「Pattern Formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 10 11 12 13 14 15 16 17 18 .... 57 58 次へ＞- OPTICAL UNIT, INTERFERENCE DEVICE, STAGE DEVICE, PATTERN FORMATION DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
光学ユニット、干渉装置、ステージ装置、パターン形成装置およびデバイス製造方法 - 特許庁 - METAL ELECTRODE PATTERN FORMATION METHOD AND ADHESIVE SHEET FOR PEELING AND REMOVING METAL FILM
金属電極パターン形成方法および金属膜剥離除去用接着シート - 特許庁 - UNSATURATED MONOMER, POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMATION METHOD
不飽和単量体、重合体、化学増幅レジスト組成物、および、パターン形成方法 - 特許庁 - A side part 8a of the adhesive layer facing a pattern formation area 4 is covered by an electrodeposition metal layer 9 laminated by an electroforming method at an outer periphery edge 4a of the pattern formation area.
パターン形成領域４に臨む接着剤層の側部８ａを、パターン形成領域の外周縁４ａに電鋳法により積層された電着金属層９で覆う。 - 特許庁 - PASTE FOR PATTERN FORMATION AND MANUFACTURING METHOD FOR CERAMIC MULTILAYER WIRING BOARD USING IT
パターン形成用ペースト及びこれを用いたセラミック多層配線基板の製造方法 - 特許庁 - FORMATION METHOD OF ELECTRODE PATTERN AND PLASMA DISPLAY PANEL HAVING THE SAME FORMED THEREUPON
電極パターンの形成方法および該電極パターンを形成したプラズマディスプレイパネル - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition, a pattern formation method, a polymer and a compound which are excellent in pattern formation property, MEEF performance and etching resistance.
パターン形成性、ＭＥＥＦ性能及びエッチング耐性に優れる感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、重合体及び化合物を提供すること。 - 特許庁 - In addition, parallel pattern formation, additional alignment, etc., can be realized by the combination of the patterns A and B.
パターンＡ，Ｂの組合せて並列パターン形成、追加露光等が可能である。 - 特許庁 - PATTERN FORMATION METHOD, MANUFACTURING METHOD OF TRENCH CAPACITOR, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC ELEMENT
パターン形成方法、トレンチ型コンデンサの製造方法及び電子素子の製造方法 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for a color filter capable of enhancing a pattern formation limit, and capable of forming a further fine pattern.
パターン形成限界が向上し、より微細なパターンの形成が可能となるカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁 - After electrolytic copper plating, the surface of the wiring pattern formation block 22 is polished to equalize the thickness of the plating of the wiring pattern.
電解銅メッキ後に、配線パターン形成ブロック２２の表面を研磨して配線パターンのメッキ厚を均一にする。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method capable of processing a fine pattern having a high aspect ratio, a plurality of level difference structures, etc.
高アスペクト比、複数の段差構造などを有する微細パターンの加工が可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a multilayer wiring board manufacturing method whereby fine pattern formation is enabled and problems are solved concerning a decrease in value and the delamination of the formed wiring pattern.
ファインパターンの形成を可能とし、形成された配線パターンの目減りや剥離等の問題を解消する。 - 特許庁 - To provide a pattern determining method that facilitates quickly determining whether a processing failure occurs, prior to pattern formation.
加工不良となるか否かをパターン形成前に容易かつ迅速に判定するパターン判定方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method for forming a high-density/high-definition pattern in a short period, and to provide a circuit substrate.
高密度・高精細なパターンを短時間に形成することができるパターン形成方法及び回路基板を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method for forming a pattern where unevenness is reduced on a sidewall by a multilayer resist process.
側壁の凹凸を低減したパターンを、多層レジストプロセスを用いて形成可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method with which a detailed reverse pattern is formed in the good shape with the small number of processes.
微細な反転パターンを、少ない工程数で、良好な形状で形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a resin sheet with a pattern, capable of performing an efficient and highly precise pattern formation.
効率よく精度の高いパターン形成を実施させ得るパターン付樹脂シート製造方法の提供を課題としている。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a color filter that improves a pattern formation limit to form a finer pattern.
パターン形成限界が向上し、より微細なパターンの形成が可能となるカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To further suppress resist pattern collapse in resist pattern formation using a chemical-amplification type resist material.
