「Pattern Formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 17 18 19 20 21 22 23 24 25 .... 57 58 次へ＞- The photomask includes a fine pattern 53 in a mask pattern region corresponding to the formation of a hole He on an upper face of the optical path difference adjusting layer 57 which constitutes a color filter.
カラーフィルタを構成する光路差調整層５７上面のホールＨｅの形成に対応したマスクパターン領域に微細パターン５３が設けられている。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a substrate, which prevents formation of a plated layer on a needless part, and can form a fine pattern, namely a clearer pattern of a circuit.
無駄な部分のめっき層の形成を防止し、ファインパターン、即ちより鮮明な回路パターンの形成が可能な基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a test pattern-forming apparatus for logic circuits which has a means for enhancing a formation success rate for a test pattern enabling a plurality of target failures to be detected.
複数個のターゲット故障を検出できるテストパターンの作成の成功率を高める手段を備えた論理回路のテストパターン作成装置を提供する。 - 特許庁 - Then, based on the detected result of the adjustment pattern, the dot pattern formation conditions (for example, development bias) are changed so as to be in conformity with the change of the environmental conditions.
そして、調整パターンの検出結果に基づいて、ドットパターン形成条件（例えば、現像バイアス）を環境条件の変化に適合するように変更する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method capable forming a fine pattern by reducing the cost and time for forming.
パターン形成において、低コスト化及び形成時間の短縮化を図るとともに、微細パターンの形成を可能としたパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - In the method for forming film pattern, droplets containing a film component are discharged to a predetermined film formation region on the substrate 1 and the film pattern is formed.
膜成分を含有した液滴を、基板１上の所定の膜形成領域に吐出して膜パターンを形成する膜パターンの形成方法である。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method and an imprint mold manufacturing method which achieve a highly accurate pattern manufactured by using a self-organization material.
自己組織化材料を用いて製造されるパターンの高精度化を図ったパターンの形成方法，およびインプリント用モールドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The formation of the minute pattern is performed by use of a metal mold 2 having a minute pattern by recessed parts 18 formed on a surface by photolithographic technique as a die.
そして、微細模様の形成は、表面にフォトリソグラフィ技術を用いて凹部１８による微細模様を形成した金型２を型として用いて行う。 - 特許庁 - The pattern rings 4 are made up of a plurality of pattern ring formation members 4A, 4B and 4C preferably divided in the circumference of the rotary drum 1.
パターンリング４は、好ましくは回転ドラム１の周方向に分割される複数のパターンリング形成部材４Ａ，４Ｂ，４Ｃから構成されている。 - 特許庁 - The method for pattern formation comprises covering the surface of a hydrophobic polymer with a mask pattern followed by contacting with an active oxygen species in water to etch exposed parts.
疎水性ポリマー表面をマスクパターンで被覆し、水中において活性酸素種と接触させ、露出部分をエッチングするパターン形成方法である。 - 特許庁 - In an image formation device, a toner pattern detector for detecting a toner pattern transferred to a transfer belt comprises 108 reflection type optical sensors (2245_1 to 2245_108).
転写ベルトに転写されたトナーパターンを検出するためのトナーパターン検出器は、１０８個の反射型光学センサ（２２４５_１〜２２４５_１０８）を有している。 - 特許庁 - A silicide formation preventing film pattern is simultaneously formed on the resistor part, while the L-shaped spacer is formed on both sidewalls of the gate pattern of the transistor part.
前記トランジスタ部のゲートパターンの両側壁にＬ字型スペーサを形成しつつ前記抵抗部にはシリサイド形成防止膜パターンを同時に形成する。 - 特許庁 - Moreover, since the level of the node NH or NL is selected and outputted through the wiring pattern of the pattern connection section 20, no ion implantation for ROM formation is required.
また、パターン接続部２０の配線パターンでノードＮＨ，ＮＬのレベルを選択して出力するので、ＲＯＭ化のためのイオン注入を必要としない。 - 特許庁 - An alignment pattern consisting of a trench groove 21 is formed in an alignment mark formation region A1 and a light transmitting film material 3a is formed covering the alignment pattern.
アライメントマーク形成領域Ａ１にトレンチ溝２１からなるアライメントパターンを形成し、該アライメントパターンを覆う態様で透光性の膜材３ａを成膜する。 - 特許庁 - To improve the manufacturing yield of a semiconductor device by preventing formation of an error pattern in a resist pattern by reducing fine residue on a semiconductor substrate.
