「Pattern Formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 16 17 18 19 20 21 22 23 24 .... 57 58 次へ＞- POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THICK FILM RESIST FILM FORMATION, THICK FILM RESIST LAMINATE, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
厚膜レジスト膜形成用のポジ型レジスト組成物、厚膜レジスト積層体およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a pattern formation method in which a metal film can be patterned inside an opening in an insulating film with a new constitution.
新規な構成にて絶縁膜の開口部内に金属膜をパターニングすることができるようにする。 - 特許庁 - The mark is formed continuously or intermittently in a circumferential direction of the pattern formation surface MF.
前記マークは、前記パターン形成面ＭＦの周方向に連続的もしくは断続的に形成されている。 - 特許庁 - To provide a coating method that allows the formation of a delustered coating and a sandstone pattern to be freely made.
艶消し塗装と砂岩調模様の形成とが自由に行える塗装方法を提供すること。 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THICK-FILM RESIST FILM FORMATION, THICK-FILM RESIST LAMINATE AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
厚膜レジスト膜形成用のポジ型レジスト組成物、厚膜レジスト積層体およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING INTERMEDIATE LAYER INCLUDING SILYLPHENYLENE-BASED POLYMER, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME
シリルフェニレン系ポリマーを含有する中間層形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - The circumferential part of the pattern formation inhibition region 19 is provided to suppress global flare.
パターン形成禁止領域１９の周囲の部分はグローバルフレアを抑制するために設けられている。 - 特許庁 - The formation area of an earth pattern 9, which is formed on the rear 1B of the board 1, is made as wide as possible.
回路基板１の裏面１Ｂに形成するアースパターン９の形成面積をできるだけ大きくする。 - 特許庁 - RESIST PATTERN FORMATION METHOD AND APPARATUS THEREOF, AND DISPLAY MANUFACTURING METHOD AND APPARATUS THEREOF
レジストパターン形成方法、レジストパターン形成装置、表示装置の製造方法、及び表示装置の製造装置 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR DEVICE, FABRICATION THEREOF, FORMATION OF RESIST PATTERN EMPLOYING IT AND ALIGNER
半導体装置、半導体装置の製造方法およびそれに用いるレジストパタ—ン形成方法と露光装置 - 特許庁 - To provide a pattern formation device for a conductive substrate applied to OLED manufacture and its method.
本発明はOLED製造に応用される導電基板へのパターン形成装置およびその方法を提供する。 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHOD
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a method for forming a waveform pattern for the formation of a contact or a conductive wire.
コンタクトまたは導電性ワイヤを形成するための波形模様の形成方法を提供すること。 - 特許庁 - IMAGE PROCESSING METHOD AND DEVICE, IMAGE FORMATION APPARATUS, METHOD FOR PREPARING DOT PATTERN ADJACENT TABLE AND PROGRAM
画像処理方法及び装置、画像形成装置、ドットパターン隣接テーブルの作成方法、並びにプログラム - 特許庁 - Then, a gate electrode 9 is subjected to pattern formation on the gate insulating film 7 between the source/drain electrodes 5.
次に、ソース／ドレイン電極５間におけるゲート絶縁膜７上にゲート電極９をパターン形成する。 - 特許庁 - The surface treatment agent for resist pattern formation contains a compound having an oxazoline group.
オキサゾリン基を有する化合物を含有することを特徴とするレジストパターン形成用表面処理剤。 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, PATTERN FORMATION METHOD AND NEW TETRAHYDROFURAN COMPOUND WITH ITS PRODUCTION METHOD
高分子化合物、レジスト材料、パターン形成方法、及び新規テトラヒドロフラン化合物とその製造方法 - 特許庁 - ELECTRODE OF PLASMA DISPLAY PANEL, APPARATUS AND METHOD FOR FORMATION OF ELECTRODE PATTERN OF THE PLASMA DISPLAY PANEL
プラズマディスプレイパネルの電極、プラズマディスプレイパネルの電極パターン形成装置および電極パターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER CONTAINING DIOL STRUCTURE, NEGATIVE RESIST COMPOSITION USING IT AND PATTERN FORMATION METHOD
ジオール構造を含有してなる重合体、それを用いたネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - A plurality of wiring patterns 2 made of a copper foil are formed in the metal foil pattern formation region 4.
金属箔パターン形成領域４には、銅箔から成る複数の配線パターン２を形成している。 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING RESIN FOR PHOTORESIST, RESIN FOR PHOTORESIST, RESIN COMPOSITION FOR PHOTORESIST AND PATTERN FORMATION METHOD
フォトレジスト用樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁 - In this case, nitrogen discharged from the resist pattern 60 into a film formation atmosphere is doped in the tantalum film 13.
その際、レジストパターン６０から成膜雰囲気中に放出された窒素は、タンタル膜１３にドープされる。 - 特許庁 - An interlayer insulating material 12 formed on a core substrate 1 is softened, and a mold 20 having protrusions corresponding to the respective recessed part for wiring pattern formation and recessed part for viahole formation is fitted with pressure to the softened interlayer insulating layer, thereby imprinting a trench 14 for wiring pattern formation and a trench 16 for viahole formation.
