| 例文 |
transient processesの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
To provide a manufacturing method of a semiconductor element which minimizes TED (Transient Enhanced Diffusion) phenomenon of impurities which is generated in heat treatment process and other successive heat treatment processes for relaxing damage due to ion implantation and prevents lowering of upper film quality caused by outgassing.例文帳に追加
イオン注入による損傷を緩和させるための熱処理工程やその他後続の熱処理工程の際に発生する不純物のTED(Transient Enhanced Diffusion)現象を最大限抑え、アウトガス(ガス抜け)による上部膜質の低下を防止することが可能な半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|