「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(436ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a semiconductor device package of a structure that the expansion of the package and cracking in the package, which are caused by the conversion of water into water vapor due to heat which is generated when a solder is reflowed, can be prevented without restricting the pattern of a circuit board, and to provide a manufacturing method of the package.例文帳に追加

回路基板のパターンを制約することなく、はんだをリフローする際の熱により水が水蒸気となることにより生じる、半導体装置パッケージの膨れやクラックを防止することができる半導体装置パッケージおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, each of the grounds of the frame 21 including the ground 25 and grounds 25a to 25d, which are adjacent to each other with an interval equivalent to 1/20 wavelength of a frequency as the purpose of shielding, is connected to the ground pattern of the substrate 10 by a soldering method or the like.例文帳に追加

さらに、接地箇所２５及び接地箇所２５ａ乃至２５ｄを含めシールドの目的とする周波数の２０分の１波長相当以下の間隔をおいて隣り合う枠部２１の接地箇所のそれぞれを、はんだ付け等の方法により基板１０の接地パターンに接続する。 - 特許庁

In this case, analytic object data instructions for determining which data should be analyzed, a detection rule for determining the difference and the features, a normal pattern being the object of comparison for detecting the difference and an output method for detected signal are optionally set.例文帳に追加

このとき、シグナル検出手段では、どのデータを対象とするかという分析対象データ指示や、差異および特徴点と判断するための検出ルールや、差異を検出する比較対象となる通常のパターン、ならびにシグナルを検出したときの出力方法をオプション設定する。 - 特許庁

To provide a coated body stably and surely exhibiting such good tactile feelings as wet touch and smooth touch, and various design properties such as a very soft elastic feeling, a rather rigid elastic feeling and a leather-like embossed pattern, on substrates of any kinds and shapes, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

どのような種類や形状の基材にもしっとり感、さらさら感等の好触感と非常にソフトな弾性感や硬めの弾性感と革しぼなどの様々な意匠性とを安定的かつ確実に発現した塗装体、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing the light-emitting element includes a process for forming the irregularities on the first main surface of the A1_20_3 substrate by using the self-organization pattern of the block copolymer or the graft copolymer and a process for forming the light-emitting layer on the first main surface of the A1_20_3 substrate.例文帳に追加

発光素子の製造方法はブロックコポリマーまたはグラフトコポリマーの自己組織化パターンを用いて、Ａｌ_２Ｏ_３基板の第一主面に凹凸を形成する工程と、前記Ａｌ_２Ｏ_３基板の第一主面上に発光層を形成する工程と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

In this construction method for reducing shock caused by falling rocks for protecting the shelter 10 for protecting a road and a track for railroad from falling rocks and accumulated snow from the shock caused by falling rocks, tire chips obtained by crushing pattern disposed tires 1 or disposed tires are spread all over a top face of the shelter 10.例文帳に追加

道路や鉄道用軌道等を落石や積雪から保護するためのシェルター１０を落石の衝撃から保護するための落石衝撃の緩和工法において、シェルター１０の天面上に、原型廃タイヤ１、または廃タイヤを破砕して得られるタイヤチップを敷き詰める。 - 特許庁

To provide a method and device for acquiring the three-dimensional information capable of enhancing the lamination accuracy of the shape information and surface attribute information of an object photographed by correcting the dislocation of a pattern light photographed image from a normally photographed image.例文帳に追加

本発明は、パターン光撮影画像と通常撮影画像とのずれを補正することによって、被撮影物の形状情報と表面属性情報の張り合わせ精度を向上させることを可能とした３次元情報取得装置及び３次元情報取得方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an artificial marble having natural stock feeling, transparent feeling, depth feeling and high grade feeling which do not incorporate in prior art by forming a resin layer with a pattern having the transparent feeling and the depth feeling and using a translucent type as a casting resin composition.例文帳に追加

