「Due Process」を含む例文一覧(2146)

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  • Since deficiencies in the polishing pad 30 can be verified, process failures such as scratch which occur in a polishing process due to a deficiency of the polishing pad 30, can be minimized.
    研磨パッド３０の欠陥を確認することができるので、研磨パッド３０の欠陥により研磨工程時に発生するスクラッチなどのような工程不良を最小化する。 - 特許庁
  • The work 2 to be inspected whose noise due to the internal leakage is large in the third process is subjected to a fourth process, in which the noise is removed, and the existence of the external leakage is then determined.
    この第３工程にて、内部漏れによるノイズが大きい被検査ワーク２は、このノイズを除去する第４工程を行った後に外部漏れの有無判定を行う。 - 特許庁
  • An influence due to the change of film thickness in a dry process after fusion of droplets is reflected on the variable density level distribution chart prepared on a variable density level distribution chart preparing process.
    この濃淡レベル分布図作成工程で作成された濃淡レベル分布図は液滴の融合後の乾燥過程での膜厚変化による影響が反映されている。 - 特許庁
  • To perform high quality printing by performing a maintenance process under an optimal condition in response to a maintenance request during print process thereby preventing positional shift of a sheet due to advance or retract during the maintenance process.
    印字工程中のメンテナンス要求に対し、最適な状態でメンテナンス工程を行ない、メンテナンス工程中の用紙の前進・後退による用紙の位置ずれを防止して、品質の高い印字を可能にする。 - 特許庁
  • To suppress dimensional change rate of an electrolyte film due to water absorption and drying while constraining a production process from getting complex.
    製造工程の複雑化を抑えつつ、吸水および乾燥に伴う電解質膜の寸法変化率を抑制する。 - 特許庁
  • Thus, the semiconductor device is provided, in which the increase in the hysteresis and drop in the mobility due to thermal process are small.
    これにより、熱処理によるヒステリシスの増加および移動度の低下の小さい半導体装置とすることができる。 - 特許庁
  • To provide an apparatus of processing a substrate which can sufficiently prevent insufficient processing of a substrate due to deposit of a process liquid.
    処理液の析出物に起因する基板の処理不良を十分に防止できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To suppress occurrence of failure due to static electricity in a production process or in a product of an active matrix display device.
    アクティブマトリクス型の表示装置の作製工程又は完成品における静電気による不良の発生を抑制する。 - 特許庁
  • To prevent an oxide film on a wafer from increasing in thickness due to gas originated from a CVD oxide film on the wafer in a high-temperature annealing process.
    高温アニール時にＣＶＤ酸化膜からのガス発生による他のウェハの酸化膜厚の増加を防止する。 - 特許庁
  • Dynamic strain of the milling attachment due to a tentative processing of a work is measured by a dynamic strain measurement (Process P11).
    動的歪み測定（プロセスＰ１１）において、工作物の試験加工によるフライス装置の動的歪みを測定する。 - 特許庁
  • To suppress swelling or shrinkage of a resin layer due to contact of the resin layer with an organic solvent used in a manufacturing process.
    製造工程において使用される有機溶剤と接液することによる樹脂層の膨潤、収縮を低減する。 - 特許庁
  • To eliminate a color distribution for electrolytic coloring, which generates due to factors on an aluminum alloy and a coloring process.
    アルミニウム合金及び着色処理要因から発生する電解着色の色調のばらつきを解消すること。 - 特許庁
  • Thus, the variance due to the variation in process, voltage or temperature can be freely corrected even after the package assembly.
    これにより、工程、電圧または温度の変動によるばらつきをパッケージアセンブリ後にも自由に補正できるようになる。 - 特許庁
  • To provide a high performance IC card by suppressing deterioration of communication quality due to process dispersion and temperature fluctuation.
    プロセスばらつきや温度変動による通信品質の劣化を抑制し、高性能な非接触ＩＣカードを実現する。 - 特許庁
  • To interpolate a motion vector that cannot be detected due to moving of an object in perspective direction, in a simple process.
    被写体が遠近方向に移動することに起因して検出できなくなった動きベクトルを簡単な処理で補間する。 - 特許庁
  • a right guaranteed by the Fourteenth Amendment to the US Constitution and by the due-process clause of the Fifth Amendment
    米国憲法修正14条によって、そして修正第5条の正当手続き条項によって保障される権利 - 日本語WordNet
  • To prevent the deterioration of a semiconductor element due to charge-up during a plasma process in a semiconductor device utilizing an SOI substrate.
    ＳＯＩ基板を用いる半導体装置において、プラズマプロセス中のチャージアップによる半導体素子の劣化を防止する。 - 特許庁
  • Due to the location where this re-boxing occurred, the product did not go through the normal plant inspection process.
    再箱詰めが行われていた場所の関係から、この箱は通常行われている施設の検査プロセスを経ていなかった。 - 厚生労働省
  • No, that's the concern of an appeals court if mrs. mulberry believes that her due process was denied.