半導体基板上の微小残渣を低減して、レジストパターンにおける不正パターンの形成を防止し、半導体装置の製造歩留まりを向上させる。 - 特許庁 - An adjustable clock formation section 23 outputs a clock for deciding one code length which is a time length of each code which composes a sine pattern and a cosine pattern.
可変クロック生成部２３は、正弦パターンや余弦パターンを構成する各符号の時間長である１符号長を決定するためのクロックを出力する。 - 特許庁 - The process from process design to machining pattern formation includes a reverse problem simulation process for obtaining a machining process and a machining pattern from designed device structure.
プロセス設計から加工パターン生成に至る工程には、設計デバイス構造から加工プロセス及び加工パターンを求める逆問題シミュレーション工程が含まれる。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition for a solid state imager excellent in pattern forming property and developability, giving a high refractive index cured product, and capable of easy pattern formation.
パターン形成性及び現像性に優れ、高屈折率の硬化物を与える、パターン形成が容易な感光性の固体撮像素子用組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a method to manufacture a diffraction structure formation body in which the pattern by the diffraction structure and the pattern by a metal layer are in agreement without positioning.
位置合わせなしに回折構造による絵柄と金属層による絵柄の位置が合った回折構造形成体を製造できる方法を提供する。 - 特許庁 - Further, the image forming apparatus includes a determination part for comparing the first dot pattern data and the second dot pattern data to determine a shift amount of the formation positions.
また、本画像形成装置は、第１のドットパターンデータと第２のドットパターンデータとを比較して、形成位置のズレ量を決定する決定部を含む。 - 特許庁 - In this case, after the formation of the fine pattern, the base surface of the periphery of the pattern is chemically decorated with the hydrophilic molecular ink in an aqueous solution.
その場合に、前記微細パターンの形成後に、水溶液中で微細パターンの周囲の基板面に前記親水性分子インクで化学修飾を行う。 - 特許庁 - In addition, the image forming apparatus displays a symbol 453 for specifying the developing device used for formation of the respective band-like pattern in the vicinity of the upper end of each band-like pattern.
また、各帯状パターンの上端部付近には、それぞれの帯状パターンの形成に使用した現像器を特定するための記号４５３を付す。 - 特許庁 - PROCESS FOR PRODUCING METAL-FILM-COATED MATERIAL, METAL-FILM-COATED MATERIAL, PROCESS FOR PRODUCING METALLIC-PATTERN MATERIAL, METALLIC-PATTERN MATERIAL AND COMPOSITION FOR POLYMER LAYER FORMATION
表面金属膜材料の作製方法、表面金属膜材料、金属パターン材料の作製方法、金属パターン材料、及びポリマー層形成用組成物 - 特許庁 - The adjustment means forms an adjustment pattern with a developer on a carrier and measures the adjustment pattern to perform an operation adjusting at least one of an image formation position and an image formation density.
調整手段は、担持体上に現像剤による調整パターンを形成して調整パターンを測定することにより画像形成位置または画像形成濃度のうち少なくとも一方の調整動作を行う。 - 特許庁 - To provide a coloring photosensitive composition which is excellent in suppressing changes in chromaticity in a formed color film, enables formation of a pattern having excellent solvent resistance, and is suitably used for formation of a color pattern of a color filter.
形成された着色膜における色度変化の抑制に優れ、且つ、耐溶剤性に優れたパターン形成が可能であり、カラーフィルタの着色パターン形成に好適に用いうる着色感光性組成物の提供。 - 特許庁 - The pattern formation method for a resist in micromachining of manufacture of a photomask or semiconductor is characterized such that pattern formation of the resist is performed by generating mist of the developer and processing liquid.
フォトマスクまたは半導体製造の微細加工におけるレジストのパターン形成方法において、現像液及び処理液をミスト状に発生させてレジストのパターン形成を行うことを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁 - So, neither erasion of the detecting pattern at every formation thereof nor formation of the detecting pattern at every detection thereof becomes necessary, resulting, in suppressing the lowering of productivity even when the positional shear of the image to be formed is detected.
このため、検出パターンが形成される毎に消すと共に、検出する毎に検出パターンを形成する必要がなくなるので、形成される画像の位置ずれを検知した場合でも、生産性の低下を抑制する。 - 特許庁 - To provide a long film for pattern formation that is low in moisture content fluctuations and can form highly accurate patterns, and a patterned long film that is low in moisture content fluctuations after pattern formation and permits highly accurate subsequent machining.