コア基板１上に形成された層間絶縁材１２を軟化させ、次いで、配線パターン形成用の凹部およびバイアホール形成用の凹部にそれぞれ相当する凸部を有するモールド２０を軟化した層間絶縁層に圧入して、配線パターン形成用の溝１４およびバイアホール形成用の溝１６を転写する。 - 特許庁 - The method of coating leather comprises putting Japanese lacquer 3 of a desired color for pattern formation added with a softener on the surface of water in a container, forming a pattern with the lacquer for pattern formation by moving water 1, bringing leather 5 into contact with the pattern to transfer the pattern to the leather and coating the pattern-formed surface of the leather with a top coat 7.
容器内の水面上には柔軟剤を添加してなる所望の色の模様形成用漆３を乗せ、水１を動かすことにより該模様形成用漆による模様を形成し、皮革５を該模様に接触させて該模様を該皮革上に転写し、該皮革における該模様を形成した表面に上塗り塗装７を行なうことを特徴とする皮革の塗装方法。 - 特許庁 - To provide a method for forming a protective layer on the surface of a photomask which enables the formation of the flat surface of the protective layer on a pattern formation surface without causing the incorporation of air bubbles between the protective layer and the pattern formation surface of the photomask.
フォトマスク表面への保護層の形成方法において、保護層とフォトマスクのパターン形成面との間に気泡の混入がなく、パターン形成面の上に平坦な保護層表面が形成される、フォトマスク表面への保護層の形成方法を提供すること。 - 特許庁 - The diamond pattern 11 for placing the sensor chip on a circuit substrate 1 is made by pattern formation on the circuit substrate 1, and a ditch-like trench 14 is formed between the diamond pattern 11 by installing a leakage prevention pattern 13 in a surrounding part of the diamond pattern 11.
回路基板１上にセンサーチップを載置するためのダイヤパターン１１を回路基板１表面にパターン形成し、ダイヤパターン１１の周囲部には漏洩防止パターン１３を突設することで、ダイヤパターン１１との間で堀状の溝部１４として形成する。 - 特許庁 - A pattern, in which the gravity position does not change even if deformations are generated due to the approximity effect of pattern and coarse density, is selected at pattern formation as an alignment pattern from the areas near to the target pattern, and its center of gravity position is set to the reference coordinates of alignment (S12).
ターゲット・パターンの近傍領域の中から、パターンの形成時に、パターンの近接効果や疎密が原因で変形が生じても、重心位置が変化しないパターンをアライメント・パターンとして選択し、その重心位置をアライメント基準座標に設定する（S12）。 - 特許庁 - A mask M, for forming an image of a pattern MP on a substrate P while rotating around a predetermined axis J, comprises; a pattern formation surface MF disposed around the predetermined axis J on which the pattern MP is formed; and a mark, formed in a predetermined positional relationship with the pattern MP in a predetermined area of the pattern formation surface MF, for acquiring positional information.
所定軸Ｊ周りに回転しつつ基板Ｐ上にパターンＭＰの像を形成するためのマスクＭであって、パターンＭＰが形成され、所定軸Ｊ周りに配置されたパターン形成面ＭＦと、パターン形成面ＭＦの所定領域にパターンＭＰに対して所定位置関係で形成された位置情報を取得するためのマークとを備えている。 - 特許庁 - To provide a composition for pattern formation having good sensitivity and tenting strength, excellent in adhesion to a substrate such as a substrate for printed wiring formation, also having good strippability from a support and good resolution, and enabling a high-definition pattern to be formed, and to provide a pattern forming material obtained by using the composition and a pattern forming method using the pattern forming material.
感度、テンティング強度が良好であるのみならず、プリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れ、支持体からの剥離性、及び解像度が良好で、高精細なパターンを形成可能なパターン形成用組成物及びこれを用いたパターン形成材料、及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - The method for forming a pattern includes: a surface treatment step of applying a liquid repellent coating material around a pattern formation planned portion on a target object by an inkjet method; and a pattern forming step of applying, after the surface treatment step, a pattern forming material to the pattern formation planned portion on the target object by an inkjet method.
実施形態のパターン形成方法は、インクジェット方式により対象物のパターン形成予定部の周りに撥液性を有するコーティング材を塗布する表面処理工程と、前記表面処理工程の後にインクジェット方式により前記対象物の前記パターン形成予定部にパターン形成用材を塗布するパターン形成工程と、を備える。 - 特許庁 - To provide a method of creating a mask pattern facilitating formation of a fine pattern with high accuracy in a lithographic process using a reflective optical system.
反射型光学系を用いるリソグラフィ工程において微細なパターンを高精度に形成することができるマスクパターンデータの生成方法を提供する。 - 特許庁 - In addition, the additive has excelling thermal stability in pattern formation and can improve the flexibility of a pattern, after heat crosslinking.
