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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 23003



例文

In the method for forming a pattern to forming a thick film resist layer 21 by laminating a plurality of photosensitive films 20, each photosensitive film 20 is exposed at each time of lamination, and after all the photosensitive films 20 are laminated, they are developed.例文帳に追加

複数の感光性フィルム20を積層することによって厚膜レジスト層21を形成するパターン形成方法において、1枚の感光性フィルム20を積層する毎に露光を行い、複数の感光性フィルム20の全部を積層した後に現像を行うようにした。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type resist composition which exhibits sufficient transmissivity when an exposure light source for F_2 excimer laser light (157 nm) is used, has a fast etching speed, and improves roughness of a sample surface after dry etching, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

160nm以下、具体的にはF_2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源使用時に十分な透過性を示し、エッチング速度が速く、かつドライエッチングを実施した後のサンプル表面の荒れが改善された化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method, in which dopant is diffused with respect to a silicon single-crystal substrate 1, in a position selective manner via the pattern opening 2a formed in the oxide film 2 on the primary surface of the silicon single-crystal substrate 1 in a position selective manner, and the silicon wafer W for semiconductor device is thus manufactured.例文帳に追加

シリコン単結晶基板1の主表面上の酸化膜2に位置選択的に形成したパターン開口部2aを介して、シリコン単結晶基板1に対しドーパントを位置選択的に拡散させて、半導体素子用のシリコンウェーハWを製造する方法である。 - 特許庁

To provide a recording sheet carrying speed adjusting pattern and a register roller carrying speed adjusting method for a color image forming device capable of adjusting speed of a register roller for feeding a recording sheet to a conveyor belt to the speed eliminating occurrence of color shear with simple and inexpensive structure in a tandem type color image forming device.例文帳に追加

タンデム型カラー画像形成装置において、簡単、安価な構成で、搬送ベルトに記録紙を送るレジストローラの速度を色ズレを生じない速度に調整できる、カラー画像形成装置における記録紙搬送速度調節用パターンとレジストローラの搬送速度調節方法を提供する。 - 特許庁

例文

A pattern forming method is characterized by including a step (a) of exposing a resist film on a substrate through an immersion liquid, a step (b) of removing immersion liquid components infiltrated to the resist film, a step (c) of heating the resist film, and a step (d) of performing development in this order.例文帳に追加

基板上のレジスト膜に液浸液を介して露光する工程(a)、該レジスト膜に浸入した液浸液成分を除去する工程(b)、該レジスト膜を加熱する工程(c)、及び、現像を行う工程(d)を、この順に、有することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁


例文

To provide a channel constituting member of an inkjet head in which highly accurate channels having a low stress and a chemical resistance are formed by pattern forming through application of ultraviolet rays or the like, an inkjet recording head having the channel constituting member, and a manufacturing method for an inkjet recording head.例文帳に追加

低応力、耐薬品性を有し、紫外線照射などによるパターン成形により高精度の流路が形成されたインクジェット記録ヘッドの流路構成部材及び該流路構成部材を有するインクジェット記録ヘッド、インクジェット記録ヘッドの製造方法を提供すること。 - 特許庁

This resistance welding control method is conducted such that the total thickness of the materials to be welded at each welding spot is automatically set by calculation based on the measurement of the moving distance of both electrodes and that the target pattern Tp of the temperature change is automatically set in accordance with this calculation value Bc of the total thickness.例文帳に追加

本発明は、各打点における総板厚を両電極の移動距離の計測値に基づく演算によって自動設定し、かつ、温度変化目標パターンTpをこの総板厚の演算値Bcに応じて自動設定する抵抗溶接制御方法である。 - 特許庁

To provide a manufacturing device of a display device capable of positioning with high precision between a substrate with a pattern formed to form a display part and the positioning member, and also, provide a manufacturing method capable of highly precisely positioning between the substrate and the positioning member used for the display device without having complicated processes.例文帳に追加

表示部を形成するためのパターンが形成された基板と、被位置合わせ部材とを高精度に位置合わせ可能な表示装置の製造装置を提供すること、煩雑な工程を行うことなく高精度に位置合わせ可能な製造方法を提供すること等。 - 特許庁

The electronic parts are manufactured by a method wherein the image recognition of the normal blocks 5 or the fractional blocks 6 are effected based on the pattern 7 for image recognition while bump bonding of the blocks are effected on respective bonding pads 4 of the tip areas 2 constituting the normal blocks 5 and the fractional blocks 6.例文帳に追加