透明感や深み感のある模様付き樹脂層を形成すると共に、注型用樹脂組成物として半透明タイプのものを用いることによって、従来にない天然素材感、透明感、深み感、高級感を備えた人造大理石の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mesa type piezoelectric vibrator which prevents the generation of stage cutting of an electrode in a level difference of a thick part and a thin part at a drawing electrode forming time, and which has high reliability in a method of manufacturing a mesa type piezoelectric vibrator of etching a piezoelectric substrate with an electrode pattern used as a protective film.例文帳に追加

電極パターンを保護膜として圧電基板をエッチングするメサ型圧電振動子の製造方法において、引出電極形成時に肉厚部分と肉薄部分との段差に電極の段切れが発生することを防止し、信頼性高いメサ型圧電振動子を提供することを目的とする。 - 特許庁

A substrate adhesive layer 2 including a coupling material is formed on a substrate 1, then an underclad layer 3 is layered on the substrate adhesive layer 2 and a core layer 4b is further formed on the underclad layer 3 in a prescribed pattern employing a wet process method using developer.例文帳に追加

基板１上にカップリング剤含有の基板密着層２を形成した後、この基板密着層２上にアンダークラッド層３を積層形成し、さらに上記アンダークラッド層３上に、現像剤を用いたウェットプロセス法により所定のパターンにコア層４ｂを形成する。 - 特許庁

To provide an acid-unstable group effective for a fluorine-containing compound; a fluorine-containing compound, a fluorine-containing polymerizable monomer, and a fluorine-containing polymer compound, all of them having an acid-unstable group or groups with high transparency and etching resistance; a photoresist using them; and a pattern formation method.例文帳に追加

含フッ素化合物にとって効果的な酸不安定基を提供し、さらに酸不安定基自体に高い透明性、エッチング耐性を持たせた含フッ素化合物、重合性単量体、高分子化合物、又はそれらを用いたフォトレジスト及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a control method of a card game AI which makes a game AI be played by flexibly applying a play model which exceeds the limit of the game AI only played according to a pattern formerly set by a game producer and reflects the modern game tendency, and a control system of the card game AI.例文帳に追加

本発明は、従来にゲーム製作者が設定したパターン通りにのみプレイされたゲームＡＩの限界を超え、近来のゲーム性向を反映するプレイモデルをゲームＡＩが柔軟に適用してプレイされるようにするカードゲームＡＩ制御方法およびカードゲームＡＩ制御システムに関する。 - 特許庁

To provide a means of improving reliability while reducing a cost and simplifying a manufacturing process for a manufacturing method of an electronic device having a structure for connecting a substrate body with a conductive pattern formed thereon via an insulation layer using a bump, a substrate and a semiconductor device.例文帳に追加

基板本体とその上部に絶縁層を介して形成される導電パターンとをバンプを用いて接続する構造を有する電子装置の製造方法及び基板及び半導体装置に関し、低コスト化及び製造工程の簡単化を図りつつ信頼性の向上を図る手段を提供する。 - 特許庁

In the laser marking method, a marking pattern is formed on a marking object 6 by irradiating the marking object 6 with pulsed light oscillated from a pulsed light source 1 of an MOPA structure in which a semiconductor laser outputting directly-modulated pulsed light is used as a seed light source.例文帳に追加

当該レーザマーキング方法は、直接変調されたパルス光を出力する半導体レーザを種光源として使用したＭＯＰＡ構造のパルス光源１から発振されるパルス光をマーキング対象物６に照射することで、マーキング対象物６にマーキングパターンを形成していく。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a printed wiring board with high reliability at low cost by making a clear pattern transfer on an insulating layer on the board an filling the precessed circuit form, which indicates the transferred wiring, with conductive paste without using injection molding or transfer molding.例文帳に追加

射出成型やトランスファ成型を用いることなく、基板上の絶縁層に鮮明な配線転写を行い、更に転写された配線を示す凹型回路型に配線用導電性ペーストを充填することによって、高い信頼性を持つ印刷配線板の製造方法を安価に提供する。 - 特許庁

