「Due Process」を含む例文一覧(2146)

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  • Therefore, manufacturing is made to be far easy, and the rate of failure occurrence due to welding fault in manufacturing or using process is drastically lowered.
    従って、製作がはるかに容易であり、その製作または使用過程にて溶接不良による故障発生率も大幅に低下する。 - 特許庁
  • To prevent the formation of a connection electrode with fault due to excessive etching by etching fluid in the etching process of a photo lithography method.
    フォトリソグラフィ法におけるエッチング工程時に、エッチング液による過食刻によって不良な接続電極が形成されるのを防止する。 - 特許庁
  • To provide a regeneration method for a deteriorated catalyst for regenerating a catalyst deteriorated due to lowered performance by an easy and low-cost process.
    性能が低下し劣化した触媒を簡便で低コストな再生処理による劣化した触媒の再生処理方法を提供する。 - 特許庁
  • To form a mirror face on which light is not scattered due to peeling or surface unevenness, by electroless plating without using a vacuum process.
    剥離や表面凹凸による光散乱が生じない鏡面を真空プロセスを用いることなく、無電解めっきにより形成する。 - 特許庁
  • Our nation is assassinating people with drones, holding them without due process, and, yes, spying on its own people without cause or limits and in direct violation of our constitution.
    我が国は ごくつぶしの人々を暗殺してる 適正手続きなしで 彼らを保有してる そう 国自体が 国民を見張って - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
  • During the Heian period and after, however, very few statues were made by this method, due to the large amount of costly urushi required, and the time-consuming process.
    しかし、高価な漆を大量に用いるうえ、制作にも手間がかかるため、平安時代以降はほとんどつくられなくなった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • To reduce production cost of an SOI substrate while preventing production yield from lowering in the way of a process due to generation of particles.
    ＳＯＩ基板の製造コスト削減を図ると共に、プロセス途中のパーティクルの発生等の原因で歩留まりを低下させないようにする。 - 特許庁
  • To suppress the increasing trend of a gate size in a long period due to continuous BARC etching in a process of one lot.
    ＢＡＲＣエッチングでの、１ロット内の処理における、また連続エッチングにおける長期的なゲート寸法の太め傾向を抑える。 - 特許庁
  • To realize a set-time controller capable of surely outputting process control signals even with generation of a time-skip due to time correction.
    時刻補正により時刻飛びが発生しても、確実に処理制御信号を出力できる設定時刻制御装置を実現すること。 - 特許庁
  • To solve the problem in which it is uneconomical due to the much futility of materials and much working time is needed in a method for manufacturing a link-arm by a hot-forging process.
    熱間鍛造によるリンクアーム製造方法は、素材の無駄が多く不経済であり、作業に時間がかかり生産性が悪い。 - 特許庁
  • To provide a key switch capable of preventing occurrence of contact failure between contacts due to intervening of foreign matter and a production process thereof
    異物の介在による接点間の接触不良の発生を抑制することができるキースイッチ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a coating film that prevents damages due to etching of an interlayer insulating film and a barrier film in a semiconductor element manufacturing process or the like.
    半導体素子などにおける層間絶縁膜やバリア膜のエッチング処理によるダメージを低減する塗膜を提供すること。 - 特許庁
  • The process of liberalization shall take place with due respect for national policy objectives and the level of development of individual Members, both overall and in individual sectors.
    自由化の過程においては、個々の加盟国の国家政策目標及び開発レベルを十分に考慮して進めるとされている。 - 経済産業省
  • Due to the constraints like rising labor cost, the industry loses comparative advantage in the assembly process which weakens Int'l Competitiveness in Final goods.
    労働コスト上昇などの制約要因により、組立工程の比較優位性を失うため最終財の競争力が弱まる。 - 経済産業省
  • In this method for manufacturing a thermoelectric semiconductor including a plastic working process for rolling a thermoelectric semiconductor in heat, the decrease rate of the thickness of the thermoelectric semiconductor due to the plastic working process is set so as to be 50% or less before and after the plastic working process.
    熱電半導体を熱間で圧延する塑性加工工程を含む熱電半導体の製造方法において、塑性加工工程による熱電半導体の厚みの減少率が、塑性加工工程の前後で５０％以下とする。 - 特許庁
  • To provide a process for producing a liquid crystalline polyester resin which can inhibit foaming and sublimation due to hydroquinone in the temperature rising process of polymerization and the depressurizing process and thereby increase yield, and improve continuous batch productivity and quality.
