「Pattern Formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 15 16 17 18 19 20 21 22 23 .... 57 58 次へ＞- To provide a lamination structure capable of simply forming a minute pattern and including a high value added function in addition to the pattern formation.
簡便に微細なパターンの形成が可能であって、かつ、パターン形成以外に高付加価値機能を有する積層構造体を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a pattern formation for forming a highly accurate pattern in a simple method.
本発明は、簡易な方法で、高精細なパターンを形成可能なパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁 - Subsequently, formation of seams of the pattern, the sewing of which is suspended, is resumed on the basis of data of the pattern whose sewing is suspended, which are stored in the holder H1 in the flush memory.
次に、フラッシュメモリ内のホルダーＨ１に記憶させた休止データに基づき、縫製を休止した模様の縫目形成を再開する。 - 特許庁 - The image forming apparatus displays information for specifying the developing device used for formation of the corresponding pattern in the vicinity of the upper end of each band-like pattern.
各帯状パターンの上端部付近には、当該パターンの形成に使用された現像器を特定するための情報が表示される。 - 特許庁 - To provide a formation method for a film pattern that can improve adhesion between a film pattern and a substrate.
本発明の目的は、得られる膜と基板との間の密着力を向上させることのできる膜パターンの形成方法を提供することにある。 - 特許庁 - The image forming apparatus displays information 453 for specifying the developing device used for formation of the pattern in the vicinity of the upper end of each band-like pattern.
各帯状パターンの上端部付近には、当該パターンの形成に使用された現像器を特定するための情報４５３が表示される。 - 特許庁 - At the formation of this resin film layer 5, the flowing direction of the grain pattern is set to be same as that of the light and shade pattern of the base material 3.
この樹脂膜層５を形成する際、木目模様の流れ方向と、基材３の明暗模様の流れ方向とを同じにしておく。 - 特許庁 - In other words, the test pattern CP is printed so that the formation position of a sub-pattern printed by using a second ink lighter than a first ink comes to the center side of the paper S more than the formation position of a first sub-pattern printed by using the first ink.
つまり、第一インクよりも淡い第二インクを用いて印刷されるサブパターンの形成位置が、第一インクを用いて印刷される第一サブパターンの形成位置よりも、用紙Ｓの中央側に来るように、テストパターンＣＰは印刷される。 - 特許庁 - At formation of a mask for pattern transfer after the step of electron beam exposure, an overcorrection is performed by adding the proximity effect produced at electron beam transfer exposure, using the mask for pattern transfer to the proximity effect correction produced at the formation of the mask for pattern transfer.
電子線露光工程を経てパターン転写用マスクを作製する際に、パターン転写用マスク作製時の近接効果補正分に、該パターン転写用マスクを使用した電子線転写露光時の近接効果分を上乗せして過剰に補正する。 - 特許庁 - To obtain a method for analyzing a defect of a mask blank, which is capable of accurately specifying which process a defect occurred during formation of a thin film for pattern formation in.
パターン形成用薄膜の際、どのプロセスで欠陥が発生したのかを正確に特定することができるマスクブランクの欠陥分析方法を得る。 - 特許庁 - To provide a tufting machine that can attain easy formation of tufting various patterns, has a simplified machine structure and can realize the steady motion for the tufting pattern formation.
多種多彩なタフト模様を容易に形成可能にするとともに、構造を簡単化し、確実なタフト模様形成動作を実現し得るタフトミシンを提供する。 - 特許庁 - The composite scanning pattern 12 provides the broad visual field in the both of the image formation in the shallow part and the image formation in a deep part.
複合走査パターン１２は、浅い部分での画像形成および深い部分での画像形成の両方において幅広い視野を提供するものである。 - 特許庁 - To provide an optical pattern forming member which enhances peeling resistance of a hardened film itself formed on the optical pattern forming member and enables fine formation of the optical pattern in high precision.
光学パターン形成用部材に形成される硬化膜自身の耐剥離性を高めると共に、微細な光学パターンを高精度で形成できる光学パターン形成用部材を提供すること。 - 特許庁 - To provide a formation method of a circuit pattern which can easily align a wettability control pattern and an ink-jet printing pattern with high precision, a transistor element substrate and a display device.
濡れ性制御パターンとインクジェット印刷パターンとのアライメントを容易に高精度で合わせる配線パターンの形成方法を提供し、トランジスタ素子基板並びに表示装置を提供する。 - 特許庁 - Consequently, the corrected data 93 as the data of a corrected pattern in matching with pattern formation conditions or the like can be generated easily, and the design efficiency of a pattern can be improved.
