「In process」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 45 46 47 48 49 50 51 52 53 .... 999 1000 次へ＞- A test pattern generation process 103 extracts and arranges an execution condition for the process extracted in the process 102 or a data operation retrieval process 104 from a program test patterns list, generates one test pattern and adds an ID thereto.
テストパターン作成処理103は、処理102又はデータ操作検索処理104で抽出された処理の実行条件を、プログラムテストパターンの一覧から抽出・整理し、1つのテストパターンを作成し、IDを付与する。 - 特許庁 - Because both of the hydro-forming process and the cutting-off process can be performed in the hydro-forming facility, the facility for performing the cutting-off process becomes unnecessary, and the time of the process and cost can be reduced.
ハイドロフォーム設備において，ハイドロフォーム工程と切断工程の両方を行うことができるので，切断工程を行うための設備が不要となり，工程時間の短縮化，コスト低減が図れる。 - 特許庁 - A film producing apparatus 10 is installed in a clean room 34 and constituted of a casting/peeling process part 12, a tenter drying process par 14, a roll drying process part 16, and a winding process part 18.
本発明に係るフィルム製造装置１０は、クリーンルーム３４の内部に設置され、流延・剥離工程部１２、テンター乾燥工程部１４、ロール乾燥工程部１６、巻取工程部１８で構成される。 - 特許庁 - The surface finishing method for a flooring material includes a surface treating process, a sanding process, a color coating process and a finish coating process, after a preliminary treatment of pressing a solid dried veneer, in order to finish the surface of the flooring material.
ムクの乾燥した単板を予め加圧処理した後、表面処理工程、サンディング工程、着色塗装工程、仕上げ塗装工程を経て表面を仕上げる床材の表面仕上げ方法。 - 特許庁 - The correction process includes a process for correcting the difference in the shade depth of color of the images between frames, a process to correct the displacement of texture image of between each patched face and a correction process for smoothing the shade of color at the boarder section between each patched face.
補正処理として、各フレーム間の画像濃淡値補正処理、各パッチ間のテクスチャ画像のずれ補正処理、各パッチ間の境界部分の濃淡スムージング補正処理を適用する。 - 特許庁 - A process flow (information) 260 includes information on processing in each process, the flow numbers of each process and information 270, 280 indicating whether implementation order of each process is adjustable or not.
工程フロー（情報）２６０は、各工程での処理に関する情報と、各工程のフロー番号と、各工程が実施順序が調整可能であるか否かを示す情報２７０，２８０と、を有している。 - 特許庁 - The sputtering method has a sub-process area 23 set at a position in the vicinity of a main process area 22 set according to a region to have the circuit corrected and the sub-process area 23 is sputtered before the main process area 22.
回路修正を行う範囲に対応して設定されるメイン加工エリア２２の近傍位置にサブ加工エリア２３を設定し、メイン加工エリア２２に先立ってサブ加工エリア２３を事前にスパッタする。 - 特許庁 - A dressing process or brushing process is executed by use of a dresser 12 so that the polishing cloth used for the CMP process can again be CMP-processed, and the hydrophile processing can also be executed in the above process.
ＣＭＰ処理に使用した研磨布を再びＣＭＰ処理できるようにドレッサー１２を用いてドレッシング処理又はブラッシング処理を行い、この処理中に親水性処理を行うこともできる。 - 特許庁 - In relation to a recovered used battery 1A, presence of a battery protecting function is determined by a protective circuit inspection process, a submergence history inspection process, an expiration date inspection process and a temperature history inspection process.
回収された使用済み電池１Ａについて、保護回路検査工程と、水没履歴検査工程と、使用期限検査工程と、温度履歴検査工程とにより、電池保護機能の有無を判定する。 - 特許庁 - Then, at the time of assigning a certain process (process #2) to be debugged to the CPU (not shown in a figure), and executing it, the process is executed by using the reception message stored corresponding to the process #2.
