「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 170 171 172 173 174 175 176 177 178 .... 366 367 次へ＞- In the normal mode, when a defect is detected in verify-operation after data is written in the flash memory, subsequent use of the flash memory is stopped.
ノーマルモードでは、フラッシュメモリにデータを書き込んだ後のベリファイ動作において不良を検出すると、以降のフラッシュメモリの使用は停止される。 - 特許庁 - To provide a defect inspection method and its apparatus for speedily and easily determining conditions capable of highly sensitive inspection from among a plurality of inspection conditions.
複数ある検査条件の中から高感度に検査可能な条件を早く簡単に求める欠陥検査方法とその装置を提供する。 - 特許庁 - When a defect is suspected in the mask, a substrate coated with a resist, namely, a test substrate is patterned by exposing through the mask.
マスクに欠陥があると思われる場合には、レジストで被覆した基板、すなわちテスト基板を、マスクを露光することによってパターン形成する。 - 特許庁 - In this case, any defect which can not be classified by the core classifier or the specific adaptive classifiers can be classified by a complete classifier.
コア分級機又は特定の適用可能な分級機によって分類されることができない欠陥は完全な分級機により分類される。 - 特許庁 - By adopting friction welding in place of conventional arc welding, the conventional defect is eliminated and the welding work for a small diameter pipe is facilitated.
従来のアーク溶接に代つて摩擦溶接を採用したことで、従来の欠陥を無くし、しかも小径管の溶接作業を容易にした。 - 特許庁 - To provide a process cartridge and image forming apparatus that suppress charging unevenness in the initial period of use, compared with the conventional art, and prevent an image defect.
従来に比べ、使用初期の帯電ムラが抑制され、画像欠陥が防止されるプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - The defect inspection apparatus is characterized by the direction of a pattern; the direction of the projection of illumination light to a sample, and the polarization of the illumination light.
本発明の特徴は、パターンの方向と、照明光の試料への射影の方向と照明光の偏光に着目したことにある。 - 特許庁 - To provide a device and a method for inspecting a circular lens capable of accurately detecting a defect in a contour part of the circular lens.
円形レンズの輪郭部に存在する欠陥を精度よく検出することができる円形レンズの検査装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a chemical mechanical polishing pad capable of making compatible both the improvement of the flatness of a surface to be polished and the reduction of a polishing defect (scratch).
被研磨面の平坦性の向上と研磨欠陥（スクラッチ）の低減を両立させることができる化学機械研磨パッドを提供する。 - 特許庁 - To provide a treatment method for a mold which can repair a defect composed of a recessed part produced on the surface of the mold at a sufficiently high strength.
金型表面に生じた凹部からなる欠陥を、十分に高い強度で補修することができる金型の処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a finder finding a position on a surface over a hole easily with a small tool in the measurement of hole defect depth on a material surface and the like.
素材表面等の穴欠陥深さ測定において、穴上面の位置を容易にかつ小形の道具で求める測定器を提供する。 - 特許庁 - The tentatively-classified defect image is reclassified by using an ensemble classifier (step S205-S209) to keep on setting the classification sequentially.
そして、仮分類された各欠陥画像をアンサンブル分類器を用いて再分類し（ステップＳ２０５〜Ｓ２０９）、順次分類を確定させてゆく。 - 特許庁 - When the ultrasonic energy of the measuring place is smaller than the ultrasonic energy of the adjacent measuring place, the measuring place is the latent defect position.
測定箇所の超音波エネルギーが、隣接する測定箇所の超音波エネルギーよりも小さい時に、測定箇所は潜在的欠陥位置である。 - 特許庁 - To provide a display panel and manufacturing method therefor, capable of easily detecting a partial defect generated in an external part of a substrate.
基板の外形部分に発生した部分的な欠陥を容易に検出することができる表示パネル、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a blow-molded article which is lightweight and excellent in rigidity while having uneven product thickness and enables molding defect in molding to be reduced.
製品厚みが不均一でありながら、軽量で剛性に優れ、しかも成形時の成形不良を低減できるブロー成形体を提供する。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus capable of quickly and appropriately coping with defect liable to occur in any of a plurality of the image forming apparatuses.
複数の画像形成装置で共通に発生しがちな障害に対し、迅速で的確な対処を行える画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To perform photographing without occurrence of a large noise, by restricting the occurrence of a defect due to blooming resulting from the temperature increase of an image-pickup element.
