム基材１のポリイミド表面にプラズマドライエッチング表面処理を施す工程を含んでいる。 - 特許庁

The manufacturing method of the plated substrate includes a step of providing a catalyst layer 32 in other area than a predetermined pattern on a substrate 10, a step of providing a first metal layer 34 of a predetermined pattern by depositing a metal on the substrate by immersing the substrate in a first electroless plating liquid, a step of removing the catalyst layer, and a step of providing a second metal layer on the first metal layer.例文帳に追加

本発明にかかるめっき基板の製造方法は、基板１０上に所定のパターン以外の領域に触媒層３２を設ける工程と、第１の無電解めっき液に基板を浸漬することにより、基板上に金属を析出させて所定のパターンの第１の金属層３４を設ける工程と、触媒層を除去する工程と、第２の無電解めっき液に基板を浸漬することにより、第１の金属層の上方に第２の金属層を設ける工程と、を含む。 - 特許庁

The method for forming the pattern data, which is dealable not only with wiring layers but with other processing layers, such as polysilicon layers, as well and does not require an enormous processing time, is provided in a data processing method for forming the drawing data used in this drawing method.例文帳に追加

フォトマスクのパタン密度を均一化する付加パタンを設けた、付加パタン付きフォトマスクの描画方法で、ポジレジストを用い、パタンデータの無い部分に電子ビームまたはレーザ光を照射して描画する、描画方式に適用できる描画方法を提供しようとするものであり、該描画方法に用いられる描画データを作成するためのデータ処理方法で、配線層だけでなくポリリシリコン層等他の処理層にも対応でき、多大な処理時間を必要としないパタンデータの作成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device wherein the problems are prevented such as a short circuit, an adhesion failure, and focus deviation etc., due to over-etching of wiring because the areas of overlapping regions for connection are randomly different, in a method for forming fine wiring which is a test pattern and wide leads connected to it on a semiconductor substrate by double exposure using two masks.例文帳に追加

テストパターンである微細配線とそれに繋がる幅広の引き出し配線とを２枚のマスクを用いた２重露光により半導体基板上に形成する方法において、繋ぎ合わせるオーバーラップ領域の面積がランダムに異なっていたため発生していた、配線のオーバーエッチングにより短絡、密着性不良、フォーカスずれ等の諸問題を発生させない半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a large quantity of semiconductor nano wire elements eliminating a complicated nano wire positioning step and an SOI wafer at a low cost, with no necessity of forming an extremely fine pattern using electronic beams, and by forming a single crystal silicon nano wire by an easy method, transferring the nano wire separated from a substrate onto an other oxide film or a silicon substrate formed with an insulating film.例文帳に追加

電子ビームを用いた極微細パターンを形成する必要なく、簡単な方法で単結晶シリコンナノワイヤを形成し、基板から分離されたナノワイヤを他の酸化膜又は絶縁膜が形成されたシリコン基板などに転写させることで複雑なナノワイヤ位置合わせ工程やＳＯＩウエハーが不要な低コストの半導体ナノワイヤ素子を大量に製造することができる方法を提供する。 - 特許庁

The present invention relates to a method of manufacturing a device for measuring conductivity of a liquid, particularly of an ultrapure water, which is characterized by providing 2 conductivity-measuring electrodes suitable for determining a cell constant enabling conductivity measurement of an ultrapure liquid and by comprising a method of producing each electrode by forming an electrode pattern from a conductive material on the substrate of an insulating material.例文帳に追加

本発明は、液体、特に超純水の導電率を測定するための装置の製造方法であって、超高純度の液体の導電率の測定を可能にするセル定数を定めるために適した２つの導電率測定電極を備え、絶縁材料の基板上に導電性材料からの電極パターンを形成することによって、各電極を製造することを含むことを特徴とする方法に関する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a lens shape of a roll for optical film manufacturing, which can form a linear or nonlinear lens shape directly on the roll for optical film manufacturing, which can diversify a pattern of a lens, which can arbitrarily adjust curvature of the lens shape, and which can form the curvature deeper than a hemisphere, and to provide the roll for optical film manufacturing, in which the lens shape is formed by the method.例文帳に追加

光学フィルム製造用ロールに直接的に線形又は非線形レンズ形状を形成することができ、レンズの模様を多様化することができ、また、レンズ形状の曲率を任意に調節でき、曲率を半球以上に深く形成できる光学フィルム製造用ロールのレンズ形状の製造方法及びそれによりレンズ形状の形成された光学フィルム製造用ロールを提供する。 - 特許庁

To provide a method for removing a standing wave caused by the variation of ArF light and the thickness of photoresist by preventing the reflection from a lower film layer in the process for forming an ultrafine pattern using a lithographic photoresist in the production process of a semiconductor element, an antireflection composition containing the organic antireflection polymer, an antireflection film produced by using the composition and a method for forming the antireflection film.例文帳に追加

