「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(435ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a stage apparatus the degradation of control accuracy of which is prevented, an exposure apparatus transferring a mask pattern on a substrate on the stage apparatus without incurring deterioration in the exposure accuracy, and a device manufacturing method for using the exposure apparatus to manufacture devices.例文帳に追加

ステージ装置の制御精度の低下を防止することができるステージ装置、当該ステージ装置上の基板にマスクのパターンを露光精度の悪化を招かずに転写することができる露光装置、並びに当該露光装置を用いてデバイスを製造するデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a correction method of a circuit pattern for measuring the dimension of each of the plurality of circuit patterns formed on a resist film on a substrate to be processed and correcting each of the respective circuit patterns by irradiating ultraviolet light on the basis of measurement information immediately after measurement, and its device.例文帳に追加

被処理基板上のレジスト膜に形成された複数の回路パターン毎の寸法を測定し、直後に測定情報に基づいて紫外光を照射して各回路パターン毎の補正を行うようにした回路パターンの補正方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

This radiation-sensitive resin composition is used for forming a resist film for use in a resist pattern formation method including a liquid dipping exposure process using bicyclohexyl as a liquid for liquid dipping exposure, and the static contact angle of a formed resist film to the hydroxyl is 30-90°.例文帳に追加

液浸露光用液体としてビシクロヘキシルを用いた液浸露光工程を含むレジストパターン形成方法で使用されるレジスト膜の形成に用いられ、形成されたレジスト膜の、ビシクロヘキシルに対する静的接触角が３０〜９０°である感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide a technique which allows easy development and high strength of a pattern with respect to improvement of an image forming method by reaction development in the field of a photoresist technique usable in production of a semiconductor integrated circuit, a printed wiring board, a liquid crystal panel or an optical waveguide.例文帳に追加

半導体集積回路、プリント配線基板、液晶パネル又は光導波路の製造に用いることのできるフォトレジスト技術の分野において、反応現像画像形成法の改良に関し、現像が容易であり、かつそのパターンの強度が高いという特長を有する技術の提供。 - 特許庁

To provide a printer head, a printer and a method for manufacturing a printer head which are applicable to a thermal ink jet printer, for example, in order to avoid incomplete conduction between a wiring pattern and a heat generating element even when the heat generating element film is made thin.例文帳に追加

本発明は、プリンタヘッド、プリンタ及びプリンタヘッドの製造方法に関し、例えばサーマル方式によるインクジェットプリンタに適用して、発熱素子の膜厚を薄くした場合でも、配線パターンと発熱素子との間で導通不良を有効に回避することができるようにする。 - 特許庁

A self-organizing monomolecular film (SAM) 12 is patterned on a glass substrate 14 by a micro-contact printing method, and then, silver nanoparticles 24 are deposited locally on a pattern substrate 16 by a silver mirror reaction, wherein a dispersant is added to a solution containing silver complex ions, to thereby produce a SERS substrate 18.例文帳に追加

マイクロコンタクトプリント法により自己組織化単分子膜（ＳＡＭ）（１２）をガラス基板１４上にパターニングした後、銀の錯イオンを含む溶液に分散剤を加えた銀鏡反応によりパターン基板１６上に銀ナノ粒子２４を局所的に析出させて、ＳＥＲＳ基板１８を作成する。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device includes: a step of forming a base film on a semiconductor substrate; a step of forming an amorphous carbon film on the base film; a step of forming a pattern of the amorphous carbon film; and a step of etching the base film using the amorphous carbon film as a mask.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、半導体基板上に下地膜を形成する工程と、下地膜上にアモルファスカーボン膜を成膜する工程と、アモルファスカーボン膜のパターンを形成する工程と、アモルファスカーボン膜をマスクにして下地膜をエッチングする工程を有する。 - 特許庁

The silicon processing method includes: forming a mask pattern on a single-crystal silicon substrate 100 of which principal surface is (100) an equivalent face 103 or (110) an equivalent face; and applying crystal anisotropic etching to form a structure comprising (111) an equivalent face and having width W1 and length L1.例文帳に追加