本発明に係る電子部品の製造方法は、正規ブロック5または端数ブロック6を画像認識用パターン7に基づいて画像認識し、正規ブロック5及び端数ブロック6を構成しているチップ領域2それぞれのボンディングパッド4上にバンプボンディングすることを特徴としている。 - 特許庁

例文

To provide a method of manufacturing a ceramic laminate which enables to eliminate a step due to the thickness of a conductor pattern and to suppress the deformation of a ceramic laminate even when making ceramic green sheets thinner and increasing the number of layers, and also enables to suppress the decrease in insulation resistance or the generation of short-circuit defects.例文帳に追加

セラミックグリーンシートを薄層化して積層数を増加した場合にも、導体パターンの厚みによる段差を無くし、セラミック積層体の変形を抑えることができるとともに、絶縁抵抗の低下やショート不良の発生を抑制できるセラミック積層体の製法を提供する。 - 特許庁

例文

By this manufacturing method, a silicon nitride film 7 of about 4 nm or smaller in thickness is formed on a silicon oxide film 6 formed on the top surface of a semiconductor substrate 1 and then the silicon nitride film 7 and silicon oxide film 6 in an region B where a thin gate insulating film is formed are removed in the order, by using a resist pattern 8 as a mask.例文帳に追加

半導体基板1の表面に形成された酸化シリコン膜6の上層に約4nm以下の窒化シリコン膜7を形成し、次いでレジストパターン8をマスクとして、薄いゲート絶縁膜を形成する領域Bの窒化シリコン膜7および酸化シリコン膜6を順次除去する。 - 特許庁

The surface-shaping method comprises pressing the shaping layer side of the sheet or the laminate by using a mold, and separating the mold (at a mold-separating temperature: T3 which satisfies the relation of 20°CT3Ts) to afford a shaped product to the surface of which the mold pattern is transferred.例文帳に追加

表面賦形方法は、シートまたは積層体の賦形層側を、金型を用いて加圧し、次いで金型を離型する(離型温度:T3)ことにより、表面に金型形状が転写された成形品を形成する方法であって、離型温度T3が20℃≦T3≦Tsである。 - 特許庁

To provide a developing method which has a function to replace a developing solution to restrain a dissolved resist from staying so as to promote development, and is capable of forming a three-dimensional resist pattern which is very accurate and uniformly developed when a thick resist layer is developed.例文帳に追加

厚みのあるレジスト層を現像する場合に、溶解したレジストが滞留しないように現像液の置換機能を持ち現像処理を促進させ、且つ、現像処理の均一性が高い、高精度な3次元形状のレジストパターン形成ができる現像方法を提供する。 - 特許庁

By using a droplet discharging method, a second solvent 223 is discharged to the functional regions 117 of an organic EL panel 1 and then evaporated so that a checkered pattern in planar view of regions 117 is drawn with the solvent in order to equalize the solvent evaporation rates in the functional regions 117 of the organic EL panel 1.例文帳に追加

この場合、有機ELパネル全面に溶媒が同時に供給されるため、有機ELパネルの中心部と外周部との間には、溶媒の揮発に伴う溶媒雰囲気の濃度に分布が生じ、有機EL素子の特性に大きな分布が発生するという課題がある。 - 特許庁

In this character recognizing method, the information of a word dictionary storing part 13 and a character pattern storing part 12 is successively read, and when the compared result of the number of valid word characters stored in the storing part 12 with the number of word characters successively read from the word dictionary is not within the number of character range, the next word is read.例文帳に追加

単語辞書記憶部13及び文字パターン記憶部12の情報を順次読出し、記憶部12に記憶されている有効単語文字数と単語辞書より順次読出された単語文字数との比較結果が文字数範囲内でない場合は、次単語を読出す。 - 特許庁

To provide a metallic pattern forming method capable of forming fine metallic patterns, without performing etching process and forming the metallic patterns having superior adhesiveness between a base material and a metal film and having a high thermal resistance, even when there is little irregularities of the base material interface.例文帳に追加

エッチング工程を行うことなく微細な金属パターンの形成が可能であり、且つ、基材界面の凹凸が少ない場合でも基材と金属膜との密着性に優れた耐熱性の高い金属パターンを形成しうる金属パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist surface modifying liquid and a method for forming a resist pattern using the resist surface modifying liquid used as a surface treatment liquid prior to the post exposure baking (PEB) processing of a resist film to reduce the water repellency of the resist film to thereby restrain the occurrence of a defect.例文帳に追加

