「MASK pattern」を含む例文一覧(5189)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 103 104 次へ＞- MASK-MAKING METHOD, PATTERN EXPOSURE DEVICE, AND MASK
マスク作成方法、パターン露光装置、及び、マスク - 特許庁 - MASK FOR FORMING ELECTRICALLY CONDUCTIVE PATTERN AND MASK DEVICE
導電パターン形成用マスク及びマスク装置 - 特許庁 - MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING MASK
マスク及びマスクを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING MASK AND MASK PATTERN DESIGN DEVICE
マスク作成方法及びマスクパターン設計装置 - 特許庁 - PRODUCTION OF MASK FOR PATTERN TRANSFER AND MASK FOR PATTERN TRANSFER
パターン転写用マスクの製造方法及びパターン転写用マスク - 特許庁 - MASK PATTERN CORRECTION METHOD, MASK PATTERN CORRECTION DEVICE AND PROGRAM THEREFOR
マスクパターン補正方法，マスクパターン補正装置およびそのプログラム - 特許庁 - A mask pattern 15 stores the mask pattern data posterior to compaction processing.
マスクパターン１５は、コンパクト化処理後のマスクパターンデータを格納する。 - 特許庁 - PATTERN MASK FOR ELECTRON BEAM IRRADIATION
電子線照射用パターンマスク - 特許庁 - AUTOMATIC LAYOUT DEVICE FOR MASK PATTERN
マスクパターンの自動レイアウト装置 - 特許庁 - MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN
マスク及びパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING SHADOW MASK PATTERN
シャドウマスクパターンの形成方法 - 特許庁 - PATTERN FORMING MASK, AND PATTERN FORMING DEVICE USING THE MASK
パターン形成用マスクおよびそれを使用したパターン形成装置 - 特許庁 - PATTERN ARRANGEMENT METHOD OF EXPOSURE MASK
露光マスクのパタン配置方法 - 特許庁 - MASK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, PATTERN-FORMING APPARATUS AND PATTERN-FORMING METHOD
マスク、マスクの製造方法、パターン形成装置、パターン形成方法 - 特許庁 - MASK PATTERN CORRECTION METHOD, MASK FOR EXPOSURE, AND MASK FORMING METHOD
マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁 - MASK PATTERN CORRECTION METHOD, EXPOSURE MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK
マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, MASK FOR EXPOSURE TO LIGHT, AND MASK-MANUFACTURING METHOD
マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR CREATING MASK PATTERN DATA, METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, AND METHOD FOR FORMING PATTERN
マスクパターンデータ作成方法、マスクパターン形成方法、及びパターン形成方法 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR DEVICE AND MASK PATTERN
半導体装置およびマスクパターン - 特許庁 - METHOD FOR FORMING MASK AND PATTERN
マスクおよびパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERN-DRAWING METHOD, MASK, AND MASK MANUFACTURING METHOD
パターン描画方法、マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁 - DEVICE FOR CORRECTING MASK PATTERN, PROGRAM FOR CORRECTING MASK PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK
マスクパターン補正装置、マスクパターン補正プログラムおよび露光用マスクの製造方法 - 特許庁 - VERIFICATION METHOD OF MASK PATTERN DATA, MANUFACTURING METHOD OF MASK, AND VERIFICATION PROGRAM OF MASK PATTERN DATA
マスクパタンデータの検証方法、マスクの製造方法、マスクパタンデータの検証プログラム - 特許庁 - MASK PATTERN TRANSFER METHOD, MASK PATTERN TRANSFER DEVICE, MANUFACTURE THEREOF, AND TRANSFER MASK
マスクパタ—ン転写方法、マスクパタ—ン転写装置、デバイス製造方法及び転写マスク - 特許庁 - DEVICE FOR CREATING MASK PATTERN, METHOD FOR CREATING MASK PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
マスクパターン生成装置、マスクパターン生成方法及び半導体装置 - 特許庁 - Then the mask material pattern and resist pattern are used as a mask to process the substrate.