シリコンの加工方法で、主面が（１００）等価面１０３或いは（１１０）等価面である単結晶シリコン基板１００上に、マスクパターンを形成し、結晶異方性エッチングを施して、（１１１）等価面で構成され幅Ｗ１と長さＬ１を有する構造体を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of PDP members in which component members of a PDP superior in pattern shape (for example, barrier rib, electrode, resistor, dielectric layer, phosphor, color filter, black matrix) or component members of a PDP having complicated shape can be formed suitably.例文帳に追加

パターン形状に優れたＰＤＰの構成部材（たとえば、隔壁、電極、抵抗体、誘電体層、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス）や、あるいは複雑な形状を有するＰＤＰの構成部材を好適に形成することができるＰＤＰ部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device for speech analysis, which are not affected by the environment and mental state of a speaker by excluding a feature vector having a small variation quantity from standard pattern learning object data by using a time variation parameter of delta cepstrum.例文帳に追加

デルタケプストラム等の時間変動パラメータを用いて、変化量の少ない特徴ベクトルを標準パターン学習対象データから除外することにより、発声者の環境，心理状態により影響されることのない音声認識方法および装置を提供すること。 - 特許庁

To realize a method and an equipment for measuring plate shift of all plates at the same position on an image output medium while avoiding measurement error due to mismatch between the direction of an evaluation pattern and the input direction thereof and decreasing the number of required measuring points.例文帳に追加

画像出力媒体上の同一位置において全ての版に関し版ずれを測定することができ、評価用パターンの方向とその入力方向との不一致による測定誤差を回避することができ、さらに必要な測定点数が少ない版ずれ測定方法及び装置を実現する。 - 特許庁

To provide a forming apparatus and a forming method capable of efficiently forming a variety of squeeze-formed foods composed of a combination of a plurality of food materials and having a deeply engraved squeeze pattern similar to a hand-made food on the whole surface of the food.例文帳に追加

本発明は、手作りと同様の彫りの深い絞り模様が表面全体に形成されるとともに複数の食材を組み合せた多彩な絞り成形食品を効率よく成形することが可能な成形装置及び方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a plating apparatus where a plating film having a flat surface and satisfactory film quality can be easily formed regardless of variation in the shape of a wiring pattern and the management of the plating liquid can be easily performed by mutually separating an aged plating liquid and a fresh plating liquid, and to provide a plating method.例文帳に追加

配線パターン形状の形状のばらつきに拘わらず、表面が平坦で良好な膜質のめっき膜を容易に形成でき、しかも老化しためっき液と新鮮なめっき液を互いに分離することで、めっき液の管理が容易なめっき装置及びめっき方法を提供する。 - 特許庁

The servo signal is recorded in the lower layer part 2a of the magnetic layer 2 of this magnetic recording medium 20, by using a master carrier in which a pattern corresponding to the servo signal to be recorded in the part 2a of the layer 2 of the medium 20 is written by mastering method and conducting magnetic transfer.例文帳に追加

磁気記録媒体20の磁性層２の下層部２ａに記録すべきサーボ信号に応じたパターンをマスタリング方法により書き込まれたマスター担体を用い、磁気転写を行うことにより、磁気記録媒体20の磁性層２の下層部２ａにサーボ信号を記録する。 - 特許庁

Extreme value positions corresponding to the density center of each line pattern, and first edge positions and second edge positions corresponding to both right and left edges of the line patterns, are computed from the respective profile graphs, and a line-center approximation line, a first edge approximation line and a second edge approximation line are obtained by a least-square method.例文帳に追加

各プロファイルグラフから各ラインパターンの濃度中心に対応する極値位置と、当該ラインパターンの左右両エッジに対応する第１エッジ位置及び第２エッジ位置を算出し、最小二乗法により、ライン中心近似直線、第１エッジ近似直線、第２エッジ近似直線を得る。 - 特許庁