レジスト膜の露光後加熱処理(PEB)工程前の表面処理液として用いられるレジスト表面改質液であって、レジスト膜の撥水性を低下させ欠陥の発生を抑制できるレジスト表面改質液及びこれを利用したレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a repairing tool for a molding which can materialize a high recovery of the minute unevenness of a repair part and minimize the dislocation of a pattern and the level difference of the repair part in repairing a molding having the minute unevenness on the surface and a repairing method using the tool.例文帳に追加

微細凹凸を表面に有する成形品の補修において、補修部の微細凹凸の高復元率を実現し、パターンのズレや補修部の段差を最小限に抑えることができる成形品のための補修具及びそれを用いた補修方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method or means of making improved flexible grip, such as a golf club grip, whose color design has abrasion resistance and resistance maintaining a pattern and graphic properties of a surface of a rubber while providing a decorative design and the softness and grip functions of the rubber.例文帳に追加

色彩デザインが摩耗抵抗と耐性を有し、ゴムの表面の模様とグラフィック性を維持すると共に、装飾的なデザインを備えてゴムの柔らかさとグリップ機能を提供するゴルフクラブグリップのような改良した柔軟性グリップを製造する方法または手段を提供する。 - 特許庁

The method of patterning the converted film comprises a step for laying a pattern mask in the presence of air over the ordinal pressure on a surface of polysilazan applied to a base surface, exposing it to short-wavelength UV rays having wavelengths of 100-280 nm, and dissolving and removing unexposed portions by an developing solution.例文帳に追加

該転化膜をパタ−ン化する方法は、基体面に塗膜されたポリシラザン面に、常圧以上の空気の存在下でパタ−ンマスクを載置し、これに100〜280nmの波長を有する短波長紫外線を露光して後、未露光部分を現像溶剤にて溶解除去すること。 - 特許庁

The method includes a step of preparing a board for treatment by allowing the surface of a flexible resin board to contact with an ozone solution, a step of subjecting the surface of the board to electroless deposition for the formation of an electroless plate coating on the surface, and a step of forming a wiring pattern on the electroless plate coating.例文帳に追加

フレキシブル樹脂基板の表面とオゾン溶液とを接触させて処理基板を形成する工程と、処理基板の表面を無電解めっき処理して無電解めっき被膜を形成する工程と、無電解めっき被膜上に配線パターンを形成する工程と、を含む。 - 特許庁

To determine steps or unevenness formed on a sample by a simple technique or obtain three-dimensional information by using a charge particle beam device such as a scanning electron microscope, and particularly to provide a determination method or its device suitable for unevenness determination of a line and space pattern formed on a sample.例文帳に追加

走査電子顕微鏡等の荷電粒子線装置で、簡単な手法で試料上に形成された段差及び凹凸の判定、或いは3次元情報を得ることにあり、特に試料上に形成されたライン&スペースパターンの凹凸判定に好適な判定方法、及び装置を提供する。 - 特許庁

This method for controlling an ink supply to the offset printing machine decides at least the ink supply of an offset printing machine based on a variation of an ink film thickness on an inking roller, and a variation of a pictorial pattern print density on a paper space.例文帳に追加

オフセット印刷機の少なくともインキの供給について、(イ)インキングローラー上のインキ膜厚の変化量、(ロ)紙面内の絵柄の印刷濃度の変化量、以上の(イ)および(ロ)にもとづいて判断することを特徴とするオフセット印刷機のインキ供給量制御方法を提供する。 - 特許庁

This decoration sheet for the game board decoration panel of the game machine is formed by providing a printing layer of designed pattern on one side surface of a sheet made of a biodegradable resin having a biodegradability by a testing method selected from testing methods of JIS K 6950, JIS K 6951, and JIS K 6952.例文帳に追加

JIS K 6950、JIS K 6951、及びJIS K 6952から選ばれるいずれかの試験法にて生分解性を有する生分解性樹脂からなるシートの片面に意匠模様の印刷層を設けた遊技機の盤面化粧板用装飾シートを用いる。 - 特許庁

To provide a substrate for semiconductor device with which high density wiring is formed, and a production method for substrate for semiconductor device with which conductive coating such as metal coating can be easily and furely formed on a surface in one part of the conductor pattern of the substrate for semiconductor device by electrolytic plating.例文帳に追加