その結果、パターン形成条件等に合わせて補正したパターンのデータである補正済データ９３を容易に生成することができ、パターンの設計効率を向上することができる。 - 特許庁 - To provide a pattern mask for electron beam irradiation capable of forming a very fine pattern by suppressing the occurrence of a gap between a pattern formation layer and a mask substrate, and also capable of reducing a cost.
パターン形成層との間に隙間が生じるのを抑制して高精細のパターンを形成することができ、コストを削減できる電子線照射用パターンマスクを提供する。 - 特許庁 - To conduct the formation of a pattern with higher accuracy and high aesthetic property while maintaining the flushness of the surface of a metal body after the pattern is formed in a method of forming the pattern on the surface of the metal body.
金属体表面にパターンを形成する方法において、パターン形成後の金属体表面の面一性を保ちつつ、より正確で審美性の高いパターン形成を行う。 - 特許庁 - To provide a method for fine pattern formation for suppressing the film thickness of a crosslinked film and causing no development defect in a method of effectively microfabricating a fine resist pattern by using a fine pattern forming material.
微細パターン形成材料を用いて実効的にレジストパターンを微細化する方法において、架橋膜膜厚を抑え、尚且つ現像欠陥がない微細パターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide a mask pattern evaluation device which can accurately extract a hot spot by reflecting the formation result of a mask pattern actually formed on a mask pattern, and the manufacturing method of the photomask.
フォトマスクに実際に形成されるマスクパターンの出来映えを反映させることにより正確にホットスポットを抽出可能なマスクパターン評価装置及びフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a formation capable of visualizing an even pattern which is not a significant pattern in particular under reflection light and capable of visualizing a latent image pattern under transmission light.
反射光下においては、特に有意味な模様ではない一様の模様が視認でき、透過光下においては潜像模様を視認することができる形成体を提案することを目的とする。 - 特許庁 - To form a conductive pattern, while thinning and flattening the conductive pattern by repeating the formation by electroplating and polishing of the conductive pattern.
本発明は、導電性パターンを電気めっきによる形成と研磨とを繰り返し行うもので、導電性パターンを薄くし且つ平坦にしながら導電性パターンを形成することを目的とする。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus in which interrupted time of image formation during registration correction is shortened, by performing image formation without being interrupted during formation of registration pattern.
本発明は、画像形成装置において、レジストパターン形成時に画像形成を中断することなく実行することにより、レジスト補正時に中断する画像形成の時間を短縮することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a flush memory element by utilizing a self-alignment non-exposure pattern formation process.
自己整列無露光パターン形成プロセスを利用してフラッシュメモリ素子を製造する方法を提供する。 - 特許庁 - SUBSTRATE FOR FORMATION OF PATTERN FILM, ITS MANUFACTURING METHOD AND ELECTRO-OPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC INSTRUMENT
パターン膜形成基板及びパターン膜形成基板の製造方法、並びに電気光学装置及び電子機器 - 特許庁 - SOFT X-RAY REDUCTION PROJECTION ALIGNER, SOFT X-RAY REDUCTION PROJECTION EXPOSURE METHOD, AND PATTERN FORMATION METHOD
軟Ｘ線縮小投影露光装置、軟Ｘ線縮小投影露光方法及びパターン形成方法 - 特許庁 - A first gate layer 42 is subjected to pattern formation in the gate insulation layer, and is positioned over the channel region.
第一ゲート層４２は前記ゲート絶縁層にパターン形成され、前記チャネル領域上に位置する。 - 特許庁 - To provide a photomask achieving formation of a pattern with little dimensional change while suppressing variation in an opening ratio.
開口比変動を抑えて、寸法変動の小さなパターン形成を実現するフォトマスクを提供する。 - 特許庁 - Thereafter, the processed film is subjected to etching using the first and second mask as a mask for the formation of the pattern free from edge roughness.
その後、第１マスク及び第２マスクをマスクとして、被加工膜をエッチングしてパターンを形成する。 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, MARK FOR ALIGNMENT, METHOD AND APPARATUS FOR FORMATION OF PATTERN AS WELL AS PASTE
半導体装置およびその製造方法、位置合わせ用マーク、パターン形成方法・装置およびペースト - 特許庁 - To provide a wiring formation method for forming a wiring pattern on a substrate by using a printing method.
