| 例文 | 共起表現 |
spatulatedを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
An etching apparatus of a semiconductor wafer comprises a wafer magazine 3 which is rotated in an etching tank 2 into which an etching solution is supplied and on which many semiconductor wafers W are separated and mounted; and a cleaning solution ejection nozzle disposed just under the semiconductor wafer W with a spatulated cross sectional shape and with a flattened wide opening.例文帳に追加
本半導体ウェーハのエッチング装置は、エッチング液が供給されるエッチング槽2内で回転され多数の半導体ウェーハWが離間して搭載されるウェーハマガジン3と、半導体ウェーハWの直下に配置され、先広がりの断面形状及び扁平幅広の開口部が形成された洗浄液噴出ノズルを備える。 - 特許庁
| 例文 | 共起表現 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|