化学増幅型のレジスト材料を用いたレジストパターン形成において、よりレジストパターン倒れを抑制することを可能とする。 - 特許庁 - Then, a lower resist layer 11 is etched, using the upper resist pattern 12' as a mask for the formation of a rectangular resist pattern 11'.
次に、上層レジストパターン１２’をマスクにして下層レジスト１１をエッチングして、矩形なレジストパターン１１’を形成する。 - 特許庁 - To provide a resist composition and a resist pattern formation method with excellent lithographic properties and excellent resist pattern shapes.
リソグラフィー特性が良好で、レジストパターン形状も良好なレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - Major surface of a substrate W is separated into a pattern area PA for forming a pattern, and an edge area EA not subjected to pattern formation.
基板Ｗの主面は、パターン形成が行われるパターン領域ＰＡとパターン形成の対象外である端縁部領域ＥＡとに分離されている。 - 特許庁 - To provide a device and method for forming a pattern that can form a favorable pattern according to a predetermined pattern formation planned portion.
所定のパターン形成予定部に対応した良好なパターン形成をすることができるパターン形成装置及びパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method which can increase a productivity by increasing a pattern accuracy during formation of a pattern, and also an exposure apparatus using the method.
パターン形成において、パターン精度を向上させることができ、生産性を向上させることができるパターン形成方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁 - To easily generate data of a corrected pattern in matching with the conditions of pattern formation in designing a geometric pattern to be formed on a substrate.
基板上に形成される幾何学的パターンの設計において、パターンを形成する条件に合わせて補正済パターンのデータを容易に生成する。 - 特許庁 - The photomask 11 includes, in a prescribed region, a mask pattern evaluating pattern 13 as well as a mask pattern 12 which takes part in the formation of an element on a semiconductor wafer.
フォトマスク１１は、半導体ウェハ上への素子形成に関するマスクパターン１２と共にその評価パターン１３を所定領域に含んでいる。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMATION METHOD, PATTERN FILM, LOW REFRACTIVE INDEX FILM, OPTICAL DEVICE AND SOLID IMAGING ELEMENT USING THE SAME
感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 - 特許庁 - In this case, an operation of forming the registration pattern in a formation position where the erroneous detection arises is inhibited, and a formation position P (9) other than the formation positions P (1) to P(8) is regarded as a new formation position.
この場合には、誤検出が発生した形成位置でのレジストパターンの形成を禁止する一方、形成位置Ｐ(1)〜Ｐ(8)とは異なる形成位置Ｐ(9)を新たな形成位置としている。 - 特許庁 - To provide an apparatus and a method for film formation permitting efficient formation of a film pattern containing two or more types of compositions.
複数種類の組成を含む膜パターンを効率良く形成することができる成膜装置及び成膜方法を提供する。 - 特許庁 - To reduce the amounts of coating of coating liquid at formation of a reflection preventing film or a resist film at formation of a resist pattern.
レジストパタ−ン形成の際の、反射防止膜形成やレジスト膜形成の際に、塗布液の塗布量の低減化を図ること。 - 特許庁 - To realize formation of a fine pattern or production of a thin plate shaped pattern by a simple process without using a costly photomask, when forming the fine pattern on a substrate or producing the thin plate shaped pattern structure.
基体上に微細パターン形成し、あるいは薄い板状パターン構造を製作する際に、高価なフォトマスクを使用せずに簡単なプロセスでそれらの製作を実現する。 - 特許庁 - To form accurately a desired fine width pattern without depending upon the roughness and fineness of pattern distribution irrespective of an extraction or remnant pattern with respect to a formation method of an electron device and a fine width pattern.
電子デバイス及び微細幅パターンの形成方法に関し、抜きパターンや残しパターンのいずれの場合もパターン分布の粗密に依存せずに所望の微細幅パターンを精度良く形成する。 - 特許庁 - To provide a center line formation device and a center line formation method of a belt-like pattern, and a program for realizing the center line formation method for determining accurately the center line of the belt-like pattern.
帯状パターンの中心線を正確に求めることのできる帯状パターンの中心線形成装置、中心線形成方法および中心線形成方法を実現するためのプログラムを提供すること。 - 特許庁 - A substrate 12 is mounted on an electrode plate 18 inside a film formation chamber 14 with a pattern formation region negatively charged and a non-pattern formation region positively charged by a variable DC power supply 38.