半導体素子の製造工程中におけるリソグラフィー用フォトレジストを使用する超微細パターンの形成工程において、下部膜層の反射を防止してＡｒＦ光およびフォトレジスト自体の厚さの変化によって生じる定在波の除去法および、このような有機反射防止重合体を含む反射防止用の組成物、これを利用した反射防止膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern arrangement method for stencil masks which previously executes the optimum arrangement circuit patterns from a design stage so as to allow the efficient selection of the circuit patterns arranged on the stencil masks used for direct electron beam drawing technique and draws the circuit patterns of high throughput on a wafer with the least possible correction and exchange of the stencil masks and a method for manufacturing semiconductor integrated circuits using the same.例文帳に追加

本発明は、電子ビーム直接描画技術に用いられるステンシルマスクに配置される回路パターンを効率的に選択できるように、あらかじめ設計段階から回路パターンの最適配置を行うとともに、ステンシルマスクの修正や交換がなるべく少なくスループットの高い回路パターンをウエハー上に描画するステンシルマスクのパターン配置方法およびそれを用いた半導体集積回路製造方法を得る。 - 特許庁

The manufacturing method for the alignment film of the present invention includes a first stage of forming a pattern substrate 30 having a plurality of columnar bodies 31 slanting at a specified angle and a second stage of obtaining the alignment film made of a light-transmissive inorganic dielectric material by transferring shapes of the columnar bodies 31 to a film 41 made of a light-transmissive inorganic dielectric material by using a nanoimprint method.例文帳に追加

本発明の配向膜の製造方法は、所定角度で傾斜してなる複数の柱状物３１を具備した型基板３０を作成する第１工程と、前記柱状物３１の形状を透光性の無機誘電体材料からなる膜４１にナノインプリント法を用いて転写し、当該透光性の無機誘電体材料からなる配向膜を得る第２工程と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a letterpress plate in which a photosensitive resin layer in a portion freed of a mask layer is not affected by oxygen in the air, and by which a letterpress plate having a good fine pattern can be obtained after development, with respect to a method for producing a letterpress plate from a multilayer laminate for producing a letterpress plate including a photosensitive resin layer and a mask layer.例文帳に追加

感光性樹脂層とマスク層とを有する凸版印刷版製造用多層積層体から凸版印刷版を製造する凸版印刷版の製造方法であって、マスク層が除去された部位の感光性樹脂層が空気中の酸素の影響を受けず、現像後に微細で良好なパターンを有する凸版印刷版を得ることができる凸版印刷版の製造方法を提供すること。 - 特許庁

There is provided a method for inspecting variation in grain size of fine particles in an inspection object containing homogeneous fine particles, the method comprising the steps of: using a liquid in which the fine particles are dispersed in a solvent for electrophoresis using a separation medium which serves as a sieve; and inspecting variation in grain size of the fine particles from an electrophoretic pattern after the electrophoresis.例文帳に追加

本発明の方法は、均質な微小粒子を含んでいる検査対象における当該微小粒子が有している粒度のばらつきを検査する方法であって、上記微小粒子が溶媒に分散している液体を、ふるいとして機能する分離媒体を用いた電気泳動に供する工程と、上記電気泳動後の泳動パターンから上記微小粒子の粒度のばらつきを検査する工程とを包含している。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a photomask with steps, a photomask which is greatly improved in size precision of an auxiliary pattern by coating even a substrate, obtained by forming a shifter-dug step part on a transparent substrate by etching, with photosensitive resin so that the surface is smooth and the film thickness is uniform, or a photomask with a Levenson type phase shift.例文帳に追加

段差を持つフォトマスクや、透明基板にエッチングによってシフター掘り込みの段差部を形成した基板にも、表面平滑で、且つ膜厚を均一に感光性樹脂を塗布し、補助パターンの寸法精度を格段に向上させるようにしたフォトマスク、又はレベンソン型の位相シフトのフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method of a film carrier tape for electronic component mounting which enables rapid and accurate quality inspection such as the electrical disconnection and short circuit of a wiring pattern without raising resolving power, even if stain exists on the surface of the film carrier tape for electronic component mounting, and to provide an inspection device therefor.例文帳に追加

配線パターンの電気的な断線、短絡などの品質検査を、分解能を上げることなく、しかも、電子部品実装用フィルムキャリアテープの表面のシミが存在していても、迅速で正確な品質検査を実施することができる電子部品実装用フィルムキャリアテープの検査方法およびそのための検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing unit capable of ensuring precision in data detection from a printed matter including a copy original for the creation of a data embedded image by dot on/off, embedding a sufficient amount of data, and adding a background pattern formed by dot arrangement simply, and to provide an image processing method and a program thereof.例文帳に追加

ドットオンオフによるデータ埋め込み画像の作成に対して、コピー原稿を含む印刷物からのデータ検出の精度を確保し、十分なデータ量を埋め込み、かつドット配置が形成する背景模様を簡単に付加することができる画像処理装置、画像処理方法、及びそのプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a magnetic transfer master disk capable of stably forming a highly accurate master substrate when a master disk having a recessed/projected pattern is subjected to electrocasting to form a master disk, and to provide a magnetic recording medium to which good preformat information is magnetically transferred.例文帳に追加

凹凸パターンを有した原盤に電鋳を施してマスター基板を作成するにあたり、高精度なマスター基板を安定して形成することのできる磁気転写用マスターディスクの製造方法を提供するとともに、良好なプリフォーマット情報が磁気転写された磁気記録媒体を提供すること。 - 特許庁