A method for producing a conductive wiring pattern comprises the steps of: applying a photosensitive conductive paste composed of both an inorganic powder containing a conductive filler and an organic component containing a photosensitive conductive component onto a substrate; exposing the applied photosensitive conductive paste via a photomask; and thereafter performing press processing and development in this order.例文帳に追加

基板上に、導電性フィラーを含む無機粉末および感光性有機成分を含む有機成分からなる感光性導電ペーストを塗布し、フォトマスクを介して露光した後に、プレス加工を施し、その後現像することを特徴とする導電配線パターンの製造方法。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a semiconductor device in which a short circuit caused by fragments of a test pattern is prevented at the time of mounting the semiconductor device by improving the dicing process of a semiconductor wafer, and the yield of an electrooptic device mounting the semiconductor device can be enhanced.例文帳に追加

半導体ウエハの分割工程を改善することによって、半導体装置を実装する場合のテストパターンの破片に起因する短絡不良を防止し、さらに、半導体装置を実装した電気光学装置の歩留まりを向上させることのできる製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a pattern substrate includes a step of exposing a resist through the halftone mask and developing the resist to form resist patterns 81, 82, 83 in different film thicknesses, and etching films 6, 7 on the substrate through the resist patterns 81, 82, 83.例文帳に追加

また、本発明にかかるパターン基板の製造方法は、ハーフトーンマスクによってレジストを露光する工程と、レジストを現像し、膜厚差を有するレジストパターン８１、８２、８３を形成する工程と、レジストパターン８１、８２、８３を介して基板上の膜６、７をエッチングする工程と、を備える。 - 特許庁

To obtain a silicon-containing photosensitive resin capable of exhibiting excellent performances as a resist material for a multi-layered resist method or a resist material for forming plasma display panel(PDP) ribs, especially a resist material excellent in plasma resistance [O2-reactive ion etching(RIE) resistance] and capable of providing a high aspect ratio when forming a pattern.例文帳に追加

多層レジスト法用のレジスト材やＰＤＰ障壁形成用レジスト材として優れた性能を示すケイ素含有感光性樹脂を提供すること、特に、耐プラズマ性（耐Ｏ_2−ＲＩＥ）性に優れると共に、パターンを形成したとき、高いアスペクト比を得ることができるレジスト材を提供すること。 - 特許庁

To provide an optical shape-measuring apparatus for solving the problem of deterioration in shape measurement accuracy, by preventing the deterioration in the S/N of the quantity of light, in an optical shape measurement method for obtaining an illumination angle from information on the quantity of light of pattern light irradiated.例文帳に追加

照射角度を、照射されたパターン光の光量の情報から求める光学的形状測定方法において、光量のＳ／Ｎの劣化を防止して、形状測定精度が劣化するという問題を解消した光学的形状測定装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive variable refractive index composition for an optical material so that the refractive index of the material can be varied by an easy method, the difference in the varied refractive indices is sufficiently large, and a stable refractive index pattern and optical material can be obtained without depending on the succeeding use conditions.例文帳に追加

材料の屈折率変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した屈折率差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によらずに安定な屈折率パターンや光学材料を与えることができる感放射線性、屈折率変化性組成物を提供すること。 - 特許庁

To improve a finishing precision and productivity by preventing the generation of dislocation in the boundary part between a molding and a decorative material in a method in which the decorative material is fitted in the recessed part of the molding to be bonded/fixed and to form a complex inlaid pattern.例文帳に追加

加飾素材を成形品の凹陥部にはめ込んで接着固定する手法において、成形品と加飾素材の境界部にずれが発生することがないようにして仕上がりの精度および生産性を向上するとともに、複雑な象嵌調の模様の形成を可能とする。 - 特許庁

To provide a surface-treatment method for preventing the bleeding of a printed pattern on a material printed with a water-based dye ink by imparting the printed material with water resistance without deteriorating the touch and softness of a fibrous supporting material such as Japanese paper or causing the problems of appearance such as wet color and luster.例文帳に追加