    重合昇温過程および減圧過程でのヒドロキノンによる泡立ちや昇華を抑制することができ、それにより収率の向上と連続バッチ生産性と品質を改善することができる液晶性ポリエステル樹脂の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To prevent dropping-out of an edge of a main magnetic pole end and reduction of the thickness of a main magnetic pole film due to dishing for a CMP process of flattening alumina on a main magnetic pole in a trailing shield forming process.
    トレーリングシールド形成プロセスにおいて、主磁極上のアルミナを平坦化するＣＭＰ工程の際、ディッシングによる主磁極端部エッジの欠落及び主磁極膜厚の減少を防止する。 - 特許庁
  • To provide an image recording device that reduces the rate of decrease in the performance of a recording process due to the process of developing record data into dot images, a method of controlling the image recording device, and its program.
    記録データからドットイメージへの展開処理に起因する記録処理のパフォーマンスの低下を軽減させた画像記録装置、画像記録装置の制御方法、及びそのプログラムを提供する。 - 特許庁
  • To provide a drum type washing machine reducing starting failure due to bubbles in an intermediate spin-drying of a rinsing process by preventing a problem that a cleaning ratio is reduced by the bubbles in a washing process.
    洗濯工程において、泡により洗浄率が低下するという問題を防ぎ、すすぎ工程の中間脱水時の泡による起動不良状態を少なくするドラム式洗濯機を提供する。 - 特許庁
  • To provide an automatic transaction apparatus carrying out a correct process for a legitimate user even when a delay or stall of a process arises due to a failure or a fault during a transaction by the user at the automatic transaction apparatus.
    利用者が自動取引装置で取引中の障害や不具合による処理の遅延や停滞がある場合でも、正当な利用者に正しい処理を行う自動取引装置を提供する。 - 特許庁
  • To reduce, while eliminating necessity to perform a process from vapor deposition of a protection film to sealing in a vacuum atmosphere, a risk of panel cracking and the like due to residual stress in a sealing process with passage of time.
    保護膜の蒸着から封着までの工程を真空雰囲気で行うことを不要としながら、時間経過に伴う封着工程での残留応力に起因するパネル割れ等のリスクを軽減する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method for a laminated ceramic electronic part, by which a lateral spreading deformation due to a pushing process for a lamination can be inhibited even through the pushing process when the electronic part is manufactured.
    積層セラミック電子部品を製造する際、積層のための押圧工程を経てもその押圧工程による横広がり変形が抑制できる積層セラミック電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a process for producing an SOI wafer in which occurrence of heat distortion, stripping, cracking, and the like, due to difference in thermal expansion coefficient between a transparent insulating substrate and an SOI layer can be prevented through a simple process.
    透明絶縁性基板とＳＯＩ層との熱膨張係数の差異に起因する熱歪、剥離、ひび割れ等の発生を簡易な工程で防止できるＳＯＩウエーハの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To analyze a defect distribution state based on defect data detected by an inspection apparatus and easily identify a defect reason due to an apparatus or a process in a semiconductor wafer manufacturing process.
    半導体ウェーハの製造工程において、検査装置によって検出された欠陥データに基づいて欠陥分布状態解析を行い、装置あるいはプロセス起因の不良原因の特定を容易にする。 - 特許庁
  • To avoid image degradation due to a variable multiplication process without requiring a large memory by carrying out a clipping process for each band data after edition from band data of an intermediate language unit.
    中間言語単位のバンドデータから、編集後のバンドデータ単位にクリッピング処理を行なうことにより、大きなメモリを必要とすることなく、かつ変倍処理による画像劣化を回避すること。 - 特許庁
  • (4) For the purpose of determining whether the patent protection extends to a product or process, due account shall be taken of any characteristics of the product or process which are equivalent to those specified in the claims.
    (4) 特許保護が製品又は方法に及ぶか否かを決定するためには，その製品又は方法の何れかの特性がクレームされているものと同等であるかを然るべく考慮しなければならない。 - 特許庁
  • Since the ferroelectric capacitor is prevented from causing in-print due to thermal record during the test process and subsequent process, the characteristics are enhanced and shortening of the lifetime of a product is prevented.
    これにより、試験工程以降における熱履歴によって強誘電体キャパシタがインプリントを起こすことが防止されるので、特性が向上するとともに製品寿命の短縮が防止される。 - 特許庁
  • To provide a duty correction circuit that corrects a duty ratio to a desired numeric value even if the characteristics of an N-type transistor and a P-type transistor deviate from the design stage due to variations in process and change in process.
