「Pattern Formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 11 12 13 14 15 16 17 18 19 .... 57 58 次へ＞- CALCULATION METHOD OF FAILURE PROBABILITY, PATTERN FORMATION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
不良確率の算出方法、パターン作成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - LIQUID DISCHARGING DEVICE, FORMATION METHOD OF PATTERN FOR ADJUSTMENT, COMPUTER PROGRAM, AND COMPUTER SYSTEM
液体吐出装置、調整用パターンの形成方法、コンピュータプログラム、及びコンピュータシステム - 特許庁 - From their image-formation points, secondary electrons according to a pattern on the wafer are emitted.
これらの結像点からは、ウェハー上のパターンに応じた２次電子が放出される。 - 特許庁 - To suppress the occurrence of a scratch when a pattern formation body is brought into contact with a magnetic recording medium.
パターン形成体と磁気記録媒体とが接触する際の傷の発生を抑制する。 - 特許庁 - This enables formation of recessed parts 11 in a certain pattern on the surface 2 of the glass substrate 1.
これにより、ガラス基材１の表面２にパターン状の凹部１１が形成される。 - 特許庁 - PHOTO BASE GENERATING AGENT, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE, AND NEGATIVE TYPE PATTERN FORMATION METHOD
光塩基発生剤、感光性樹脂組成物、物品、及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁 - In an alignment system, an alignment reticle pattern is subjected to image formation on a wafer which contains alignment marks.
アライメント装置は、アライメントレチクルパターンを、アライメントマークを含むウェファ上に結像させる。 - 特許庁 - TRANSFER PLATE FOR PATTERN FORMATION AND METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR DEVICE USING IT
パターン形成用転写版及びそれを用いた半導体装置用基板の製造方法 - 特許庁 - PIGMENT FOR FILTER AND PATTERN FORMATION USING THE SAME, AND COLOR CATHODE RAY TUBE
フィルタ用顔料およびこれを用いたパターン形成方法、並びにカラー陰極線管 - 特許庁 - FORMATION METHOD OF MULTILAYER THIN FILM PATTERN REQUIRING NO MASK ALIGNMENT NOR PHOTOLITHOGRAPHY PROCESS
マスク位置あわせ及びフォトリソグラフ工程を必要としない多層薄膜パターンの形成方法 - 特許庁 - FORMATION METHOD OF FINE PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT USING THE SAME
微細パターンの形成方法及びこれを用いた半導体発光素子の製造方法 - 特許庁 - Then, the upper resist layer 12 is exposed to light and developed for the formation of an upper resist pattern 12'.
次に、上層レジスト１２を露光・現像して上層レジストパターン１２’を形成する。 - 特許庁 - FORMATION METHOD OF PIXEL PATTERN, COLOR FILTER, DISPLAY ELEMENT AND COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
画素パターンの形成方法、カラーフィルタ、表示素子及び着色感放射線性組成物 - 特許庁 - FILM PATTERN FORMATION METHOD, DEVICE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, ELECTROOPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC EQUIPMENT
膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、デバイス、電気光学装置、及び電子機器 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING POSITIVE RESIST COMPOSITION, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD
ポジ型レジスト組成物の製造方法、ポジ型レジスト組成物、およびパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a resist for fine pattern formation excellent in both sensitivity and resolution.
感度、解像性ともに優れた、微細パターン形成用レジストの提供を目的とする。 - 特許庁 - To provide a composition for the formation of a resist protective film and a method for forming a resist pattern.
レジスト保護膜形成組成物およびレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - FORMATION METHOD OF FILM PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF DEVICE, ELECTRO-OPTIC DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS
膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、電気光学装置、並びに電子機器 - 特許庁 - POLYMER, ITS PRODUCTION METHOD, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN FORMATION
高分子化合物及びその製造方法並びに感光性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD AND PROCESSOR FOR DATA PROCESSING, METHOD AND DEVICE FOR PATTERN FORMATION, AND INFORMATION STORAGE MEDIUM
データ処理方法および装置、パターン形成方法および装置、情報記憶媒体 - 特許庁 - MASK AND METHOD FOR THIN FILM PATTERN FORMATION, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS
薄膜パターン形成用マスク、薄膜パターンの形成方法、電気光学装置及び電子機器 - 特許庁 - A thin film-like bypass formation film 6 is deposited while covering the inner wall of the groove pattern.
溝パターンの内壁を覆う状態で薄膜状のバイパス形成膜６を成膜する。 - 特許庁 - STIMULUS-SENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE STIMULUS-SENSITIVE COMPOSITION
感刺激性組成物、化合物及び該感刺激性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - MATERIAL FOR FORMATION OF PROTECTIVE FILM, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN, AND SOLUTION FOR WASHING/REMOVAL OF PROTECTIVE FILM
保護膜形成用材料、ホトレジストパターンの形成方法、及び保護膜洗浄除去液 - 特許庁 - FORMATION MATERIAL OF ORIGINAL PLATE FOR FINE PATTERN TRANSFER, ORIGINAL PLATE FOR TRANSFER, AND METHOD FOR MAKING THE SAME
微細パターン転写用原版の形成材料、転写用原版及びその作製方法 - 特許庁 - For the metallic pattern formation method, a metal film composed of Ru is formed on a substrate.
該金属パターンの形成方法では、基板上にＲｕからなる金属膜を形成する。 - 特許庁 - ONE-COMPONENT RESIST COMPOSITION FOR INK JET AND FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN USING IT
インクジェット用一液型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - To support formation and edition of a series of command/data to describe a motion pattern of a robot.