和紙などの繊維製支持体の風合いや柔軟性を損ねたり、濡れ色や照りといった外観上の問題を生じることなく、耐水性を付与して水性染料インクによる印刷を施した印刷物の該印刷の滲みを防止する表面処理方法を提供する。 - 特許庁

The method comprises the steps of making an inorganic thin film deposited on a substrate, forming a hemispherical photoresist pattern on the inorganic thin film, and forming a microlens of the hemispherical inorganic thin film by carrying out a whole surface etch back process for the inorganic thin film.例文帳に追加

基板上に無機物薄膜を蒸着するステップと、前記無機物薄膜上に半球状のフォトレジストパターンを形成するステップと、前記無機物薄膜に全面エッチバック工程を行い半球状無機物薄膜のマイクロレンズを形成するステップとを有することを特徴とする。 - 特許庁

In the method and the apparatus for manufacturing the thin film, a monitor having an electrode pattern is provided on a plastic substrate, and the resistance is monitored and controlled so that the thin film is deposited only on resistance-detection portions of the monitor.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明においてはプラスチック基板上に電極パターンが形成されたモニターを設け、このモニターの抵抗検出部分のみに成膜されるようにして抵抗値をモニター、制御することを特徴とする薄膜の製造方法とその装置である。 - 特許庁

A method for forming the copper electric wiring on the substrate having the fine circuit pattern and a metal seed layer formed thereon for the electronic circuit, comprises immersing the substrate in a treatment liquid containing a polymer component, and subjecting it to electroless copper plating.例文帳に追加

微細な回路パターンが設けられ、金属シード層が形成された電子回路用基板に銅配線を形成する方法であって、該基板をポリマー成分を含有する処理液に浸漬した後、無電解銅めっきを行うことを特徴とする基板の銅配線形成方法。 - 特許庁

The size of a crystallite measured by a Hall method from the integration width of each diffraction peak acquired from an X-ray diffraction pattern is larger than 600 Å and less than 800 Å in the cathode active substance for the lithium secondary battery.例文帳に追加

前記正極活物質において、Ｘ線回折パタ−ンから得られる各回折ピ−クの積分幅からＨａｌｌ法によって測定した結晶子の大きさが600Åより大きく、800Å未満であることを特徴とするリチウム二次電池用正極活物質である。 - 特許庁

The method uses the etching composition which effectively protects a pattern or a storage electrode composed of polysilicon and selectively eliminates the oxidized film in a wet etching process, as a result the oxidized film is eliminated in a high etching ratio and impairment of polysilicon film is inhibited.例文帳に追加

ポリシリコンで構成されたパターン又はストレージ電極を効果的に保護することができるエッチング組成物を用いて、ウエットエッチング工程で酸化膜を選択的に除去するので、高いエッチング選択比で酸化膜を除去できるとともに、ポリシリコン膜の損傷を防止することができる。 - 特許庁

The method includes steps of: selectively depositing a phase change resist having high light transmittance onto a dielectric to form a pattern; etching away portions of the dielectric not covered by the resist; and depositing a metal seed layer on the etched portions of the dielectric.例文帳に追加

方法は、高い光透過性を有する相変換レジストを誘電体上に選択的に堆積させてパターンを形成すること、そのレジストで覆われていない誘電体の部分をエッチング除去すること、並びにその誘電体のエッチングされた部分上に金属シード層を堆積させることを含む。 - 特許庁

The method of constituting components of the semiconductor device by performing the dicing operation when dividing the semiconductor chip 22 includes: measuring the dicing plate unit distance length 31; measuring the dicing stage unit distance length 32; and measuring the semiconductor pattern unit distance length 33.例文帳に追加

半導体チップ２２を分割する際にダイシング作業を行って半導体装置の部品を構成する方法であって、ダイシングブレード部距離長３１を計測することと、ダイシングステージ部距離長３２を計測することと、半導体パターン部距離長３３を計測することとを含む。 - 特許庁