    プロセスバラツキや、プロセス変更によりN型トランジスタ及びP型トランジスタ双方の特性が設計段階に対してずれても、デューティ比を所望の数値に補正するデューティ補正回路を提供する。 - 特許庁
  • To provide a plurality of processes intended to suppress the errors of an etching process due to the asymmetry of a shape and a technique of designing the process.
    そこで本願にかかる発明の目的は形状の非対称性に起因するエッチング工程の誤差を抑制することを目的とした複数回のプロセス、およびプロセスの設計手法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a cement production process which involves effectively utilizing ready-mixed concrete sludge as a part of a raw material for producing cement to treat the concrete sludge and enables avoidance of any adverse effect due to sulfuric acid in the sludge on stable operation of the process.
    生コンクリートスラッジをセメント製造原料の一部として活用して処理するにあたり、硫酸分の影響によるセメント製造工程の安定運転の阻害を回避する方法を与える。 - 特許庁
  • To provide an image recognition processor having reduced memory quantity of an LSI for an image recognition process, preventing reduction in the recognition ability due to the degradation of image quality regarding the image recognition process.
    画像認識処理に関し、特に画像認識処理用ＬＳＩのメモリ量を削減し、画質の劣化による認識能力の低下を防止した車載用の画像認識処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To allow execution of setting of maximum process amount in accordance with actual remaining capacity of a battery while avoiding shut down due to insufficient remaining capacity of the battery in the middle of a process in an information terminal which is driven with a battery.
    電池駆動される情報端末において、処理途中の電池不足によるシャットダウンを回避しつつ、実際の電池残量に合致した最大処理量の設定が実行可能とする。 - 特許庁
  • To provide a constant current circuit of which variation in the output current is minimized even when a drain current at zero bias in a depression type MOS transistor fluctuates greatly due to a process variation in a manufacturing process, etc.
    製造工程のプロセス変動等で、ディプレッション型のＭＯＳトランジスタにおける０バイアス時のドレイン電流が大きくばらついても出力電流の変動が小さい定電流回路を得る。 - 特許庁
  • To provide a process unit which prevents the occurrence of an abnormal image due to fiber's flying-out caused by the long use of a brush electrostatic charger, and moreover, is facilitated the exchange of process parts such as an electrostatic charger brush.
    ブラシ帯電器の長時間の使用による繊維の飛びだしによる異常画像の発生を防止し、さらに、帯電ブラシ等のプロセス部品の交換が容易なプロセスユニットを提供することである。 - 特許庁
  • The semiconductor device 17 may be mounted in a process different from the process for mounting the electronic parts 7, 8, 9 and the ceramic board 13, and this prevents connection failure in a wire 17A otherwise to occur due to flux or the like in solders 10, 16.
    また、半導体素子１７を電子部品７〜９、基板１３と別工程で実装でき、半田１０，１６中のフラックス等によるワイヤ１７Ａの接続不良等を防止することができる。 - 特許庁
  • To solve a problem that antirust function decreases and a selective electroplating process to be performed on a lead frame must be added due to the exposure of the lead frame material resulting in a complicated forming process of an electroplated layer and increased manufacturing cost.
    リードフレーム素材を露出させているため、防錆機能が低下すると共に、リードフレームに施す選択めっき工程が増え、めっき層形成工程が煩雑になり製造コストが上昇すること。 - 特許庁
  • Additionally, based on the seismic center function and the green function obtained for each small dislocation 2, the earthquake movement at the observation point 7 due to each small dislocation is obtained, the total is obtained by considering the time difference according to the destruction process of the dislocation, and the earthquake movement at the observation point 7 due to the destruction process of the entire dislocation is obtained.
    また、小断層２ごとに求めた震源関数とグリーン関数を基に、各小断層による観測点７での地震動を求め、断層の破壊過程に応じた時間差を考慮してそれらの総和をとり、断層全体の破壊過程による観測点７での地震動を求める。 - 特許庁
  • This optical measurement method includes a homogenizing process performed after a liquid diluent is added to a sample containing the measurement target, a filtering process for removing a solid substance, an adding process for adding insoluble fine particles not causing the emission due to an excitation wavelength to a specimen in a concentration of 1-10% and a process for measurement and evaluating the measurement target.