印刷方法を用いて基板上に配線パターンを形成する配線形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To easily form, on a substrate, a rib pattern suitable for formation of a lattice-like rib using a nozzle part.
ノズル部を用いた格子状のリブの形成に適したリブパターンを基板上に容易に形成する。 - 特許庁 - To provide a self-aligned spacer multiple patterning method which permits the formation of a high-density resist pattern.
高密度レジストパターンの形成を可能にする、自己整合型スペーサー多重パターニング方法を提供する。 - 特許庁 - Preferably, ultraviolet irradiation, heating treatment, and/or plasma treatment are performed to the resist film after pattern formation.
好適には、パターン形成後のレジスト膜に紫外線照射、加熱処理及び／又はプラズマ処理を行う。 - 特許庁 - After the formation of the resin layer 18, a protection layer 21 is formed so as to cover the whole face of the pattern layer 20.
樹脂層１８の形成後、模様層２０の全面を覆うように保護層２１が形成される。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition with good resolution and lithography property and a resist pattern formation method.
解像性やリソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - CRYSTAL DEFECT RESTORATION METHOD, CRYSTAL PRODUCTION METHOD, PATTERN FORMATION METHOD, AND X-RAY DOSE DETECTION BODY
結晶欠陥の回復方法、結晶体の作製方法、パターン形成方法、Ｘ線量の検出体 - 特許庁 - To make the thickness of a film of an organic electroluminescence material layer to be uniform and to improve the precision of its pattern formation.
有機ＥＬ材料層の膜厚を均一化すること、及びそのパターン形成の精度を高める。 - 特許庁 - To facilitate the formation of a circuit pattern on a board without necessitating so many manufacturing processes.
多くの製造工程を必要とすることなく基板上への回路パターンの形成を容易に実現する。 - 特許庁 - To provide a biaxially stretched resin film that is inhibited in the rainbow pattern formation in the crossed Nicols method inspection.
クロスニコル法の検査において、虹模様の発生が抑制された二軸延伸樹脂フィルムを提供する。 - 特許庁 - To provide a thin film pattern formation apparatus by which satellites are completely eliminated.
サテライトを完全に消滅させることができる薄膜パターン形成装置を提供することを課題とする。 - 特許庁 - RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, COLOR FILTER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND SOLID STATE IMAGING DEVICE
感放射線性組成物、パターン形成方法、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子 - 特許庁 - An inspector (P) for determining the existence of the formation defect of the resist pattern 12 is positioned on the light source part S side.
レジスト・パターン１２の形成不良の有無を判定する検査者(Ｐ)は、光源部Ｓ側に位置する。 - 特許庁 - Thereafter, the control device projects a pattern image to the wafer in the adjusted formation condition (step S16).
その後、制御装置は、調整された形成条件で、ウエハに対してパターン像を投影する（ステップＳ１６）。 - 特許庁 - To provide an apparatus and a method for measuring the thickness of a multilayer film laminated on a pattern formation wafer.
パターン形成ウェーハに積層された多層膜の厚さを測定する装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - INORGANIC POWDER-CONTAINING RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRODE FOR FLAT PANEL DISPLAY
無機粉体含有樹脂組成物、パターン形成方法およびフラットパネルディスプレイ用電極の製造方法 - 特許庁 - SULFONIUM SALT HAVING POLYMERIZABLE ANION AND POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR PATTERN FORMATION
重合性アニオンを有するスルホニウム塩及び高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a roll printing device capable of executing precise ink pattern formation even onto a large substrate.
大型基板上においても精密なインクパターン形成が可能なロールプリント装置を提供すること。 - 特許庁 - A solid pattern 16 is formed on each surface of a board 12 for the formation of a single-layered ceramic board 10.
基板１２の両面には、ベタパターン１６が形成され、単層セラミック基板１０が形成される。 - 特許庁 - In this way, positions subject and not subject to sintering are formed in dots, resulting in the formation of a sintered circuit pattern 2.
この焼結と未焼結がドット状に形成され、焼結された回路パターン２が形成される。 - 特許庁 - Thereafter, the semiconductor wafer is subjected to a lithography process in a step 15 for the formation of a required wiring pattern on the wafer.
その後、ステップ１５においてリソグラフィ工程が行われ、所望の配線パターンが形成される。 - 特許庁
- 特許庁
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