撮像素子の温度上昇に起因するブルーミングによる欠陥の発生を制限し、大きなノイズを発生させることなく撮影を行う。 - 特許庁 - To provide a defect inspection method which enables detection of defects on an edge line of a surface to be inspected, only on the basis of the binarized images of the surface to be inspected.
被検査面の二値化画像のみに基づいて被検査面のエッジライン上の欠陥を検出可能な欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation detection element that allows repairing of a defect portion, and that minimizes the number of pixels from which charges cannot be read out when repaired.
欠陥箇所をリペアしつつ、当該リペアによって電荷が読み出せなくなる画素数を少なく抑えた放射線検出素子を提供する。 - 特許庁 - Consequently, when a photograph is taken, a warning can be issued that the composition defect of the panoramic image is generated due to the effects of parallax.
これにより、撮影を実行したときに、視差の影響によりパノラマ画像の合成不良が発生することを警告することができる。 - 特許庁 - To provide an intermediate transfer belt which can always form an excellent transfer image by preventing the occurrence of an image formation defect such as character missing.
文字抜け等の画像形成不良の発生を防止して常に良好な転写画像を形成できる中間転写ベルトを提供する。 - 特許庁 - Each of the plurality of memories has a BIST circuit 20 for examining the propriety of defect relieving and outputting a relief propriety signal SR indicating propriety.
複数のメモリの各々は、不良救済の可否を調べ可否を示す救済可否信号ＳＲを出力するＢＩＳＴ回路２０を有する。 - 特許庁 - The first insulating layer 13 is formed so as to cover the high-defect region 10a on the principal surface 10c of the GaN layer 10.
第１の絶縁層１３は、ＧａＮ層１０の主表面１０ｃにおける高欠陥領域１０ａを覆うように形成されている。 - 特許庁 - To provide a substrate holding device that can hold a substrate by a simpler structure, and to provide a defect correction device to which the substrate holding device is applied.
より単純な構造で基板を保持できる基板保持装置と、その基板保持装置を適用した欠陥修正装置とを提供する。 - 特許庁 - To provide a method which can detect a defect of a liquid crystal panel laminated with a polarizer without omission in a state that the liquid crystal panel is not driven.
偏光板を貼合した液晶パネルの欠陥を、液晶パネルを駆動させない状態で、漏れなく検出できる方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an inspection device of an inspection object for stabilizing coordinate accuracy of foreign matter or defect detected on the inspection object.
本発明の目的は、被検査物上に検出される異物や欠陥の座標精度を安定化させる被検査物の検査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an electronic component which can be manufactured in a simple process inexpensively while preventing defect such as cracks of a chip-type component.
チップ型部品におけるクラック等の不具合の発生を回避しつつ、簡便な工程且つ低コストで製造可能な電子部品を提供する。 - 特許庁 - With this arrangement, when a test for detecting a bad address is performed in a wafer state, a defect of a column selection line can be detected.
これにより、ウェハ状態で行われる不良アドレスの検出試験を行う際に、カラム選択線の不良を検出することが可能となる。 - 特許庁 - To provide a weld zone undercut inspection device which can easily detect existence and a magnitude of a weld defect caused by undercut of the weld zone.
溶接部のアンダーカットによる溶接欠陥の存在とその大きさを検出する簡易な溶接部アンダーカット検査装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for producing a polyvinyl alcohol film adapted to an increase in width and length and having excellent conveyance performance and no optical defect.
幅広化や長尺化に対応した、搬送性能に優れ、さらに光学欠点のないポリビニルアルコール系フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To produce a semiconductor substrate having a single crystal silicon layer in which defect, e.g. COP, caused by CZ bulk wafer is eliminated or suppressed drastically.
ＣＺバルクウエハに起因するＣＯＰ等の欠陥のない、あるいは、非常に少ない単結晶シリコン層を有する半導体基板を作製する。 - 特許庁 - A wafer defect inspecting device is built in a positioning device for positioning a wafer 1 which is a substrate to be treated in a semiconductor manufacturing process.
ウェハ欠陥検査装置は、半導体製造プロセスにおいて、被処理基板であるウェハ１の位置決めを行う位置決め装置に組み込まれる。 - 特許庁 - To provide a sheet material capable of easily identifying existence of a defect even after the material is processed to a component and a product.
加工されて個々の部品や製品とされた後であっても欠陥の存在を容易に識別することができるシート材料を提供する。 - 特許庁 - To provide a discrete type bipolar transistor that avoids a defect in fixation due to a step of the thickness of an insulating film of a two-layer electrode structure.