    測定対象物を含有する試料に希釈液を加えて行う均質化工程と、固形物を取り除く濾過工程と、励起波長による発光がない不溶性微粒子を検体に対し濃度１〜10％となるよう加える添加工程と、測定対象物の測定評価工程を備える。 - 特許庁
  • In addition, if a decode process interrupts during a process for a desired display control sequence DCSQ, the occurrence of the shapeless display such as a display dropout due to the decode process interruption can be prevented by executing the decode process from the first display control sequence DCSQ 0 again.
    また、所望の表示制御シーケンスＤＣＳＱに対する処理の途中で、デコード処理が中断してしまった場合に、再び最初の表示制御シーケンスＤＣＳＱ０からデコード処理を行うことにより、デコード処理が中断することによる表示抜け等の表示崩れが発生するのを防ぐことができる。 - 特許庁
  • The film manufacturing method due to a solution casting film forming method includes a process for discharging a dope of cellulose ester on an endless belt from the slit of the die, a process for drying the dope film on the endless belt to form a web, a process for peeling the web form a support and a process for drying the peeled web to obtain a film.
    セルロースエステルのドープを、ダイのスリットからエンドレスベルト上に吐出する工程と、エンドレスベルト上のドープ膜を乾燥させてウェブを形成する工程と、ウェブを支持体から剥離する工程と、剥離したウェブを乾燥させてフィルムを得る工程とを含む溶液流延製膜法によりフィルムを製造する方法である。 - 特許庁
  • To provide the raw material and the product, having excellent process stability in a yarn-producing process and in a bulky processing process, scarcely eliminating loops in a high level processing process, exhibiting a natural grain- like appearance, when dyed, giving highly uniform loops together with a soft and smooth touch due to fine unevenness, and further having good dyeing fastness.
    製糸工程、嵩高加工工程での工程安定性に優れ、高次加工工程でのループ消失が少なく、染色した際に自然な杢調の外観を呈し、均質性の高いループと相まって微小な凹凸によりソフトでさらさらとした触感を与え、さらに染色堅牢性が良好な素材、製品を提供する。 - 特許庁
  • To provide a reinforcement binding machine which prevents suspension of operation thereof during execution of a process due to drop of a voltage during the operation under a low-temperature environment.
    鉄筋結束機が、低温環境下などにおいて動作中の電圧低下により工程途中で動作停止することを防止する。 - 特許庁
  • To provide a method and a system that process a speculative request so that convergence and collision due to non-speculative traffic are reduced.
    非投機的トラフィックによる輻輳および衝突を低減するように投機的要求を処理する方法およびシステムを提供すること。 - 特許庁
  • To suppress the increase in a manufacturing cost and a manufacturing time due to changing of a type or an amount of an impurity for each transistor in a previous process.
    前工程においてトランジスタごとに不純物の種類や量を変えることによる、製造コストや製造時間の増大を抑制する。 - 特許庁
  • Since the reflective layer 32 is provided instead of the insulating layer, the deterioration of productivity and the cost rise due to the increment in the process can be suppressed.
    また、絶縁層に代えて反射層３２を設けているので、工程の増加による生産性の悪化やコストアップを抑えることができる。 - 特許庁
  • To process a substrate uniformly by preventing uneven processing due to supporting of the substrate when the substrate is supported by a drive member and subjected to rotary processing.
    基板を駆動部材で支持し回転処理する際に、基板の支持に起因する処理ムラを防止して均一な処理を施すことができる。 - 特許庁
  • To provide a high-frequency device allowing a wide-range impedance adjustment without a wire attaching process, but suffering from but a low loss due to impedance mismatch.
    ワイヤを張ることなく広い範囲でインピーダンスの調整ができ、インピーダンス不整合による損失の小さい高周波デバイスを提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for fabricating a transistor in which increase in the thickness of gate insulation layer or decrease in the thickness of gate polysilicon layer due to silicide process can be prevented.
    シリサイド工程によるゲート絶縁層の増厚やゲートポリシリコン層の減厚を防ぐことの可能なトランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To prevent the manufacture yield of a semiconductor, etc., due to explosion phenomenon, when a thin-film formation process is repeated for a long period.
    薄膜形成プロセスを長期にわたって繰り返した場合に爆発現象に起因する半導体等の製造歩留まりを低下を防止する。 - 特許庁
  • To provide a press plate process managing system capable of avoiding occurrence of a production disturbance due to an input miss or the like by alleviating an operator's load.
    作業者の負荷を軽減し、入力ミス等による生産阻害の発生を避けることができる刷版工程管理システムを提供する。 - 特許庁
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