含水率のバラツキが小さく、高精度のパターン形成が可能なパターン形成用の長尺フィルムと、パターン形成後の含水率のバラツキが小さく、高い精度での後加工が可能なパターン付き長尺フィルムとを提供する。 - 特許庁 - To provide a colored radiation-sensitive composition which can allow formation of a colored cured film having a uniform hue where color density unevenness is suppressed and which has good developability in coloring pattern formation and excellent pattern forming properties.
色濃度ムラが抑制された均一な色相の着色硬化膜を形成しうる、着色パターン形成時の現像性が良好でパターン形成性に優れた着色感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - An inkjet unit for manufacturing a device includes an inkjet head 101 which discharges ink droplets to a pattern formation area 103 of a base 102, and a dummy area 104 in a portion other than the pattern formation area 103.
デバイスを製造するインクジェット装置は、基板１０２のパターン形成領域１０３に対して、インク滴を吐出するインクジェットヘッド１０１と、パターン形成領域１０３以外の部分にダミー領域１０４を有している。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method in which a sensitivity change of a pattern forming material due to a light source such as a safe light is suppressed, and which ensures excellent storage stability and allows efficient formation of a permanent pattern such as a wiring pattern with high definition.
セーフライトなどの光源によるパターン形成材料の感度変化を良好に抑制し、保存安定性に優れ、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method with which a fine pattern can be formed with high definition, productivity upon pattern formation can be improved, and a prescribed pattern can be formed in a photosensitive composition with high resolution.
微細パターンを高精細に形成することが可能であり、パターン形成における生産性を向上することが可能であり、かつ、高解像度で感光性組成物に所定パターンを形成することが可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - An adjustment pattern is formed so that dot pattern formation conditions for forming the digital pen dot pattern are changed to be in conformity with the change of the environmental conditions, and the light reflection property of the formed adjustment pattern is detected.
デジタルペン用のドットパターンを形成するためのドットパターン形成条件を環境条件の変化に適合するように変更するために、調整パターンを形成し、形成された調整パターンの光反射特性を検出する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method for forming a fine pattern with high precision, while improving the productivity of the pattern formation and for forming a predetermined pattern on a photosensitive composition with high resolution.
微細パターンを高精細に形成することが可能であり、パターン形成における生産性を向上することが可能であり、かつ、高解像度で感光性組成物に所定パターンを形成することが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To realize the formation of a highly precise, highly accurate and high density pattern by improving the landing accuracy through a method capable of quickly coping with the change of design and limited production with a wide variety at a low cost, in the formation of the pattern such as a circuit pattern or the like utilizing ink jet technique.
インクジェット技術を利用した回路パターン等のパターンの形成において、設計変更や多品種少量生産に迅速かつ低コストに対応可能な方法で、着弾精度を向上し、高精細、高精度の高密度パターン形成を実現する。 - 特許庁 - To provide a new semiconductor pattern formation device that suppresses a minute vibration of a holding substrate and achieves high pattern position precision in a semiconductor circuit pattern formation device, having a means for forming a circuit pattern of a semiconductor device on the surface of a substrate, and a means for holding the substrate when forming patterns.
本発明は、基板の表面に半導体装置の回路パターンを形成する手段とパターン形成時に前記基板を保持する手段とを有する半導体回路パターン形成装置において、保持基板の微少な振動を抑制し、高精度なパターン位置精度を実現した新規な半導体回路パターン形成装置にある。 - 特許庁 - To provide a method for forming simply and conveniently a first wiring pattern including patterns of less than resolution limit in a first wiring pattern formation region and a second wiring pattern comprised of usual patterns of more than or equal to resolution limit in a second wiring pattern formation region, by using an SADP method (Self Align Double Patterning) through two-time lithography steps is used to form.
２回のリソグラフィ工程によるＳＡＤＰ法（Self Align Double Patterning）を用いて、第１配線パターン形成領域には解像限界未満のパターンを含む第１配線パターンを形成し、第２配線パターン形成領域には解像限界以上の通常パターンからなる第２配線パターンを簡便に形成する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a surface treatment agent for a freezing process, which can suppress variations in the line width of a first resist pattern and LWR (line width roughness) which may be caused by freezing treatment applied to the first resist pattern and the formation of a second resist pattern in a double patterning method, and to provide a resist pattern formation method using the surface treatment agent.