高密度配線が形成された半導体装置用基板と半導体装置用基板の導体パターンの一部表面に電解めっきにて容易、且つ確実に金被膜等の導電性皮膜を形成できる半導体装置用基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a substrate processing method with less damage such as a pattern peel-off when performing a processing of removing a residual substance such as a sacrifice film after etching a film to be etched, by solubilizing this residual substance in a prescribed liquid and subsequently removing the residual substance by this prescribed liquid.例文帳に追加

被エッチン膜をエッチング後、犠牲膜等の残存物質を除去する処理を、その残存物質を所定の液に可溶化し、次いで、その所定の液により残存物質を除去することで行う際に、パターンはがれ等のダメージが少ない基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a bottom-up type nano-device, which initiates a reaction from a potential singular point on a substrate, and regularly arranges compound molecules so as to accelerate a chain reaction utilizing the arranging pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上のポテンシャル特異点から反応を開始させた、ボトムアップ式のナノデバイスの製造方法を提供すること、規則性をもって化合物分子を配列させ、この配列パターンを利用して連鎖反応を促進するナノデバイスの製造方法を提供することなどを目的とする。 - 特許庁

In the exposure method to expose a substrate 100 by successively changing the exposure position on the substrate 100 to be exposed via a pattern of a photomask 4 which is not in contact with the substrate, inert gas is jetted to a limited area which includes the exposure position and is smaller than the entire substrate 100.例文帳に追加

フォトマスク4のパターンが非接触で露光される基板100上の露光位置を漸次変化させて基板100の露光を行なう露光方法において、露光位置を含むとともに、基板100全体よりも狭い限定された範囲に向けて不活性ガスを噴出する工程を備える。 - 特許庁

To provide a method for producing a mask with a heat transfer printer by which a mask can easily be produced even by an average man by printing and forming a mask pattern by the heat transfer of ink on an ink ribbon to the top of a film sheet comprising paper for OHP(overhead projector) or the like with a commercially available heat transfer printer.例文帳に追加

本発明は、市販の熱転写プリンタを用いて、OHP用紙等からなるフィルムシート上にインクリボンのインクを熱転写してマスクパターンを印刷形成することにより、一般の人でも容易に製造が可能な、熱転写プリンタを用いたマスク製造方法を提供すること。 - 特許庁

In this printing method, auxiliary information F is read in an auxiliary information read means 12 from image data S0', in which the auxiliary information F is deep layer ciphered and embedded, the image data S0'' from which the auxiliary information F is separated are obtained, and they are inputted to a pattern embedding conversion means 3.例文帳に追加

付帯情報Fが深層暗号化されて埋め込まれた画像データS0′から付帯情報読出手段12において付帯情報Fを読み取るとともに、付帯情報Fが分離された画像データS0″を得、これらをパターン埋込変換手段3に入力する。 - 特許庁

The halftone phase shift mask has a structure where a pattern recognized by a difference in the reflectance depending on the presence or absence of a light shielding layer on a phase shift layer is used as an identification mark of the mask, and the mask is manufactured by the manufacturing method for simultaneously forming the identification mark with other patterns of the light shielding layers.例文帳に追加

位相シフト層上の遮光層の有無による反射率の差に起因して認識されるパターンを当該マスクの識別マークとする構造のハーフトーン型位相シフトマスクであって、識別マークを遮光層のパターンと同時に形成する製造方法により作製する。 - 特許庁

The method for forming the special image comprises the steps of forming a pattern of an image diffusion receiving layer by using an image diffusion receiving layer forming material containing a resin having a softening point of 50°C to 120°C or components of fats and oils on the base material, and thereafter forming the image on the surface of the base material or the receiving layer.例文帳に追加

基材上に50℃ないし120℃の軟化点を有する樹脂または油脂成分を含有する画像拡散受容層形成材料を用いて画像拡散受容層のパターンを形成し、その後、基材表面及び画像拡散受容層表面上に画像を形成する。 - 特許庁

To provide a method for knitting a knitted fabric without having a problem of not obtaining an expected inlay state since an inlay yarn is pushed out to the outside of tooth opening even on inserting the inlay yarn from a race bar which is not in the uppermost step, and capable of extending the range of a pattern expression, and also to provide a device for designing.例文帳に追加