After a conductive material has been embedded in a wiring groove, when an excess portion of the conductive material is removed with a CMP method, a polishing agent is dispersed through a groove formed by the dummy pattern 41, so that polishing amounts of the conductive material and the third interlayer insulation film become uniform.例文帳に追加

配線溝に導電性材料を埋め込んだ後に、ＣＭＰ法により余分な導電性材料を除去するときは、ダミーパターン４１に形成された溝を通って研磨剤が分散されるので、導電性材料や第３層間絶縁膜の研磨量が均一になる。 - 特許庁

To provide a mask dimension measuring instrument, capable of measuring the dimension of the minute pattern or hole on a mask in a non destructive and non contact state with high accuracy and also capable of measuring a long dimension not entering a measuring visual field, and a measuring method using the same.例文帳に追加

マスク上の微小なパターンやホールを非破壊、非接触、かつ高精度に、その寸法を測定することを可能にするとともに、計測視野に入らないような長寸法計測をも可能にする測定装置およびそれを用いた測定方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the method for forming the contact hole toward an S/D region 25 on an interlayer insulating film 40 covering the S/D region 25 on the surface of a semiconductor substrate 20, a resist pattern 50 forming an opening at the upper part of the S/D region 25 is formed on the interlayer insulating film 40.例文帳に追加

半導体基板２０表面のＳ／Ｄ領域２５上を覆う層間絶縁膜４０にＳ／Ｄ領域２５に至るコンタクトホールを形成する方法であって、層間絶縁膜４０上にＳ／Ｄ領域２５の上方を開口するレジストパターン５０を形成する。 - 特許庁

The method includes to decide a reference imaging function, to decide a parameter of a difference function expressing a difference between the reference imaging function and an additional imaging function, and to calculate the difference between the reference image of the pattern and the additional image on the basis of the difference function and decided parameter.例文帳に追加

この方法は、基準結像関数を決定すること、基準結像関数と追加結像関数との差を表す差分関数のパラメータを決定すること、差分関数及び決定されたパラメータに基づいてパターンの基準イメージと追加イメージとの差を計算することを含む。 - 特許庁

To provide a working method which is capable of realizing sharp working of not producing bluntness in corner parts and bent parts in as-designed pattern boundary regions when the corner parts and end bent parts are subjected to deposition processing or etching processing of prescribed patterns by using a convergent ion beam device and a device therefor.例文帳に追加

本発明の目的課題は、集束イオンビーム装置を用いて所定パターンのデポジション加工またはエッチング加工を施す場合に、設計どおりのパターン境界領域であって、角部・曲部に鈍りが出ないシャープな加工を実現出来る加工方法並びにその装置を提供することである。 - 特許庁

This image recognition method of recognizing the object included in the original image data by comparing two-dimensional FFT image data obtained by mapping the original image data to the orthogonal base, with a registration pattern comprising the two-dimensional FFT image data, has a mapping process, a mosaic process and a similarity degree detecting process.例文帳に追加

原画像データを直交基底に写像した２次元ＦＦＴ画像データと２次元ＦＦＴ画像データからなる登録パターンとを比較して原画像データに含まれる物体を認識する画像認識方法であって、写像工程とモザイク化工程と類似度検出工程とを有する。 - 特許庁

To provide a negative photoresist composition with which good resolution is obtained in a pattern forming method in which an underlayer film is disposed on a substrate, a photoresist film comprising a negative photoresist composition is disposed on the underlayer film, and after selectively exposing the photoresist film, the underlayer film and the photoresist film are simultaneously developed.例文帳に追加

基板上に下層膜を設け、該下層膜上にネガ型ホトレジスト組成物からなるホトレジスト膜を設け、該ホトレジスト膜を選択的露光後、該下層膜と該ホトレジスト膜を同時に現像処理するパターン形成方法において、良好な解像性が得られるネガ型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a laminated electronic component, in which when a film is released from a ceramic green sheet in the step of laminating the green sheet in which a conductor pattern is formed, retention of a conductor paste filled in a through-hole at the film side can be suppressed.例文帳に追加