ロボットの動作パターンを記述する一連のコマンド／データの作成・編集を支援する。 - 特許庁 - POLYMER, RESIST MATERIAL CONTAINING THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME
重合体、およびそれを含むレジスト材料、ならびにそれを用いるパターン形成方法 - 特許庁 - NEW LACTONE-CONTAINING COMPOUND, HIGH POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMATION
新規なラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパタ—ン形成方法 - 特許庁 - An image formation part 22 and a transfer part 8 form a toner pattern on an intermediate transfer belt 11.
作像部２２及び転写部８は、中間転写ベルト１１にトナーパターンを形成する。 - 特許庁 - CARBON NANOTUBE GATE FIELD-EFFECT TRANSISTOR AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND FINE-PATTERN FORMATION METHOD
カーボンナノチューブゲート電界効果トランジスタとその製造方法、及び微細パターン形成方法 - 特許庁 - MULTIOXYGEN-CONTAINING COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMATION, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
多酸素含有化合物、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁 - PATTERN FORMATION METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM
パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE PASTE, FORMATION METHOD OF PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF MEMBER FOR FLAT DISPLAY PANEL
感光性ペースト、パターンの形成方法および平面ディスプレイパネル用部材の製造方法。 - 特許庁 - A groove 12 is provided to a wiring pattern formation position of a surface of an insulating base material 11.
絶縁性基材１１の表面の配線パターン形成位置に溝１２を設ける。 - 特許庁 - In a generating device for pattern formation data, a correction rule adding unit 3332 adds a correction rule required to a pattern formation process as a correction rule part to pattern formation data having a basic pattern part; and a corrected data generating unit 3333 corrects a pattern element represented by the basic pattern part, in accordance with the correction rule of the correction rule part to generate corrected data.
パターン形成用データ生成装置では、補正ルール付加部３３３２により、基礎パターン部を有するパターン形成用データに、パターンの形成処理において求められる補正ルールが補正ルール部として付加され、補正済データ生成部３３３３により、基礎パターン部が示すパターン要素が補正ルール部の補正ルールに従って補正されて補正済データが生成される。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method which is excellent in sensitivity, capability of reducing development defects, and pattern shape in negative pattern formation with a developer containing an organic solvent, and to provide a chemical amplification type resist composition and resist film.
有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、感度、現像欠陥低減、パターン形状のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁 - After that, the carrier tape is separated from the circuit pattern, the solder resist 22 is also formed at the external terminal formation side of the circuit pattern for patterning, and the external connection terminal formation region on the other surface of the circuit pattern is exposed.
その後、キャリアテープを回路パターンから剥離し、回路パターンの外部端子形成側にもソルダレジスト（２２）を形成しパターニングを行って、回路パターンの他面の外部接続端子形成領域を露出させる。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method and a pattern formation device, when forming finger wiring intersecting a bus wiring, forming a pattern of the finger wiring intersecting the bus wiring into a thick film (high aspect ratio), and suppressing ruggedness of the surface on the intersection part.
バス配線と交差するフィンガー配線を形成する際に、そのパターンを厚膜（高アスペクト比）に形成することができるとともに、その交差部における表面が凸凹になることを抑制することができる。 - 特許庁 - A gate electrode formation metal is vapor-deposited on the resist pattern 19 comprising the opening part 18, and the gate electrode formation metal on the resist pattern 19 and the resist pattern and removed to form a gate electrode 20.
開口部１８を含むレジストパターン１９上にゲート電極形成用金属を蒸着するとともに、レジストパターン１９上のゲート電極形成用金属およびレジストパターンを除去して、ゲート電極２０を形成する。 - 特許庁 - Density data of a test pattern formed by a test pattern formation part 100 are outputted from a print head and recorded on the recording paper.
テストパターン発生部１００により発生された、テストパターンの濃度データは、印字ヘッドに出力されて記録紙に印字される。 - 特許庁 - To ensure superior adhesiveness to a substrate in pattern formation by development and to obtain a good fine pattern of a heat resistant resin.
現像時のパターン形成において基板との優れた接着性が得られ、耐熱性樹脂の良好な微細パターンを得る。 - 特許庁 - To provide a formation method of a fine pattern which can improve uniformity of a pattern finer than the limit of exposure resolution.
露光解像度の限界より微細なパターンの均一性を改善することができる微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - The formation position of the resist pattern 4a for the mark for exposure position confirmation is confirmed and a wiring pattern 3b is formed through wet etching.
露光位置確認マーク用レジストパターン４ａの形成位置を確認し、ウェットエッチングにて配線パターン３ｂを形成する。 - 特許庁 - To provide a nanoimprint pattern formation method capable of providing a resin pattern of high aspect ratio, while suppressing edge effects.
エッジ効果を抑制しながらも、アスペクト比の高い樹脂パターンを得ることができるナノインプリントパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To form an appropriate light distribution pattern in a headlight for a vehicle using an actuator for formation or movement of the light distribution pattern.
配光パターンの形成または移動にアクチュエータを用いる車両用前照灯において適切な配光パターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method using double patterning capable of obtaining a fine pattern having a good shape.
良好な形状を有する微細なパターンを得ることのできるダブルパターニングを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a film pattern forming method which enables the formation of a desired film pattern on the surface of a substrate by the liquid droplets of a functional liquid.
機能液の液滴で基板の表面に所望の膜パターンを形成できる膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist pattern formation method for forming a resist pattern having higher adhesion with a supporting body with a method simpler than before.
従来よりも簡便な方法で支持体との密着性の高いレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
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