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simultaneous solutionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 53件
The method is provided for producing polycarbonate and utilizing at least some of process wastewater by concentrating the sodium chloride-containing wastewater phases for electrolysis by using osmotic membrane distillation, if appropriate, with simultaneous dilution of the sodium hydroxide solution obtained by electrolysis for the polycarbonate production process.例文帳に追加
ポリカーボネートを製造し、浸透膜蒸留を使用して電気分解のために塩化ナトリウム含有廃液相を濃縮し、要すればポリカーボネート製造プロセスのために電気分解によって得られる水酸化ナトリウム溶液を同時に希釈することによる処理廃液の少なくともいくらかを利用する方法を開示する。 - 特許庁
A process for producing the diaryl carbonate and utilizing at least part of the process waste water by increasing the concentration of the waste water phase containing sodium chloride for electrolysis by means of osmotic membrane distillation with simultaneous dilution of the sodium hydroxide solution obtained from the electrolysis for the diaryl carbonate production process (diphenyl carbonate process) is described.例文帳に追加
ジアリールカーボネートを製造し、処理廃水の少なくとも一部を、浸透膜蒸留によって塩化ナトリウム含有廃水相の濃度を増加させることによって、電気分解に利用し、それと同時に、ジアリールカーボネート製造プロセス(ジフェニルカーボネートプロセス)のために、電気分解から得られる水酸化ナトリウム溶液を希釈する方法。 - 特許庁
To provide a resist protective film formed on a resist film in a pattern forming method by liquid immersion lithography, which is insoluble in water and soluble in an alkaline aqueous solution (alkali developer), excels in water-sliding property, does not mix with the resist film, allows good liquid immersion lithography, and also allows simultaneous development of the resist film and removal of the protective film during alkali development.例文帳に追加
液浸リソグラフィーによるパターン形成方法において、レジスト膜上に形成されるレジスト保護膜が、非水溶性でアルカリ水溶液(アルカリ現像液)に溶解可能であり、しかも滑水性に優れ、レジスト膜とミキシングしないものであり、良好な液浸リソグラフィーを行うことができ、またアルカリ現像時にレジスト膜の現像と保護膜の除去とを同時に一括して行うことができる保護膜の提供。 - 特許庁
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