そして、デバッグ等の対象となる或るプロセス（プロセス♯２）をＣＰＵ（図示せず）に割り当てて実行させる際には、このプロセス♯２に対して記憶されている受信メッセージを用いて実行させる。 - 特許庁 - The hardening control process 30 contains a temperature measuring process 35 for hardening, measuring the high temperature part and the low temperature part in the material to be treated, a cooling timing adjusting process 36 and a cooling process 37.
焼入制御工程３０は、被処理物の高温部と低温部との温度が測定される焼入用測温工程３５と、冷却タイミング調節工程３６と、冷却工程３７とを含んでいる。 - 特許庁 - To provide an abnormality detection method of a heat exchanging process capable of detecting a leak of process fluid quickly and easily, in the heat exchanging process between a heat medium and the process fluid.
熱媒体とプロセス流体との熱交換プロセスにおいて、プロセス流体の漏洩を迅速かつ容易に検知することができる熱交換プロセスの異常検知方法を提供することである。 - 特許庁 - To provide a covering pattern forming process for simply forming a covering pattern, a material used in the covering pattern forming process, and a pattern forming process by use of the covering pattern forming process.
簡便に被覆パターンを形成できる被覆パターン形成方法、および該被覆パターン形成方法に用いられる材料、ならびに前記被覆パターン形成方法を利用したパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Further, the method includes a process 46 of reducing in-wafer variation in critical dimension by changing at least one parameter of a process module configured to execute a step of the lithography process, for example, a development process 36.
本方法はまた、リソグラフィ・プロセスのステップを実行するように構成されたプロセス・モジュール、例えば現像工程３６の少なくとも１つのパラメータを変更し、クリティカルディメンジョンのウェハ内変動を低減する工程４６を含む。 - 特許庁 - A process device restricting a device having a maximum difference Gi between the proper number (ni) of products worked in process and the collected resultant number of products worked in process can be determined as a device restricted process device for the lot.
適正な製品仕掛かり数ｎｉと収集した実績の仕掛かり数との差分Ｇｉの最大値を有する装置を装置限定の工程装置を当該ロットの装置限定の工程装置に決定することができる。 - 特許庁 - Through the cooling pipe 60, an existent freezing medium 70 after a vaporizing process and before a compressing process in a freezing cycle or an existent freezing medium 70 after the compressing process and before a condensing process in the freezing cycle flows.
冷却管６０には、冷凍サイクルの蒸発工程後でかつ圧縮工程前の既存の冷凍冷媒７０が流れるか又は、冷凍サイクルの圧縮工程後でかつ凝縮工程前の既存の冷凍冷媒７０が流れる。 - 特許庁 - To provide a heating arrangement for heating process gas efficiently in a short time, and to provide a process gas treating system for sustaining process gas at high temperature over a long distance in the downstream by heating the process gas to high temperature using the heating arrangement.
プロセスガスを短時間で効率的に加熱できるようにした加熱装置、および、この加熱装置を用いてプロセスガスを高温に加熱して下流の長距離にわたりプロセスガスを高温に維持するプロセスガス処理システムを提供する。 - 特許庁 - In the method for manufacturing the color filter, after a development process, a process for irradiating the whole surface of an image recording material with ultraviolet ray is provided before a peeling process, and the peeling of a positive type photoresist in the peeling process is performed by using an alkali aqueous solution.
現像工程後であって剥離工程前に、画像記録材料の全面に紫外線を照射する工程を有すると共に、剥離工程におけるポジ型フォトレジストの剥離をアルカリ水溶液を用いて行なう。 - 特許庁 - For a call process server on an IP network, two kinds of queues 60 and 70 or more which differ in priority are prepared in a call process buffer, and then the connection request process is performed preferentially to a disconnection request process.
ＩＰネットワークでの呼処理サーバに関し、呼処理バッファに優先度の異なる２種類以上のキュー６０，７０を用意することにより、接続要求処理の実行を切断要求処理の実行よりも優先して行う。 - 特許庁 - The optimal process determining device is configured to calculate a working time, based on the tool-moving path of CAM output obtained in an interim process in order to determine the optimal process, and to determine the optimal process based on a total working time.