In the method for formation of wiring structure, a first organic matter-bearing silicon oxide film 303, an SOG film 304 having a low specific inductive capacity, and a second organic matter-containing silicon oxide film 305 are sequentially deposited on a semiconductor substrate 300, and then, a mask pattern 308 is formed on the silicon oxide film 305.例文帳に追加

半導体基板３００上に、第１の有機含有シリコン酸化膜３０３、低誘電率ＳＯＧ膜３０４及び第２の有機含有シリコン酸化膜３０５を順次堆積した後、第２の有機含有シリコン酸化膜３０５の上にマスクパターン３０８を形成する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the stamper including a process for forming a metal thin film 61 on a stamper original plate 50 on which a rugged pattern is formed by etching and then performing electroplating, before the metal thin film 61 is formed, the stamper original plate 50 is heat-treated at 200 to 500°C in air.例文帳に追加

エッチングにより凹凸パターンが形成されたスタンパ原版５０に、金属薄膜６１を形成して電気メッキする工程を備えたスタンパの製造方法において、金属薄膜６１を形成する前に、スタンパ原版５０を、空気中において２００℃以上５００℃以下の温度で熱処理する。 - 特許庁

To provide a system and a method for determining the degree of abnormality of a life behavior pattern, finding the abnormality of an observed person more positively to determine the degree of abnormality by considering a space where the observed person exists, and the contents of behavior in determining the abnormality of the observed person.例文帳に追加

被観察者の異常判定において、被観察者の存在する空間や行動の内容を考慮することにより、被観察者の異常をより確実に発見し、異常度の度合いを判定できる生活行動パターンの異常度判定システム及び判定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing device and a manufacturing method capable of easily forming a thin wire like pattern of a conductive metallic part, having both of a high electromagnetic wave shielding property and high transparency at the same time, and capable of stably producing a large quantity of a light transmittable electromagnetic wave shielding material without forming moire at a low cost.例文帳に追加

導電性金属部の細線状パターン形成を容易に行い、高い電磁波遮蔽性と高い透明性とを同時に有し、モアレのない光透過性電磁波遮蔽材料を、安価で大量に安定生産できる製造装置及び製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a cylindrical knitted fabric which can eliminate crossed yarns W, can improve productivity, can reduce production cost, and has a stripped pattern having an excellent design, to provide a method for knitting the fabric, and to provide a feeder in a flat knitting machine for knitting the fabric.例文帳に追加

渡り糸Ｗをなくせて生産性が向上でき、生産コストを低減できるとともに、意匠感に優れた縞柄を有する筒状編地と、その編成方法並びにこれを編成するための横編機における給糸装置を提供できるようにすることを目的とする。 - 特許庁

To provide a method and a device for inspecting patterns and a mask manufacturing device using thereof correcting effects to pattern inspection caused by polarization of intensity distribution due to beam shape, size, and optical axis deviation of an illumination light source illuminating a body to be inspected for obtaining a constantly stable inspection result.例文帳に追加

被検査体を照明する照明光源のビーム形状、サイズ、光軸ずれによる強度分布の偏りから生ずる、パターン検査への影響を補正して、常に安定した検査結果が得られるパターン検査方法とその装置およびそれを用いたマスク製造装置を提供すること。 - 特許庁

This method manufactures the support for the lithographic printing plate using an aluminum sheet with an unevenness formed on the surface by transferring an uneven pattern, through treatments such as (1) electrochemical surface roughing in an aqueous nitric acid solution, (2) electrochemical surface roughing in an aqueous hydrochloric acid solution and (3) anodic oxidation.例文帳に追加

凹凸パターンを転写することにより、表面に凹凸を形成したアルミニウム板を用いて、(1) 硝酸水溶液中で電気化学的に粗面化処理し、(2) 塩酸水溶液中で電気化学的に粗面化処理し、(3) 陽極酸化処理する、平版印刷版用支持体の製造方法。 - 特許庁