２層の電極構造の絶縁膜の厚み分の段差に基づく固着不良を回避したディスクリート型バイポーラトランジスタを提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an uniform electrogalvanized steel plate having no surface defect of an original plate and an excellent appear ance.
原板の表面欠陥に起因するムラの発生が無い、優れた外観を有する電気亜鉛めっき鋼板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The chip nearby the outer circumference of the wafer that the concentrated defect distribution influences is set as a determination target chip nearby the outer circumference of the wafer (S5).
集中不良分布が影響を及ぼすウエハ外周近傍チップを判定対象ウエハ外周近傍チップとして設定（Ｓ５）する。 - 特許庁 - To provide a pattern inspecting device capable of preventing the occurrence of a pseudo defect by complementing the difference between fine design data and sensor data.
微細な設計データとセンサデータとの差異を補完することで、擬似欠陥の発生を防止することができるパターン検査装置を提供すること。 - 特許庁 - To sufficiently detect a defect of a magnetic metal body, using a magnetic impedance effect type sensor by a magnetic leakage flux testing method.
磁性金属体の欠陥を漏洩磁束探傷試験方法により磁気インピーダンス効果型センサを用いて良好に検出できるようにする。 - 特許庁 - To provide a reflection preventing film which is capable of preventing appearance defect due to heating and which has a film made of a mixed oxide of Ti and La.
加熱による外観不良を防止することのできる、ＴｉとＬａの混合酸化物の層を有する反射防止膜を提供する。 - 特許庁 - Then, the intermediate part of this hole 3a arranged under the surface of an inner ring orbit 5 is made work as an artificial defect.
そして、この孔３ａの中間部を上記内輪軌道５の表面下に配置して、この中間部を上記人工欠陥として機能させる。 - 特許庁 - To provide an ultrasonic inspection method capable of inspecting accurately a defect on a work by suppressing generation of bubbles on the work surface.
ワークの表面での気泡の発生を抑えることにより、ワークの欠陥を精度良く検査することができる超音波検査方法を提供する。 - 特許庁 - To realize a method and an apparatus for inspecting an image defect in which a threshold value in response to the image can be inexpensivly set in a short time.
画像に応じた閾値の設定が短時間に且つ低コストで行える画像欠陥検査方法及び画像欠陥検査装置の実現。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display element with excellent reliability, in which display defect generation caused by air bubbles existing in a liquid crystal is significantly suppressed.
液晶中に存在する気泡による表示不良の発生が顕著に抑制された信頼性に優れる液晶表示素子を提供する。 - 特許庁 - A first redundant memory cell is used when first defective position information indicating a position of defect is programmed in a first redundant program part.
第１冗長メモリセルは、不良の位置を示す第１不良位置情報が第１冗長プログラム部にプログラムされたときに使用される。 - 特許庁 - A plurality of recess processed parts 8 are processed at the position of the bright spot defect occurs on a second glass plate 11 constituting a CF substrate.
ＣＦ基板を構成する第２のガラス板１１の上記輝点不良が発生している画素の部位に複数の凹欠加工部８を加工する。 - 特許庁 - An array of holes 20 arranged two-dimensionally and having a point defect in the center without a hole is formed in an upper Bragg reflector 15.
上部ブラッグ反射鏡１５には、円孔（空孔）が存在しない点欠陥を中央部に有する２次元円孔配列２０が形成される。 - 特許庁 - A step S309 determines presence or absence of a linear defect on the test object based on a result of comparing the corrected additional value with a threshold value.
ステップＳ３０９では、補正後の加算値と閾値を比較した結果に基づいて、検査対象物上の線状欠陥の有無を判定する。 - 特許庁 - To provide a coupling structure for a shaft and a yoke of a universal joint capable of preventing a defect associated with the occurrence of backlash over a long period.
長期にわたって、がたつきの発生に伴う不具合を防止することができるシャフトと自在継手のヨークの結合構造を提供する。 - 特許庁 - To prevent deformation of a blank caused by conduction of friction heat and non-filling defect caused by the deformation while treating a wide range with go and back shifting.
往復移動により広い領域を処理しつつ、摩擦熱の伝導による素材の変形や変形による未充填欠陥を防止する。 - 特許庁 - Dangling bond close to the surface of the nitride semiconductor layer 15 is terminated with hydrogen, so that the inter-electrode leakage caused by a surface defect is suppressed.
窒化物半導体層１５の表面近傍のダングリングボンドを水素で終端し、表面欠陥に起因する電極間リークを抑制する。 - 特許庁
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