    それは マルベリー夫人が 自分の正当な法手続きが 否定されたと考えた時に 控訴裁判所の気にすることだ - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
  • To prevent electric characteristics of a switching active element from being changed due to influence of UV ray in an exposing process.
    露光工程においてＵＶ光の影響によりスイッチング能動素子の電気特性が変化することを防止する。 - 特許庁
  • This type of equipment, due to its low output of byproducts and exceptional process management, has made it possible to realize a large-scale reduction of greenhouse gas emissions of HFCs.
    "リサイクルされたフッ素はサッカースタジアムのドーム部分など多岐に亘るフッ素系材料に利用されています。" - 経済産業省
  • To solve various problems involved in a manufacturing process due to reduction in the spacing to be a distance between a magnetic head and a recording layer.
    磁気ヘッドと記録層との距離であるスペーシングの減少に伴う製造プロセス上の諸課題を解決する。 - 特許庁
  • To obtain a small-sized image forming device which does not cause the lowering of performance and the deterioration of an image due to a product of electric discharge, does not generate a positive residual image due to a residual toner after transfer and adopts a cleaner-less process.
    放電生成物による性能低下及び画像劣化がなく、転写残トナーによるポジ残像が発生しない、クリーナーレスプロセスの小型の画像形成装置を提供する。 - 特許庁
  • To prevent deterioration of conductivity with phosphor at a sealing process due to oxidation of a metal film black matrix of Cr/Cr_2O_3 or the like and contamination of electron sources due to vaporization of transition metal oxide.
    封着工程でのＣｒ/Ｃｒ_2Ｏ_3等の金属膜ブラックマトリクスの酸化による蛍光体との導電性劣化、遷移金属酸化物の揮発による電子源の汚染を防止する。 - 特許庁
  • To solve the problem that irregularity in brightness due to reduction of light emitting elements per a light emission device becomes obvious and it takes too long time to process a light guide due to the increased size of the light emission device.
    発光装置あたりの発光素子の減少に伴う輝度ムラ問題の顕在化と、発光装置の大型化に伴い、導光体の加工に時間が係り過ぎることを解消する。 - 特許庁
  • Thus, a gas generating due to the evaporation of solvent component in a flux during heating process is confined within the recessed part and it does not remain therein, thereby resulting in no failure due to gas in the bonding part.
    これにより、加熱過程でフラックスの溶剤成分が気化して発生するガスが凹部内に閉じこめられて残留することがなく、接合部内にガスによる欠陥が発生しない。 - 特許庁
  • The lid 12 and the container 11 can be protected against damage due to tilt of the lid 12 and since replacement of the lid 12 and the container 11 due to damage is eliminated even if the main pressing process is repeated, the main pressing process can be prevented from being interrupted due to replacement of a component.
    依って、蓋１２の傾きを原因とした蓋１２及び容器１１の損傷を防止できると共に本圧着工程を繰り返し実施しても該損傷に起因した蓋１２及び容器１１の交換を不要にして、該部品交換を原因として本圧着工程が中断されることを防止できる。 - 特許庁
  • To provide a dewatering/transporting apparatus in which cooling water is removed in transporting a square tube from a roll forming process to a next process without burdening a worker and with which a problem in the next process due to cooling water is eliminated.
    作業者に負担を強いることなく、ロールフォーミング加工工程から次工程に角パイプを移送する際に冷却水を除去して、冷却水による次工程での問題を解消する角パイプの水抜き搬送装置を提供する。 - 特許庁
  • The heat treated part 55 is formed by performing heat treatment in a quenching process due to high frequency and flame and performing heat treatment by similar quenching process and a tempering process in a tempering furnace when tenacity is required.
    熱処理部５５は、高周波や火炎等による焼き入れ工程による熱処理が施され、靭性を要求される場合には同様の焼き入れ工程と焼き戻し炉内での焼き戻し工程とによる熱処理が行われる。 - 特許庁
  • Furthermore, each time the copying process is executed for a new medium to be printed, before a reading process of a document due to a scanner unit, a white reference value of a light source is measured and even if the printing process is interrupted, a copy mode is continued.
    また、新たな被印刷媒体への複写処理を実行するごとに実行されるスキャナ部による原稿の読み取り処理の前に、光源の白基準値を測定し、印刷処理が中断されても複写モードを継続する。 - 特許庁
  • Consequently, additionally depositing an insulating film on a metal deposition preventing film is not needed, and then the productivity of an aluminum wiring process can be improved due to proceeding the aluminum wiring process without the intervening vacuum break during the process.
    したがって、金属蒸着防止膜に絶縁膜を追加的に蒸着することが不必要であり、工程中間に真空ブレークなしに進行するので、アルミニウム配線工程の生産性を向上させることができる。 - 特許庁
  • By removing all strain due to the assembly, a relative positioning precision of the screen process 200 and a work 110 is improved.