導体パターンを形成したセラミックグリーンシートの積層工程においてセラミックグリーンシートからフィルムを剥離する際、スルーホール内に充填されている導体ペースト部分がフィルム側に残留してしまうのを抑えることができる積層型電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve inconvenience caused by the fact that a wiring is disconnected during sintering on account of unevenness of thickness of the wiring when printing is performed in a ceramics multilayer wiring circuit board which is formed by a method wherein a fine wiring pattern is formed on a green sheet by screen printing and sintering is performed after lamination and contact- bonding are performed.例文帳に追加

微細な配線パターンをグリーンシート上にスクリーン印刷で形成して、積層圧着後、焼結して製造するセラミックス多層配線回路基板に於いて、印刷時の配線の厚さの凹凸に起因して、焼結中に配線が断線するという不都合を解決する。 - 特許庁

To provide an image output apparatus such as a printer printing out dots with a plurality of densities that applies gradation conversion to gradation data of an input image by a prescribed method so as to produce dots wherein occurrence or the like processes of a characteristic pattern liable to be caused in an output image of the image output apparatus is suppressed.例文帳に追加

複数の濃度をもつドットを打ち出すことのできるプリンタなどの画像出力装置において、入力画像の階調データを、所定の手法にて階調変換し、画像出力装置の出力画像に生じうる特異パターンの発生などを抑えたドットを生成すること。 - 特許庁

To provide a mold and an electronic device such as a semiconductor memory having a specific pattern which is directly recorded on a genuine item without impairing design while being simple in constitution to conduct reliable genuine/fake determination, and also hardly duplicated, and to provide a genuine/fake determination method.例文帳に追加

正規品本体に直接記録され、真贋判定パターンによる意匠性が損なわれることがなく、それでいて簡単・確実に真贋判定ができ、かつ容易に複製されることがないようにした成形体、半導体メモリ等の電子機器、及び真贋判定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a decorative panel which can be miniaturized by forming a number of through-openings in a plate to be worked to constitute a letter, a pattern or the like by the formed through-openings and the non-opening parts for imparting color effect at low cost, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

被加工板に多数の貫通開口を開け、開けられた貫通開口部と開けられていない部分によって、文字や図柄模様などを、安価で色彩的効果を付与した、小型化が可能な装飾用パネル、およびその製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

A fine wiring pattern of developed silver generated by a photographic method is provided on one surface of the transparent base material, and a plurality of kinds of metal plating layers selected from among a group of metals consisting of copper (Cu), nickel (Ni) and iron (Fe) are formed on the developed silver layer, thereby manufacturing the electromagnetic wave shielding material.例文帳に追加

前記透明基材の片面に、写真製法により生成された現像銀層の細線パターンを配設し、前記現像銀層の上に、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）からなる金属群の中から選択された複数種類の金属メッキ層を積層して、電磁波シールド材を製造する。 - 特許庁

To enhance a yield by measuring a surface roughness of a wafer with a pattern having fine irregular patterns in a midway of wafer working, and by preventing the yield from getting worse caused by dispersions of file thicknesses and film qualities among the wafers, in a wafer surface inspection method and a wafer surface inspection device.例文帳に追加

ウェハの表面検査方法及び表面検査装置において、ウェハ加工途中の微細な凹凸のパターンを有するパターン付きウェハの表面粗さを測定することを可能にすることで、ウェハ間の膜厚や膜質のばらつきによる歩留まりを向上させることを目的とする。 - 特許庁

In this resist development method for forming the fine pattern of a resist film on a substrate, a resist film is formed with chemical amplification system resist, and an alternating electric field is applied to a resist film on the substrate after an exposure process to expose the resist film and before the resist development process.例文帳に追加

基板上にレジスト膜の微細パタンを形成するレジスト現像方法において、レジスト膜を化学増幅系レジストで形成するとともに、レジスト膜を露光する露光工程の後で、かつ、レジスト現像工程の前に、基板上のレジスト膜に交番電界を印加する。 - 特許庁