前記の最適工程を決定するに、暫定工程に得られるＣＡＭ出力の工具移動経路に基づいて加工時間を算出されるし、そして、この総加工時間Ｔに基づいて、最適工程を決定する。 - 特許庁 - For the commutator 23 of a motor 10, surface cutting processing is applied in a cutting process, and next, in a lapping process, only the burrs are removed by a tape lapping process, keeping the surface processing (roughness) condition by the above cutting process.
モータ１０の整流子２３は、切削工程において表面切削加工を施し、次いで、ラッピング工程において、前記切削工程による表面加工（粗さ）状態を維持したままで、バリのみをテープラッピング加工によって除去する。 - 特許庁 - A creation part 14 of a process flow classified by the groups the devices creates a process flow 15 classified by the groups of devices based on the groups of the devices to which the devices, for performing the process in each of the processes included in the process flow 9 classified by the groups of devices, belong.
装置グループ別工程フロー作成部１４は、装置群別工程フロー９に含まれる各工程において処理を行なう装置が所属する装置グループに基づいて装置グループ別工程フロー１５を作成する。 - 特許庁 - In this system for predicting quality and controlling reaction, a simulation unit 104 simulates product quality at a constant period by using a process model and process data resulting from measuring the process 101 where the polymerization reaction is carried out in the batchwise polymerization autoclave, and simultaneously corrects the process model.
回分式反応槽によって重合反応を行うプロセス１０１から計測されるプロセスデータとプロセスモデルを用いて、シミュレーション部１０４は製品品質を一定周期でシミュレーションし且つプロセスモデルを修正する。 - 特許庁 - In addition, the process list display part 5 retrieves the additional display information associated with the process ID included in each of the generated process accompanying information from the storage part 4 and generates data for a display that includes the process accompanying information and the retrieved additional display information.
更に、生成したプロセス付随情報毎に、それに含まれているプロセスIDと関連する付加表示情報を記憶部４から検索し、プロセス付随情報と検索した付加表示情報とを含んだ表示用データを作成する。 - 特許庁 - To easily replace processing even when the processing contents of a process are changed or the process is changed by standardizing (profiling) the processing in each process and performing the processing by the standardized unit in each process.
各工程での処理を規格化（プロファイリング）して、各工程では、この規格化された単位により処理を行い、従ってその工程の処理内容が変更されても、または工程が変わっても、処理を容易に置き換え可能とする。 - 特許庁 - In a water intake process, water is taken in from the water bottom part 33 through the ducts 10.
（４）複数の管路１０を介して水底部３３から取水を行う取水工程。 - 特許庁 - To process in three dimensions a heat sink and to raise reliability in a semiconductor device.
ヒートシンクを立体的に加工し、半導体装置の信頼性を向上させることにある。 - 特許庁 - The semiconductor substrates 14 stored in a boat 13 are loaded in a process tube 11.
プロセスチューブ１１内にボート１３に収容した半導体基板１４が装填される。 - 特許庁 - In such a way, the removal of the photoresist is also performed in a process for performing the chemical and mechanical polishing.
このように、化学機械研磨を行う工程において、フォトレジストの除去も行う。 - 特許庁 - To prevent generation of discrepancy in a sheet sheaf even in starting an after process to the sheet sheaf.
シート束への後処理が始まってもシート束にずれが発生しないようにする。 - 特許庁 - To reliably remove foreign matter inside a battery can in a short time in a battery manufacturing process.
電池製造工程において、電池缶内の異物を確実にかつ短時間で除去する。 - 特許庁 - To stabilize the luminous property in a short time in the aging process of a plasma display panel.
プラズマディスプレイパネルのエージング工程において発光特性の安定化に時間がかかる。 - 特許庁 - To process even one fractional wafer which is left unprocessed in the same manner with normal processing even in such a case.