最上段ではないレースバーからインレイ糸を挿入しても、インレイ糸が歯口外に押し出されて期待するインレイ状態が得られなくなる問題が発生しないで、柄表現の範囲を広げることができる編地の編成方法、およびデザイン装置を提供する。 - 特許庁

By this method, a pattern type magnetic recording medium in which, in the second magnetic recording layer 26, a region 40 where the atomic content of the ferromagnetic element becoming a magnetic recording region is relatively large and a region 42 where it is relatively small are present in the intra-substrate plane direction periodically, is manufactured.例文帳に追加

この方法により、第二磁気記録層26において磁気記録領域となる強磁性元素の原子含有率の相対的に大きい領域40と相対的に小さい領域42とが基板面内方向に周期的に存在するパターン型磁気記録媒体を作製する。 - 特許庁

To provide a game device wherein even in the same area, patterns for a topography or the like are changed every time the game is started, and in addition, a balance can be kept in the advance of the game, the skill of a player and the improvement of the capability of characters, and its information recording medium and a topographic pattern determining method.例文帳に追加

同じエリアでもゲームを開始するたびに地形等のパターンが変更されるだけでなく、ゲームの進行とプレイヤの力量やキャラクタの能力の向上にバランスを保つことのできるゲーム装置、その情報記録媒体および地形パターン決定方法を実現する。 - 特許庁

Then, the pattern extracting device judges whether the background parts of the extracted character string areas are of uniform colors (S92), and when the background parts are of uniform colors, extracts patterns from the character string areas with enhanced precision by using a method to extract small characters on the background of the uniform color (S93).例文帳に追加

次に、抽出された文字列領域の背景部分が均一色か否かを判定し(S92)、背景部分が均一色であれば、一様色の背景上の小さな文字を抽出する方法を用いて、文字列領域からより詳細にパターンを抽出する(S93)。 - 特許庁

In the pattern forming method, when the at least one photosensitive resin layer contains a naphthoquinonediazido derivative, in the step of transferring the photosensitive transfer material, a substrate temperature is 120-180°C, a roll temperature is 130-160°C, or a conveyance speed is 1-2 m/min.例文帳に追加

また、少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性転写材料の転写工程の基板温度が120℃以上180℃以下、又はロール温度が130℃以上160℃以下又は搬送速度が1m/分以上2m/分以下であるパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a method of preparing an ornamental material array pattern diagram, etc., capable of quickly and very easily selecting an optimum ornamental material from among ornamental materials on hand without needing to be skillful even in the case of reproducing a design, etc., using complicated and many kinds of ornamental materials.例文帳に追加

複雑かつ多種類の装飾材を用いる絵柄等を再現する場合でも、熟練を要することなく手持ちの装飾材の中からより最適な装飾材を迅速かつ極めて容易に選択できる装飾材配列パターン図の作製方法等を提供する。 - 特許庁

To prepare a transparent photocatalyst film which can impart photocatalytic functions to a substrate merely by sticking it thereto when the pattern or handle of the substrate is required to be fully utilized or when photocatalytic functions are required to be imparted to a transparent body and which can be easily manufactured by a coating method.例文帳に追加

基材の模様や風合いを生かしたい場合や透明体に光触媒機能を付与したい場合には貼付するだけで光触媒機能を付与できる透明な光触媒膜で、しかもコーティング法により簡易に製造できる光触媒膜を提供する。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern comprises forming a resist film on a surface to be processed, forming a resist cover film by using the above described resist cover film forming material on the resist film, irradiating the resist film through the resist cover film with exposure light by liquid immersion exposure, and developing the resist film.例文帳に追加

本発明のレジストパターンの形成方法は、被加工面上にレジスト膜を形成した後、該レジスト膜上に本発明の前記レジストカバー膜形成材料を用いてレジストカバー膜を形成し、該レジストカバー膜を介して前記レジスト膜に対して液浸露光により露光光を照射し、現像する。 - 特許庁

To provide an information providing system, a terminal device, a server device, an information providing device, an information providing method, and a program that provide an action index suitable to a user without ruling and using extracted features like a movement pattern, etc.例文帳に追加

移動パターン等のように抽出した特徴をルール化して利用することなく、利用者に適切な行動指標を提供することができる、情報提供システム、端末装置、サーバ装置、情報提供装置、情報提供方法、および、プログラムを提供することを課題とする。 - 特許庁