さらに、添加剤は、パターン形成を行うときに、熱安定性が優れているだけでなく、熱架橋後のパターンの柔軟性を向上させることができる。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a semiconductor device for reducing the number of processes in pattern formation using a mask material on a sidewall of a core material pattern.
芯材パターンの側壁に形成するマスク材を利用したパターン形成において工程数を削減できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method capable of forming a pattern having a high orientation and a phase-separated structure on a polymer alloy in a short time.
ポリマーアロイに配向性の高い相分離構造のパターンを短時間で形成することのできるパターン形成方法及びポリマーアロイ下地材料を提供する。 - 特許庁 - To efficiently and exactly generate job files required for pattern formation when forming a pattern by divided exposure.
分割露光によってパターン形成を行う場合に、当該パターン形成に必要となるジョブファイルの生成を、効率よく、かつ、正確に行えるようにする。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition having improved exposure latitude and good sensitivity in the formation of a fine pattern and a pattern forming method using the same.
微細パターンの形成に於いて、露光ラチチュードが改良され、感度も良好な、ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide a new thin film pattern formation technology capable of easily forming an excellent thin film pattern without short circuit and blur on a substrate.
短絡およびかすれのない良好な薄膜パターンを基板上に容易に形成することができる新たな薄膜パターン形成技術を提供する。 - 特許庁 - To provide a curable composition for imprint which has superior pattern formation performance even if pattern forming is repeatedly performed, and satisfies high dry etching resistance.
繰り返しパターン形成を行っても良好なパターン形成性を有し、さらに高ドライエッチング耐性を満たすインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device precisely controlling the depth of a wiring trench pattern and suppressing formation of damage to the wiring trench pattern.
配線溝パターンの深さを精密に制御でき、かつ当該配線溝パターンのダメージ形成を抑制できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a reticle in which a mask pattern associated with a semiconductor chip formation and a mask pattern associated with several kinds of TEG formations are laid out by a new design.
半導体チップ形成に係るマスクパターン、及び、複数種類のＴＥＧ形成に係るマスクパターンが、新規なデザインで配置されたレチクルを提供する。 - 特許庁 - A defective chip 2 in the non-formation part 5 in which no chip pattern is formed in the periphery of a wafer is provided with a specified pattern to make a contrast in some color.
ウェハ周辺のチップパターンが形成されないパターン非形成部５の不良チップ２に、ある色のコントラストが出るように所定のパターンを形成している。 - 特許庁 - To provide a pattern transfer method which enables high accuracy pattern formation with little focus displacement on a substrate whose surface roughness is relatively large.
表面の凹凸が比較的大きい基板に対して、焦点ずれが小さく、高精度なパターン形成を行うことが可能なパターン転写方法を提供する。 - 特許庁 - A pattern forming equipment 101 applies ink on a substrate 105 from an ink jet head unit 103 provided to a gantry 119 for pattern formation.
パターン形成装置１０１は、ガントリ１１９に設けられるインクジェットヘッドユニット１０３からインクを基板１０５に塗布しパターン形成を行う装置である。 - 特許庁 - A photo-mask 81 used in the formation of this photo-resist pattern 82 is provided with a recessed pattern 81f at the corner 81e of the step 81d in the width direction.
このフォトレジストパターン８２の形成に用いるフォトマスク８１には、その幅方向の段差８１ｄのコーナー部８１ｅに、凹部パターン８１ｆを設ける。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a fine pattern which has superior mold releasing properties, high pattern formation precision, and superior permanent film characteristics of surface hardness etc.
モールド剥離性に優れ、かつ、パターン形成精度が高く表面硬度などの永久膜特性に優れた微細パターン製造方法を提供する。 - 特許庁 - An image forming apparatus regards a start signal as a trigger, and writes the positioning test pattern between papers (Lb) when continuously writing a plurality of normal images, and reads the test pattern with a sensor on an intermediate transfer belt in order to regulate an image formation control condition to be fed back.
スタート信号をトリガとし、複数枚の通常画像を連続して書込む際の紙間（Lb）で位置合わせ用等のテストパターンを書込む。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a multilayer circuit board capable of multiplying layers of a circuit pattern just by a lamination process and a separation process for circuit pattern formation.
積層工程と回路パターン形成のための分離工程によってのみで回路パターンの多層化が図れる多層回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method capable of preventing the occurrence of pattern defects even when there is a liquid residue of an alicyclic saturated hydrocarbon compound.
脂環式飽和炭化水素化合物の液残りがあってもパターン欠陥の発生を抑制できるパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁 - The pattern forming method includes applying and curing a composition for fine pattern formation, having a silazane bond on surfaces of patterns formed on a substrate.
基板上に形成されたパターンの表面に、シラザン結合を有する微細パターン形成用組成物を塗布し、硬化させることを含む、パターン形成方法。 - 特許庁 - To provide a pattern drawing method capable of drawing a pattern so that both ends on an inner peripheral side and an outer peripheral side of a formation region are linearly formed.
形成領域における内周側および外周側の両端が直線的になるようにパターンを描画し得るパターン描画方法を提供する。 - 特許庁
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