At the second stop of the reel, the slot machine sets the priority value for a stop table having a 21-piece area corresponding to the reel stop position and then selects a control method from among the control-processing control, which stops the reel according to the priority value, and the table control, according to the first stop reel appearing pattern.例文帳に追加

リールの第二停止の際には、リールの停止位置に対応する２１コマの領域を有する停止テーブルに対して優先値を設定した上で、優先値に従いリールを停止させるコントロール制御と、テーブル制御とのうちから制御方式を第一停止リールの出目に応じて選択する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, by which when a large number of individual patterns arranged parallel with one another are formed by dry-etching a conductive material joined to an insulating material, the side faces of the patterns are made free of the occurrence of etching defects, such as etching residue (footing) and a wedge-shaped cut (notching).例文帳に追加

絶縁材料上に接合された導電性材料にドライエッチングを施して、多数並列配置された個々のパターンを形成するにあたり、パターンの側面に加工残り（フッティング）や楔状の切れ込み（ノッチング）等のエッチング異常が生じないパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

A method for manufacturing a device includes a step of placing a wafer stage 12 movably on a wafer base 14, installing a wafer table 11 for holding a wafer W on the wafer stage 12 via Z-axis actuators 13A, 13B, 13C, and transferring of a pattern of a reticle R on the wafer W via a projection optical system PL.例文帳に追加

ウエハベース１４上に移動自在にウエハステージ１２を載置し、ウエハステージ１２上にＺ軸アクチュエータ１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃを介してウエハＷを保持するウエハテーブル１１を設置し、ウエハＷ上に投影光学系ＰＬを介してレチクルＲのパターンを転写する。 - 特許庁

The pattern forming method using the photosensitive composition and the compound in the photosensitive composition are also provided.例文帳に追加

（Ａ）特定のトリフェニルスルホニウム構造を有する繰り返し単位(a0)と、ラクトン構造及びシアノ基を有する繰り返し単位(a1)とを有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を含有する感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける化合物。 - 特許庁

To provide a method for coating belt-like metallic plate which does not require specified work only for specifying a part to be coated for the belt-like metallic plate prior to the coating and, moreover, is capable of minimizing a deviation of relative position between the coating position of a coating pattern and a press working position.例文帳に追加

塗装の前に、帯状金属板に対して塗装箇所を特定するためだけの特別な加工を施しておく必要がなく、しかも塗装パターンの塗装位置とプレス加工位置との相対位置のずれを小さくできる帯状金属板への塗装方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a shadow mask which is capable of preventing the occurrence of variations in the pattern dimensions of a resist film after development processing in consequence of the differences in the degrees of progression of the dark reaction and residual reaction in the resist film along the longitudinal direction of a long-sized metallic thin film which is a shadow mask blank.例文帳に追加

シャドウマスク素材である長尺の金属薄板の長手方向に沿ったレジスト膜中の暗反応及び残反応の進行度合いの差に起因して、現像処理後のレジスト膜のパターン寸法にばらつきが発生することを防止できるシャドウマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a printing recording paper for preventing forgery in which a watermark-like pattern similar to a watermark and visible can be formed easily and at a low cost by using an inkjet printer on a substrate, and a printing recording layer is formed on the surface of the substrate, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

支持体上にインクジェットプリンタを用いて、「透かし」に近似した視認が可能な透かし様模様を容易にかつ低コストで形成し、かつその支持体表面に印刷記録層を形成した偽造防止用印刷記録用紙を提供すること、また、その製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an RFID antenna and a method of manufacturing the same in which costs can be reduced, by electrically connecting an inner substrate area and an outer substrate area over a loop pattern, even on a single-sided printed circuit board, without having to separately provide any jumper.例文帳に追加