端数が発生した場合であっても、通常の処理時と同様に処理する。 - 特許庁 - To provide a process for dehydrohalogenation that results in improved reactant conversion levels, and results in production of lower level of organic waste.
有機化合物の脱ハロゲン化水素の改善された方法を提供すること。 - 特許庁 - To inexpensively provide a stirring member high in rigidity and accuracy used in a process cartridge.
プロセスカートリッジ内に用いる撹拌部材を安価で高剛性でかつ高精度で提供する。 - 特許庁 - In a prism cutting process, a cut 20B is formed at a part in the thickness direction of the prism bar 20A.
プリズムカット工程で、プリズムバー２０Ａの厚み方向の一部に切込み２０Ｂを入れる。 - 特許庁 - In the new system, people from the general public will be randomly selected, and will participate in the trail process.
新しい制度では，一般の人々が無作為に選ばれ，審理の過程に参加する。 - 浜島書店 Catch a Wave - To provide a safety logic module system, used in a safety network disposed in a process plant.
プロセスプラントに配置された安全ネットワークで利用される安全ロジックモジュールシステムの提供。 - 特許庁 - In the compound of type 3, one or more electrons are released in the subsequent bond forming process.
タイプ３の化合物：引き続く結合形成過程で１電子以上の電子を放出。 - 特許庁 - To provide a ceramic substrate for preventing lowering in yield in a manufacturing process of the ceramic substrate.
セラミック基板の製造工程での歩留まり悪化を防止するセラミック基板を提供する。 - 特許庁 - To provide an insulating film low in leak current and high in permittivity by a printing process.
リーク電流が低く比誘電率の高い絶縁膜を印刷プロセスで提供する。 - 特許庁 - To recover thermal energy released in a cooling process in a substrate laminating apparatus.
基板貼り合せ装置における冷却過程で放出される熱エネルギーを回収する。 - 特許庁 - In the manufacturing process of an MEMS device, fluid is filled in the fluid chamber 23.
ＭＥＭＳデバイスの製造過程で流体チャンバ２３中に流体が充填される。 - 特許庁 - In an adhesive coating process S1, coating is made in a circular shape on a sealing substrate (a sealing member) 70.
接着剤塗布工程Ｓ１は、封止基板（封止部材）７０に環状に塗布する。 - 特許庁 - To exactly setting focusing conditions in exposure in a photolithographic process of a wafer.
ウェハのフォトリソグラフィー工程における露光時のフォーカス条件設定を正確に行う。 - 特許庁 - Negative pressure is generated within the gap 15 in the structure 21 by generating the negative pressure in the process chamber 27.
処理室27内を負圧とすることにより構造体21内の空隙15内を負圧にする。 - 特許庁 - For example, the substrate is rotated for about 10 seconds in 500 rpm in the low-speed rotation process at the preceding stage, for about 10 minutes in 1000 rpm in the medium- speed rotation process at the medium stage, and for a prescribed time in 1500 rpm in the high-speed rotation process at the latter stage, respectively.
例えば、前段の低速回転工程では５００ｒｐｍで約１０秒間、中段の中速回転工程では１０００ｒｐｍで約１０秒間、後段の高速回転工程では１５００ｒｐｍで所定時間、それぞれ基板を回転させる。 - 特許庁 - In a dehydration process, vertical screw centrifugal separators 3, 4 are disposed in series.
脱水工程では、縦型スクリュー式遠心分離機３及び４を直列に配置する。 - 特許庁 - To reduce an amount of energy consumption in a fixing process in a wet developing method.
湿式現像法における定着工程の消費エネルギー量の削減を課題とする。 - 特許庁 - A solution with a polymer uniformly dissolved in a solvent is prepared in a solution preparing process 81.
溶液調製工程８１ではポリマーが溶媒に均一に溶解した溶液をつくる。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
- Copyright © 1995-2026 Hamajima Shoten, Publishers. All rights reserved.
