「Pattern Formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 7 8 9 10 11 12 13 14 15 .... 57 58 次へ＞- POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - INK FOR ETCHING RESIST AND FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN USING THE SAME
エッチングレジスト用インクおよびそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - To enable a formation of a good multilayer pattern without increasing costs.
コストアップを招くことなく良質な多層パターンを形成可能とする。 - 特許庁 - SILOXANE COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHOD
シロキサン化合物、これを含むフォトレジスト組成物、およびパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERN FORMATION USING CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE NEW LOW MOLECULAR RESIST MATERIAL
化学増幅型新規低分子系レジスト材料を用いるパターン形成 - 特許庁 - PATTERN FORMATION DEVICE AND DISPLAY PANEL MANUFACTURING METHOD USING THE SAME
パターン形成装置及びこれらを用いた表示用パネル製造方法 - 特許庁 - The formation of the tracking pattern p is preferable from the view of saving energy.
この追跡パターンｐの形成は、省エネルギーの観点から好ましい。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method using a water-soluble pattern formation material capable of suppressing defects in development simply and at low cost.
簡便かつ低コストに現像欠陥を抑制することが可能な水溶性パターン形成材料を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - MASK FOR FORMATION OF ELECTRODE PATTERN AND PRODUCTION OF ELECTRO-OPTIC DEVICE
電極パターン形成用マスク及び電気光学装置の製造方法 - 特許庁 - WIRING PATTERN, ITS FORMATION METHOD, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC MACHINE
配線パターン及びその形成方法、電気光学装置、並びに電子機器 - 特許庁 - Either a first pattern formation step that forms the first pattern on a substrate or a second pattern formation step that forms the second pattern on the substrate is carried out, and then, a wiring pattern is formed on the substrate by performing the other formation step.
第１パターンを基体に形成する第１パターン形成工程と第２パターンを基体に形成する第２パターン形成工程とのうちの一方の形成工程を行った後に、他方の形成工程を行うことで配線パターンを基体に形成することを特徴とする。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE, RESIST PATTERN FORMATION METHOD AND CONDUCTOR PATTERN MANUFACTURING METHOD
感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、レジストパターン形成方法及び導体パターン製造方法 - 特許庁 - In the updating processing, the formation of a resist pattern which is at least an image pattern for image adjustment is performed.
この更新処理では，少なくとも画調整用の画像パターンであるレジストパターンの形成を行う。 - 特許庁 - To enable formation of a desired pattern regardless of a density of the pattern when a double patterning method is used.
ダブルパターニング法を用いる場合にパターンの疎密に拘わらず、所望のパターンを形成できるようにする。 - 特許庁 - APPLICATOR AND DEVELOPER, RESIST PATTERN FORMATION APPARATUS, APPLICATION AND DEVELOPMENT METHOD, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND STORAGE MEDIUM
塗布、現像装置、レジストパターン形成装置、塗布、現像方法、レジストパターンの形成方法及び記憶媒体。 - 特許庁 - INSULATION PATTERN, FORMATION METHOD FOR THE INSULATION PATTERN, LIGHT-EMITTING DEVICE, MANUFACTURING METHOD FOR THE LIGHT-EMITTING DEVICE, AND ILLUMINATION DEVICE
絶縁パターン及びその形成方法、発光装置及びその作製方法、並びに照明装置 - 特許庁 - PATTERN FORMATION TO DISK-LIKE RECORDING MEDIUM, PATTERN FORMING DEVICE AND DISK-LIKE RECORDING MEDIUM
ディスク状記録媒体へのパターン形成方法およびパターン形成装置ならびにディスク状記録媒体 - 特許庁 - A pattern formation region 9 where the pattern is to be formed is provided on a ceramic green sheet 1 (a).
セラミックグリーンシート１上に、パターンを形成すべきパターン形成領域９が設けられている（ａ）。 - 特許庁 - RESIST PATTERN IMPROVING MATERIAL, FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
レジストパターン改善化材料、レジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法、及び半導体装置 - 特許庁 - To provide a resist pattern formation apparatus which can form a high precision resist pattern, using a simple structure.
簡易な構成で高精度なレジストパターンを形成可能なレジストパターン形成装置を提供すること。 - 特許庁 - The pattern formation process (S12) forms a pattern of a sacrifice layer projection part 2 on a main surface of the support substrate 3.
パターン形成工程（Ｓ１２）は、支持基板３の主面に犠牲層突出部２をパターン形成する。 - 特許庁 - To form a pattern without breaking it by facilitating the separation of an original plate from a pattern formation material.
原版とパターン形成材料との剥離を容易にすることによってパターンを崩さず形成する。 - 特許庁 - A test pattern is formed at the test pattern formation part 25 when the ink is jetted from the nozzles of the recording head 15.
テストパターン形成部２５は、記録ヘッド１５のノズルからインクが噴射されてテストパターンが形成される。 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD OF METAL OXIDE THIN FILM AND COMPOSITION FOR FORMATION OF METAL OXIDE THIN FILM PATTERN
金属酸化物薄膜のパターン形成方法および金属酸化物薄膜パターン形成用組成物 - 特許庁 - To provide a device for pitch pattern formation capable of forming a stable pitch pattern with high naturalness.