    組み立てによる歪みを一切排除して、スクリーン製版２００とワーク１１０の相対的位置決め精度が向上する。 - 特許庁
  • To provide a lithographic apparatus with significantly reduced image-formation errors due to air flows and pressure waves in a process zone.
    プロセス区域内のエアフローおよび圧力波による結像誤差が非常に減少したリソグラフィ装置を提供することである。 - 特許庁
  • After the component is mounted, amount of warpage occurring due to separation of the flexible substrate from the carrier board is measured in a measuring process 13.
    部品を実装後に測定工程１３で、キャリアボードからフレキブル基板が剥がれることで生じる反り量を測定する。 - 特許庁
  • To process a liquid crystal display device into thin structure without causing a defect due to entry of an etchant between stuck substrates.
    貼り合わせ基板間へのエッチング液侵入による不良を発生させることなく、液晶表示装置の薄型加工を行う。 - 特許庁
  • To provide a nozzle plate and an ink jet head in which contamination due to crawling up of adhesive is suppressed in a bonding process.
    接着工程での接着剤の這い上がりによる汚染の弊害を抑制したノズルプレートおよびインクジェットヘッドを提供する。 - 特許庁
  • When the process cartridge B2 is attached, attachment can be carried out without interference of the projecting part 216f due to the indented part 113tR1.
    プロセスカートリッジＢ２の装着時に凹部１１３ｔＲ１によって突起部２１６ｆとは干渉することなく装着できる。 - 特許庁
  • To form a regulator second stage compact, by stabilizing suction resistance due to deepness (of diving), completely achieving compatibility with a first stage, and easily process and manufacture thereof.
    レギュレータセカンドステージの小型化 深度（潜水）による吸気抵抗の安定化 ファーストステージとの相性が全て合うこと。 - 特許庁
  • To reliably detect failure due to foreign matters present between an insulating substrate and a counter substrate intruded during a manufacturing process.
    製造工程中に混入した絶縁性基板と対抗基板間に存在する異物による不良を確実に検出する。 - 特許庁
  • To suppress deterioration in image quality of read image data due to interruption of a process even without making a line start signal synchronous with an encoder signal.
    ラインスタート信号をエンコーダ信号に同期させなくとも、プロセスの中断に伴う読取画像データの画質劣化を抑制する。 - 特許庁
  • To solve a problem of complication of a component management process due to dissociation between an image model and logistics information for managing product components.
    製品の部品を管理する画像モデルとロジスティックス情報とが分離されているので、部品管理プロセスが複雑である。 - 特許庁
  • The correction section 80 performs a correction process of correctively preventing an overflow of the successive comparison result data due to code shifting using the code data.
    補正部８０はコードデータを用いたコードシフトにより逐次比較結果データがオーバーフローするのを補正する補正処理を行う。 - 特許庁
  • To improve image quality by suppressing an error in adjustment of a registration due to an error in a making process of a linear encoder scale.
    リニアエンコーダスケールの製造上の誤差に起因するレジストレーション調整の誤差を低減して、画像品質を向上させる。 - 特許庁
  • To prevent yield deterioration at a module process by eliminating the generation of solder projections due to solder squeeze-out during lead wire connection.
    リード線接続時の半田のはみ出しによる半田突起の発生をなくし、モジュール工程での歩留まり低下を解消する。 - 特許庁
  • To prevent a defect in conveyance of a photosensitive material due to strain of a guide member provided between a couple of rack side plates of a process rack.
    処理ラックの一対のラック側板の間に設けられるガイド部材の歪みによる感光材料の搬送不良を防止する。 - 特許庁
  • A process liquid discharged from the hole 24 flows along the connecting face 30 and resides on the liquid filling face 31 due to the surface tension.
    吐出口２４から吐出される処理液は、表面張力により連絡面３０を伝わり液盛面３１に留められる。 - 特許庁
  • To provide a power supply circuit that will not produce excessive voltage boosting process period, due to a voltage-boosting circuit.
    本発明は、昇圧回路による余剰な昇圧処理期間が発生しない電源回路を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • This enables to reduce probability of occurrence of mounting failures due to the misalignment of the printed solder in the electronic component mounting process.
    これにより、電子部品実装時の半田印刷位置ずれに起因する実装不良の発生確率を低減することができる。 - 特許庁
  • To take countermeasures to a failure of a photo process due to an exhaust hole formed in a cathode substrate in an FED (field emission display).
    ＦＥＤ（フィールドエミッションディスプレイ）において、カソード基板に形成される排気孔に起因するフォト工程の不良を対策する。 - 特許庁
  • To prevent decrease in the conductivity of a transparent electrode due to the high temperature process of forming a dielectric layer which covers the electrode.
    透明電極の導電性が、それを被覆する誘電体層形成時の高温プロセスにより低下することを防止する。 - 特許庁
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