基板１２は、パターン形成領域がマイナスに帯電させてあり、成膜チャンバ１４内の電極板１８に装着され、非パターン形成領域が可変直流電源３８によってプラスに帯電させてある。 - 特許庁 - RESIST PATTERN USED FOR BUMP FORMATION BY DEPOSITION LIFT-OFF AND FORMATION METHOD THEREOF, BUMP AND FORMATION METHOD THEREOF AND ELASTIC SURFACE WAVE ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
蒸着リフトオフによるバンプ形成に用いるレジストパターンおよびその形成方法、バンプおよびその形成方法、ならびに弾性表面波素子およびその製造方法 - 特許庁 - To provide a pattern forming material allowing formation of a pattern excellent in sensitivity and resolution in pattern formation by irradiation with electron beams or EUV, and to provide a negative resist composition using the pattern forming material, and a pattern forming method and an electronic component using the negative resist composition.
電子線又はＥＵＶの照射によるパターン形成において、感度及び解像力に優れたパターンを形成可能なパターン形成材料、当該パターン形成材料を用いたネガ型レジスト組成物、及び当該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法並びに電子部品を提供する。 - 特許庁 - A circuit board covers the mounted circuit element 5 with the resin mold 7 after mounting the circuit element 5 on a substrate 1, flattens the circuit pattern formation face of the resin mold 7, and forms the circuit pattern 8 such as a wiring pattern and a passive element pattern of an ink jet printing device on the circuit pattern formation face.
基板１上に回路素子５を実装した後に、実装した回路素子５を樹脂モールド７で覆い、この樹脂モールド７の回路パターン形成面を平坦面として、この回路パターン形成面にインクジェット印刷装置で配線パターン、受動素子パターン等の回路パターン８を形成する。 - 特許庁 - RESIST FILM LITHOGRAPHY APPARATUS AND THIN FILM PATTERN FORMATION METHOD AND OPTICAL COMPONENT PRODUCED BY THE SAME
レジスト膜描画装置と薄膜パターンの形成方法およびそれによる光学部品 - 特許庁 - To provide an imprint device advantageous to realize both of accurate pattern formation and throughput.
正確なパターン形成とスループットとの両立に有利なインプリント装置を提供する。 - 特許庁 - FILM PATTERN FORMATION METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD, DEVICE, ELECTRO-OPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC APPARATUS
膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、デバイス、電気光学装置、及び電子機器 - 特許庁 - TRENCH FORMATION METHOD, PATTERN OF FILLER, METHOD FOR FORMING THE SAME AND DEVICE
トレンチの形成方法、充填材のパターンの形成方法、充填材のパターン及びデバイス - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition enabling formation of a pattern with excellent mechanical characteristics.
機械特性に優れたパターンを形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - FORMATION OF PATTERN OF MAGNETORESISTANCE ELEMENT AND MAGNETORESISTANCE ELEMENT USING THE SAME
磁気抵抗素子のパターン形成方法およびこのパターン形成方法を用いた磁気抵抗素子 - 特許庁 - PRODUCING METHOD OF COMPOSITE FOR PATTERN FORMATION BY INK JET SYSTEM, AND LUMINESCENCE EQUIPMENT
インクジェット方式によるパターン形成用組成物並びに発光装置の作製方法 - 特許庁 - RUGGED PATTERN FORMATION SHEET, OPTICAL SHEET, LIGHT DIFFUSION SHEET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
凹凸パターン形成シート、光学シートおよび光拡散シートおよびそれらの製造方法 - 特許庁 - A metal layer on an insulating film 1 is subjected to etching for the formation of a desired circuit pattern 3.
絶縁フィルム１上の金属層をエッチングして、所望の回路パターン３を形成する。 - 特許庁 - This pattern formation device has a masking plate arranged oppositely to a surface of a glass plate.
パターン形成装置は、ガラス板の表面に対向配置されるマスキング版を有する。 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE GLASS PASTE COMPOSITION AND BAKED MATTER PATTERN FORMATION USING THE SAME
ポジ型感光性ガラスペースト組成物及びそれを用いた焼成物パターン形成方法 - 特許庁 - OPTIMIZATION METHOD OF LIGHTING SHAPE, OPTIMIZATION METHOD OF MASK SHAPE, AND PATTERN FORMATION METHOD
照明形状の最適化方法、マスク形状の最適化方法及びパターン形成方法 - 特許庁
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