自然性が高く安定したピッチパターンを生成することができるピッチパターン生成装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a composition with stable dispersibility suitable for an image formation and a method for formation of an electrically conductive pattern.
分散性が安定し、画像形成に適した組成物および導電性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate for film-formation capable of being formed with a film shaped into a desired pattern in film-formation with light.
光による成膜において、膜を所望の形状にすることができる成膜用基板を提供する。 - 特許庁 - The decorative treatment includes the formation of a pattern layer 2, the coloring of the paper, and the formation of a colored coating film.
ここで言う装飾処理は、絵柄層２の形成、紙への着色、着色塗膜の形成等を包含する。 - 特許庁 - A resist pattern 53 for gates corresponding to a trench gate pattern is formed at the resist 49 of the cell formation region 3, and a dummy resist pattern 55 is formed in the resist 49 of the termination formation region 5.
セル形成領域３のレジスト４９にトレンチゲートパターンに対応するゲート用レジストパターン５３を形成し、終端部形成領域５のレジスト４９にダミーレジストパターン５５を形成する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming apparatus which suppresses the degradation in the accuracy of pattern formation due to yawing of a substrate by correcting the ink discharge timing of heads and realizes pattern formation of high accuracy.
基板のヨーイングに起因するパターン形成の精度低下を、ヘッドのインク吐出タイミングを補正することで抑制し、高精度なパターン形成を実現するパターン形成装置を提供する。 - 特許庁 - In the pattern formation area 3 of the photomask 1, a plurality of patterns 5B for the measurement of the pattern arrangement in the pattern formation area 3 are disposed dispersed.
フォトマスク１のパターン形成領域３内に、そのパターン形成領域３内のパターンの配置位置を測定するための位置測定用パターン５Ｂを複数分散させて配置した。 - 特許庁 - To provide a method of forming a fine pattern in a semiconductor device, which enables the formation of a narrow pattern by preventing the deformation of a photoresist pattern for ArF.
ArF用フォトレジストパターンの変形を抑え、狭いパターンの形成が可能な半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method whereby a periodic pattern and a non-periodic pattern can be formed at a low cost by using the self organization of a block copolymer.
ブロックコポリマーの自己組織化を利用し、低コストで周期パターンと非周期パターンを形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Moreover, detailed changes in a pattern can be performed easily in matching with the changes in the basic structure of a pattern or a pattern formation process.
また、パターンの基礎となる構造の変更やパターン形成処理に合わせたパターンの微細な変更を容易に行うことができる。 - 特許庁 - To provide a method for forming a resist pattern, the method capable of responding to formation of various types of resist patterns and allowing formation of a resist pattern excellent in depth of focus, a pattern profile, resolution, CDU (critical dimension uniformity) and resistance to pattern collapse.
種々のレジストパターンの形成に対応でき、焦点深度、パターン形状、解像性、ＣＤＵ及びパターン倒れ耐性に優れるレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁 - PATTERN FORMATION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME
パターン形成方法およびこれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, NEW COMPOUND AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤 - 特許庁 - ACID-SENSITIVE COPOLYMER, RESIST COMPOSITION, AND FORMATION OF RESIST PATTERN
酸感応性共重合体、レジスト組成物及びレジストパタ—ンの形成方法 - 特許庁 - To prepare a photosensitive fluid having the optimum K value for the formation of a resist pattern.
レジストパターンの形成に最適なＫ値をもつ感光液を製造する。 - 特許庁 - FORMATION METHOD OF PHOTOSENSITIVE RESIST PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
感光性レジストパターンの形成方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - LIQUID DISCHARGE APPARATUS, FORMATION METHOD FOR CORRECTION PATTERN, AND LIQUID DISCHARGE SYSTEM
液体吐出装置、補正用パターン形成方法、及び、液体吐出システム - 特許庁 - POLYMER, RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR RESIST PATTERN FORMATION
重合体、感放射線性樹脂組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERN FORMATION METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF FLAT DISPLAY PANEL USING THE SAME
パターン形成方法およびそれを用いたフラットディスプレイパネルの製造方法 - 特許庁 - STAMPER, CONCAVO-CONVEX PATTERN FORMATION METHOD AND INFORMATION RECORDING MEDIUM MANUFACTURING METHOD
スタンパー、凹凸パターン形成方法および情報記録媒体製造方法 - 特許庁 - PATTERN FORMATION METHOD USING LETTERPRESS PRINTING METHOD AND ORGANIC EL DISPLAY DEVICE
凸版印刷法によるパターン形成方法および有機ＥＬ表示装置 - 特許庁 - To confirm condition of a liquid repellent layer without formation of a thin film pattern.
薄膜パターンの形成を行うことなく撥液層の態様を確認する。 - 特許庁 - MICRO HEATER, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND PATTERN FORMATION METHOD UTILIZING MICRO HEATER
マイクロヒーター、その製造方法、及びマイクロヒーターを利用したパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMERIZABLE ESTER COMPOUND, POLYMER, RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMATION METHOD
重合性エステル化合物、重合体、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, POLYMER AND COMPOUND
感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、重合体及び化合物 - 特許庁 - STAMPER, IRREGULAR PATTERN FORMATION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF INFORMATION RECORDING MEDIUM
スタンパ、凹凸パターン形成方法及び情報記録媒体の製造方法 - 特許庁
- 特許庁
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