片面プリント基板であってもループパターンを跨いでその内側の基板領域と外側の基板領域とを別途ジャンパーを設けることなく電気的に接続可能とすることにより、コストダウンを図ることのできるＲＦＩＤ用アンテナ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transparent electromagnetic wave shielding film which is excellent in an electromagnetic wave shielding performance, has high transparency, improves the adhesion of a conductive metal pattern further and reduces the hue change of the film even when preserved for a long period of time under a high temperature and high humidity environment, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

電磁波遮蔽性能に優れ、且つ高い透明性を有し、更に導電性金属パターンの密着性が向上し、高温高湿環境下に長時間保存した場合においても、フィルムの色味変化が小さい透明電磁波遮蔽フィルム、及びその作製方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a lens centering device and a lens centering method which facilitates the sampling by performing pattern matching of reflection position and transmission position of a spot image by means of a micro-lens, permits the stable sampling even when shape distortions of the spot image and disturbance image are frequently caused and facilitates lens centering adjustment.例文帳に追加

微小レンズによるスポット像の反射位置や透過位置のパターンマッチングによるサンプリングが容易で、そのスポット像や外乱の形状変化が多い場合でも安定したサンプリングを可能で、レンズの芯出調整が容易なレンズ芯出し装置及びレンズ芯出し方法が求められている。 - 特許庁

In the method for patterning, a photo-curable resin 24 is applied on a face of the member 10 to be etched with the hollow 13 on which the dry etching is applied, and a mold 50 having a pattern corresponding to a mask 24a with taper-shaped side face to be formed on the member to be etched is pressed on the photo-curable resin.例文帳に追加

空洞１３を有する被エッチング部材１０のドライエッチングを施す面に光硬化性樹脂２４を付与し、被エッチング部材上に形成すべきテーパー形状の側面を有するマスク２４ａに対応したパターンを有するモールド５０を光硬化性樹脂に押し付ける。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for thick-film resist film formation, capable of reducing viscosity and forming a thick-film resist film of 1-15 μm film thickness, having proper in-plane uniformity of film thickness, and to provide a thick-film resist laminate and a resist pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

低粘度化が可能であり、かつ膜厚面内均一性の良好な膜厚１〜１５μｍの厚膜レジスト膜を形成できる厚膜レジスト膜形成用のポジ型レジスト組成物、当該ポジ型レジスト組成物を用いた厚膜レジスト積層体およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a level block for a CMP device and the CMP device capable of polishing a workpiece by a surface reference method, capable of flatly polishing even a workpiece of wafer or the like with pattern without being influenced by its step difference, and capable of attaining almost complete global planarization.例文帳に追加

ワークを表面基準方式で研磨することができ、しかも、パターン付きウエハ等のワークについてもパターンの段差に影響されることなく平坦に研磨することができ、ほぼ完全なグローバルプラナリゼーションを達成可能なＣＭＰ装置の定盤及びＣＭＰ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a space saving and low cost process capable of measuring the prescribed length of a conveyor belt accurately and cutting the belt by preventing a belt varying largely in length in a sending roll method from transforming and drawing when measuring the belt having unevenness of a pattern or the like and soft resin harness on the top surface.例文帳に追加

その表面にパターン等の凹凸や樹脂硬度の軟らかな搬送ベルト等の測長に当たって送りロール方式ではバラツキの多いベルトに対して、変形や延伸を防いで、所定長に正確に測長し切断し省スペースで廉価な工程を提供すること。 - 特許庁

To provide an optical functional sheet that can form a fine pattern without requiring strict parallelism of incident light and that can be used for a liquid crystal display, in particular, a reflective or transflective liquid crystal display performing image display using reflected external light, and to provide a method for manufacturing the sheet.例文帳に追加

厳密な入射光の平行性を必要とせずに微細パターンを形成可能な、液晶ディスプレイ、特に外光の反射光を利用して画像表示を行う反射型あるいは透過反射型の液晶ディスプレイに使用される光学機能シートおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method further comprises a transfer step of transferring the cured paste 55 in the hole 53 onto the plate 56 by separating the belt 51 from the plate 56 by a separating unit 64, thereby forming a spacer for a liquid crystal panel as the pattern on the plate 56.例文帳に追加