そして、マスク材パターンとレジストパターンをマスクに基板を加工する。 - 特許庁 - MASK AND METHOD FOR FORMING HOLE PATTERN BY USING THE MASK
マスク及びそれを用いたホールパターン形成方法 - 特許庁 - SHADOW MASK AND ETCHING MASK PATTERN FOR MANUFACTURING THE SAME
シャドウマスク及びシャドウマスク製造用エッチングマスクパターン - 特許庁 - MASK PATTERN VERIFICATION METHOD, MASK PATTERN GENERATION METHOD, PATTERN DATA PROCESSOR, AND PROGRAM
マスクパターン検証方法、マスクパターン作成方法、パターンデータ処理装置、およびプログラム - 特許庁 - METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, MASK PATTERN CORRECTION DEVICE, CIRCUIT DESIGN DEVICE, AND PROGRAM FOR CORRECTING MASK PATTERN
マスクパターンの補正方法、マスクパターンの補正装置、回路設計装置及びマスクパターンを補正するプログラム - 特許庁 - MASK PATTERN TRANSFER METHOD, MASK PATTERN TRANSFER EQUIPMENT USING THE MASK PATTERN TRANSFER METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
マスクパターン転写方法、該マスクパターン転写方法を用いたマスクパターン転写装置及びデバイス製造方法 - 特許庁 - MASK PATTERN DATA PREPARATION METHOD, MASK PATTERN DATA PREPARATION PROGRAM, MASK, AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE
マスクパターンデータ作成方法、マスクパターンデータ作成プログラム、マスク、半導体装置の製造方法 - 特許庁 - PATTERN DRAWING DEVICE, PATTERN DRAWING METHOD, AND MASK
パターン描画装置、パターン描画方法、及びマスク - 特許庁 - MASK PATTERN FORMING METHOD AND PATTERN FORMING METHOD
マスクパターン作成方法及びパターン形成方法 - 特許庁 - GENERATING MASK PATTERN FOR ALTERNATING PHASE-SHIFT MASK LITHOGRAPHY
交番位相シフト・マスク・リソグラフィのマスク・パターンの生成 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERN FORMING USING MASK
マスクを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - MASK PATTERN FORMING METHOD AND SYSTEM
マスクパターン作成方法及びシステム - 特許庁 - MASK PATTERN CORRECTION METHOD AND PROGRAM, AND PHOTOMASK USING MASK PATTERN CORRECTION METHOD
マスクパターンの補正方法、プログラム及び該補正方法を用いたフォトマスク - 特許庁 - PATTERN EVALUATING METHOD AND METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN
パターン評価方法およびマスクパターンの補正方法 - 特許庁 - PATTERN EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE MASK
パターン露光方法および露光マスク - 特許庁 - METHOD FOR EXPOSING CIRCUIT PATTERN AND MASK
回路パターン露光方法及びマスク - 特許庁 - MASK PATTERN PREPARING METHOD AND DEVICE
マスクパターン作成方法および装置 - 特許庁 - MASK FOR EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE MASK
露光用マスク、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - METAL MASK, ITS MASK PATTERN PART AND REINFORCING FRAME BODY
メタルマスク並びにそのマスクパターン部及び補強用枠体 - 特許庁 - METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN CIRCUIT AND MASK CORRECTION SYSTEM
マスクパターン回路修正方法及びマスク修正システム - 特許庁 - GRAY TONE MASK, PATTERN TRANSFER METHOD AND GRAY TONE MASK BLANK
グレートーンマスク、パターン転写方法、及びグレートーンマスクブランク - 特許庁 - EXPOSURE MASK, MASK PATTERN CORRECTION METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
露光用マスク、マスクパターン補正方法、及び、半導体装置 - 特許庁 - CORRECTING METHOD OF MASK PATTERN AND RECORDING MEDIUM RECORDING MASK PATTERN CORRECTION PROGRAM
マスクパタ—ン補正方法及びマスクパタ—ン補正プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁 - METHOD OF DESIGNING MASK PATTERN SET, MASK PATTERN SET, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE
マスクパターンセットを設計する方法、マスクパターンセット、及びデバイス製造方法 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR DEVICE AND MASK PATTERN THEREOF
半導体装置およびそのマスクパターン - 特許庁
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