The image forming apparatus and the image forming method are characterized by controlling either the amount of affixed ink per unit area or a dot distribution pattern in an overlapping region in accordance with input gradation when the printing data are distributed into the nozzles in the overlapping region.例文帳に追加

オーバーラップ領域において、印字データを前記ノズルに分配するとき、入力階調に応じて、前記オーバーラップ領域の単位面積当たりのインク付着量及びドット分配パターンのいずれかを制御することを特徴とする画像形成装置、及び画像形成方法である。 - 特許庁

To provide a pleated skirt performing the most natural and stable pleats while comprising straight line pleats not causing a decline in a mass production property, and designed in view of the lady's body shape; to provide a method for making the skirt; and to provide a paper pattern of the pleated skirt suitable for making the pleated skirt.例文帳に追加

女性の体型の特徴に着目し、量産性を低下させることがない直線プリーツでありながら、最も自然で安定したプリーツを得ることができるプリーツスカート、及び、その製造方法、並びに、同プリーツスカートの製造に適するプリーツスカート用型紙の提供を図る。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method, capable of surely connecting the divided patterns together, lessening a width change in a line at a joint between the transferred patterns, when the divided patterns are formed on a mask and then transferred to a resist for the formation of the pattern of a semiconductor device.例文帳に追加

分割されたパターンをマスク上に形成し、レジストに転写して半導体装置のパターンを形成する際に、転写されたパターンの接続部の線幅変化を小さくし、分割されたパターンを確実に接続できるような半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the method for forming the refractive index pattern, a hybrid material comprising a polysilane compound and an inorganic compound is irradiated with an active energy line via a mask, a polysilane decomposition product of the irradiated part is removed, and then the whole hybrid material is hardened by heating.例文帳に追加

ポリシラン化合物と無機化合物からなるハイブリッド材料にマスクを介して活性エネルギー線を照射し、この照射部分のポリシラン分解物を除去した後に、ハイブリッド材料全体を加熱して硬化させることを特徴とする屈折率パターンの形成方法。 - 特許庁

To provide a golf club head having a clear printed pattern formed on the surface of a metal golf club head by an ink jet printing means and forming a decorative layer with superior durability preventing the peeling and abrasion for a long period of time, and its manufacturing method.例文帳に追加

金属製のゴルフクラブヘッドの表面にインクジェット印刷手段により施された鮮明な印刷模様を得ることができ、かつ、長期に亙って剥離や摩耗することなく耐久性に優れた装飾層を形成することを可能とするゴルフクラブヘッド及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method that reduces variance in line widths of resist patterns between substrates without increasing a processing time when the resist pattern is formed on each substrate having a resist film formed by performing exposure a plurality of times and also carrying out heating processing and developing processing.例文帳に追加

レジスト膜が形成された各基板に、露光を複数回行い、加熱処理及び現像処理を行うことによってレジストパターンを形成する際に、処理時間を増大させず、基板間のレジストパターンの線幅のばらつきを低減できる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electrode catalyst layer keeping mechanical intensity, and having a high gas dispersion property in a pattern shape in a thickness direction to a polyelectrolyte membrane, and a high effective utilization factor of a catalyst, in an electrode catalyst layer for a solid polyelectrolyte fuel cell.例文帳に追加

固体高分子電解質型燃料電池用電極触媒層において、機械的強度を保ちつつ、高分子電解質膜に対して厚さ方向にパターン状にガス拡散性が高く、触媒の有効利用率が高い電極触媒層の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a multilayer wiring board capable of forming a minute circuit pattern having a highly reliable electrical connection between circuit layers, and having a step of electrically connecting between circuit layers at low cost within a short step without requiring a lot of devices.例文帳に追加

回路層間の電気的接続の信頼性が高く、細密な回路パターンを形成することが可能であり、工程が短く、多くの装置を必要とすることなく、低コストで行うことのできる回路層間の電気的接続工程を有する多層配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a manufacturing method of a tire vulcanizing mold capable of precisely manufacturing the tire vulcanizing mold in a short time by continuously molding a pattern molded article comprising a heat-resistant thermoplastic resin on the profile surface of a sector mold integrally at a constant pitch.例文帳に追加

セクターモールドのプロファイル面に、耐熱性の熱可塑性樹脂から成るパターン成形物を射出成形により一体的に、かつ一定ピッチで連続的に成形することで、タイヤ加硫用成形金型を短時間に精度良く製造できるタイヤ加硫用成形金型の製造方法を提供する。 - 特許庁




  
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