更に、分離装置６４によりマスクベルト５１とガラス板５６と分離し、孔５３内の硬化済み紫外線硬化ペースト５５をガラス板５６上に転写する転写工程とを施して、このガラス板５６上にパターンとしての液晶パネル用スペーサを形成するようにした。 - 特許庁

In this method, an ultraviolet-curable resin 3 is injected into between a mold 1 with a flat surface and glass 2 as an optical element with a concentric circle-like relief pattern formed on the surface, using a dispenser or the like and pressed and cured by irradiating the resin 3 with ultraviolet light through a filter 4.例文帳に追加

表面が平面の金型１と、表面に同心円状のレリーフパターンを有する光学要素であるガラス２の間に、ディスペンサ等により紫外線硬化型樹脂３を注入して押圧し、フィルタ４を通して紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂３を硬化させる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electromechanical conversion film capable of forming the electromechanical conversion film of a desired pattern having a uniform film thickness when discharging a coating liquid containing a raw material for forming the electromechanical conversion film from a nozzle and coating an electrode with the liquid.例文帳に追加

電気機械変換膜を形成するための原料を含む塗布液をノズルから吐出させて電極上に塗布する場合に、均一な膜厚を有する所望パターンの電気機械変換膜を形成することができる電気機械変換膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an organic acid soluble type polyamide resin composition with excellent injection molding property, adhesiveness, resistance to a plating processing liquid, solubility to an organic acid and formation property of a circuit pattern, and a method for manufacturing a three-dimensional injection molding circuit component using the resin composition.例文帳に追加

射出成形性、接着性、めっき処理液に対する耐性、有機酸に対する溶解性、回路パターンの形成性に優れた有機酸可溶型ポリアミド樹脂樹脂組成物と、該樹脂組成物を用いた三次元射出成形回路部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a blank for a halftone type phase shift mask, capable of providing a blank improving the size precision of a pattern of a halftone film much higher than before, using a halftone blank structure provided with no light shielding film, and to provide a method for manufacturing the halftone type phase shift mask.例文帳に追加

遮光膜を設けていないハーフトーンブランク構造を用いることにより、従来に比べて格段にハーフトーン膜のパターンの寸法精度を向上させるブランクを提供することができるハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a light guide plate, and a method of manufacturing the same, having a perfect uniform-brightness fine pattern formed on a reflecting face in comparatively short time (shortening of processing time) through prevention of printing omission at an edge part of the light guide plate that is a problem in screen printing.例文帳に追加

本発明は、スクリーン印刷の問題点である導光板の縁部の印刷漏れを防止し、比較的短時間（加工時間の短縮化）で反射面に完全な輝度均斉化微細パターンを形成した導光板及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a shading method in computer graphics capable of representing a dark part by pasting an image with a pattern not by reducing a luminance of a surface to darken the surface when executing representation such that the surface of a three-dimensionally shaped object onto which light reaches with difficulty stepwise becomes dark.例文帳に追加

３次元形状の物体の光の届きにくい面に対して、段階的に暗くなるような表現を行うとき、面の輝度を下げて暗くするのではなく、模様の入った画像を貼ることにより暗い部分を表現できるコンピュータグラフィックスにおける陰影付け方式を提供する。 - 特許庁

The pile fabric provided with a color pattern on the pile surface is obtained by sewing a pile using a dyed acrylic fiber and by using the color change of a pile part dyed at a low temperature by operations of heating temperature conditions and a heating method of pile processing such as a tenter process and a polishing process of pile sewing.例文帳に追加

アクリル系繊維を、染色した繊維を用いてパイルを縫製し、パイル縫製のテンター工程やポリッシング工程等のパイル加工の加熱温度の条件及び加熱方法の操作にて、低温で染色したパイル部が色変化する事を用いて、パイル表面に色模様を付与したパイル布帛。 - 特許庁