ダブルパターニング法において、第一のレジストパターンに対して行うフリージング処理及び第二のレジストパターンの形成による、第一のレジストパターンの線幅並びにＬＷＲの変動を抑制することができるフリージングプロセス用の表面処理剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - The method for inspecting the pattern formation member includes: preparing a pattern formation member 1 having a pattern 3 to be transferred onto a material to be transferred and a plasmon resonance structure 4; irradiating the plasmon resonance structure 4 with light; measuring absorption characteristics of the plasmon resonance of the plasmon resonance structure 4; and inspecting a pattern 3 according to the absorption characteristics.
被転写材料に転写すべきパターン３とプラズモン共鳴構造体４とを有するパターン形成部材１を準備し、プラズモン共鳴構造体４に光を照射してプラズモン共鳴構造体４のプラズモン共鳴の吸収特性を計測し、吸収特性に基づいてパターン３を検査する。 - 特許庁 - A pattern is formed on the substrate by the pattern projection unit 14 during the driving (or in synchronism with the driving) and thus the formation of the pattern in an area of specified size on the substrate, i.e. exposure becomes possible.
その駆動中に（又はその駆動に同期して）パターン投影ユニット１４で基板上にパターンを形成することで、基板の所定面積の領域に対するパターンの形成、すなわち露光が可能となる。 - 特許庁 - To enable selective formation of an intermediate light distribution pattern between a low beam light distribution pattern and a high beam light distribution pattern in a vehicular headlamp equipped with a projector type lighting fixture unit.
プロジェクタ型の灯具ユニットを備えてなる車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンとハイビーム用配光パターンとの中間的な配光パターンを選択的に形成可能とする。 - 特許庁 - To provide a negative resist composition which exhibits good sensitivity, enables formation of a fine pattern of good pattern shape, and ensures little residual film in an unexposed portion, and a pattern forming method using the negative resist composition.
感度が良好で、良好なパターン形状の微細パターンを形成可能で、未露光部の残膜の少ないネガ型レジスト組成物、該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法、を提供する。 - 特許庁 - If a color scheme of the design image is completed, a pattern image formation portion overlaps a pattern image with the colored design image, and sets up a color in the pattern image to a color of a position corresponding to the design image.
デザイン画像の配色が完了したら、地紋画像生成部は地紋画像と配色されたデザイン画像を重ね合わせ、地紋画像の色を対応するデザイン画像の位置の色に設定する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method, capable of efficiently and uniformly performing formation and correction of pattern design data along a production process of semiconductor device or a request on pattern design process.
パターンの設計データの作成および修正を、半導体装置の製造プロセスやパターン設計プロセス上の要請に沿って効率良く、かつ、均一に行うことができるパターン作成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which enables formation of a pattern having good pattern collapse resistance and few development defects, and a pattern forming method using the composition.
パターン倒れが良好であり、現像欠陥が少ないパターンを形成することが可能で、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a patterning method capable of shortening a tact time of pattern forming, calcining a pattern layer and a dielectric layer in a lump, and totally lowering the cost of pattern formation.
パターン形成のタクトタイムの短縮を可能とし、またパターン層と誘電体層の一括焼成を可能にし、パターン形成のトータル的低コスト化が可能なパターニング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To prevent the occurrence of defects on a substrate after a developing step in the formation of an ultrafine photoresist pattern at least partially having a pattern of ≤0.25 μm pattern width.
少なくともその一部にパターン幅が０．２５μｍ以下のパターンを有する超微細なホトレジストパターンの形成において、現像処理工程後基板上に発生するディフェクトの発生を有効に防止する。 - 特許庁 - To prevent the etching rate of a resist pattern having an adamantane skeleton from increasing locally in a fine pattern formation method which includes the treatment method of the resist pattern.
本発明はレジストパターンの新規な処理方法を含む微細パターン形成方法に関し、アダマンタン骨格を有するレジストパターンのエッチングレートが局所的に大きくなるのを防止することを目的とする。 - 特許庁 - A photo resist pattern formation process of forming the photo resist pattern by exposing the photo resist film 18 in a pattern form and further developing the photo resist film 18 is performed separately two or more times.
そして、フォトレジスト膜１８をパターン形状に露光し、更に、フォトレジスト膜１８を現像することによりフォトレジストパターンを形成するフォトレジストパターン形成工程を、２回以上に分けて行う。 - 特許庁 - To provide a printed wiring board which can secure the adhesion strength between a heat radiation pattern and an insulation substrate even if via holes to be connected to the heat radiation pattern are formed in a high concentration in a heat radiation pattern formation region.
放熱パターンに接続されるビアホールを、放熱パターン形成領域内に密に形成する場合においても、放熱パターンと絶縁基板との密着強度を確保できるプリント配線板の提供。 - 特許庁
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