「Pattern Formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 29 30 31 32 33 34 35 36 37 .... 57 58 次へ＞- PATTERN FORMATION MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING POROUS STRUCTURE, METHOD FOR FORMING PATTERN, ELECTROCHEMICAL CELL, HOLLOW FIBER FILTER, METHOD FOR PRODUCING POROUS CARBON STRUCTURE, METHOD FOR PRODUCING CAPACITOR AND METHOD FOR PRODUCING CATALYTIC LAYER OF FUEL CELL
パターン形成材料、多孔質構造体の製造方法、パターン形成方法、電気化学セル、中空糸フィルター、多孔質カーボン構造体の製造方法、キャパシタの製造方法、および燃料電池の触媒層の製造方法 - 特許庁 - The drawing of the pattern and the formation of the unevenness corresponding to the pattern are performed at the same position in the feed direction of a long base film while feeding the base film in the longitudinal direction thereof.
長尺なベースフィルムを長手方向に搬送しつつ、前記絵柄の描画、および、前記絵柄に応じた凹凸の形成を、前記ベースフィルムの搬送方向の同位置で行うことにより、前記課題を解決する。 - 特許庁 - The plurality of wiring patterns 2 are formed in one portion of the metal foil pattern formation region 4 so that the ratio of the width of the wiring pattern 2 to the interval between the wiring patterns 2 becomes not less than 1 and not more than 8.7.
金属箔パターン形成領域４の一部では、配線パターン２同士の間隔に対する配線パターン２の幅の比率が１を越え且つ８．７以下となるように、複数の配線パターン２を形成している。 - 特許庁 - To provide a resist treatment method that, in a multi-patterning method such as a double patterning method, can very finely and highly accurately form a pattern obtained by a resist composition for first resist pattern formation.
ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The formation method includes: projecting a rectangular grid-like light-dark pattern 502 on a photosensitive layer 501; after that, displacing the light-dark pattern 502 in a direction of a side of the rectangle to project it on the photosensitive layer 501; and after that, developing the photosensitive layer 501.
方形格子状の明暗パターン５０２を感光層５０１に投影し、その後、明暗パターン５０２をその方形の辺方向にずらして感光層５０１に投影し、その後、感光層５０１を現像する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition for immersion exposure which suppresses collapse of a resist pattern and degradation of its profile due to post exposure between exposure and PEB (post exposure bake) at the time of immersion exposure, and also to provide a method of pattern formation with the composition.
液浸露光時の、露光−ＰＥＢ間の引き置きによるレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が改善された液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method in which chemical and physical damages by irradiation of ultraviolet rays are avoided to an object of a pattern formed by an ultraviolet-curing ink, and to provide a liquid droplet ejector.
紫外線硬化性インクによって形成するパターンの対象物に対して、その紫外線照射による化学的、物理的損傷を回避させたパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁 - After a resist pattern formation process with a prescribed layer of a semiconductor wafer, a selected wafer is irradiated with an inspection light which causes fluorescence emission in the resist pattern, for example, ultraviolet ray (UV) of a prescribed wavelength band.
半導体ウェハ所定層におけるレジストパターン形成工程終了後、選ばれたウェハは、そのレジストパターンに対して蛍光発光させる検査用の光、例えば所定の波長帯を有する紫外線（ＵＶ）を照射する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method for easily manufacturing a micro phase separation structure film with aligned orientation directions by a large area, and forming a pattern of nanometer scale using the micro phase separation structure film.
配向方向のそろったミクロ相分離構造膜を容易に、大面積で製造することができ、このミクロ相分離構造膜を用いてナノメートルスケールのパターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The shape of the mirror face can be deformed into a prescribed shape stepwise depending on the formation pattern of the strength distribution pattern 2a, and spherical abrasion correction can effectively be performed to recording layers, for example, three or more layers.
また、強度分布パターン２ａの形成パターンによってはミラー面の形状を段階的に所定形状に変形でき、例えば３層以上の記録層に対応して有効に球面収差補正を行うことができる。 - 特許庁 - To provide a conductor pattern formation apparatus which can form a sintered conductor pattern even on a substrate having no heat resistance and can prevent short-circuitting of a circuit by preventing the transferring of a satellite (mist) and has good productivity.
本発明は、耐熱性のない基板にも焼結した導体パターンを形成でき、サテライト(mist)の転写を防止して回路のショートを防止できる、生産性のよい導体パターン形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method suitable for fine pattern formation with an electron beam, X-ray or extreme ultraviolet radiation, and a radiation-sensitive resin composition and a radiation-sensitive acid generation group-containing resin for use in the same.
電子線、Ｘ線、極紫外線による微細パターン形成に好適なパターン形成方法並びにそれに用いられる感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生基含有樹脂を提供する。 - 特許庁 - Since the minute defect of the mold which causes the destruction of the mold by an imprint and the defect of the transfer pattern can be reduced, the extension of the life of the mold and the formation of a good transfer pattern with defects reduced are made possible.
これにより、インプリントによるモールド破壊や転写パターン欠陥の原因になるモールドの微小欠陥を低減できるため、モールドの長寿命化と欠陥の少ない良好な転写パターン形成が可能となる。 - 特許庁 - To enable to melt by heating after pattern formation by using a photosensitive resin compsn. capable of forming a pattern by exposure through a photomask and subsequent development.
感光性樹脂組成物を用いて得られるパターン形成された接着剤であって、表面に凹凸形状を有する各種形状の電子素子に使用しても、良好な接着性を発現する接着剤を提供する。 - 特許庁 - The minute drops 24 are positively charged by a variable DC power supply 26, and become fine particles of the solute since the solvent 28 evaporates during flight, and attach to the pattern formation region of the substrate 12, forming a pattern.
微小液滴２４は、可変直流電源２６によってプラスに帯電し、飛翔中に溶媒２８が蒸発して溶質微粒子となって基板１２のパターン形成領域に付着し、パターンを形成する。 - 特許庁 - The CPU forms the image corresponding to the image data (SB5), without forming a tracking pattern image, when detecting the indication for releasing the formation of the tracking pattern image from the decoded release information (SB4: YES).
そして、ＣＰＵは、復号した解除情報から追跡用パターン画像の形成を解除する指示を検出すると（ＳＢ４；ＹＥＳ）、追跡用パターン画像を形成させずに、画像データに応じた画像を形成させる（ＳＢ５）。 - 特許庁 - A PL signal formation portion 103 forms a pilot signal so that the pilot signal has a predetermined pattern in which the pilot signal changes in time in a pilot carrier.
ＰＬ信号生成部１０３は、パイロットキャリアにおいてパイロット信号が所定の時間的に変化するパターンを持つようにパイロット信号を生成する。 - 特許庁 - To provide a conductive paste superior in formation accuracy of a fine pattern even when carrying out continuous printing, and to provide a wiring board using the same.
連続印刷を行う際にも、ファインパターンの形成精度に優れた導電性ペーストおよびそれを用いた配線基板を提供することを目的とする。 - 特許庁 - Since positioning is performed on the basis of the pattern of the light-shielding part, the accuracy of positioning of a substrate in formation processing of a colored layer can be improved.
遮光部のパターンに基づいて位置決めを行うので、着色層形成処理時における基板の位置決め精度を向上させることができる。 - 特許庁 - An aligning mark is disposed in the pattern formation and second and later patterns are formed by exposure after alignment using the mark.
本発明は第１のパターン形成時にウエファ周端部に透明窓を複数個設けたフォトマスクを使用することにより、プリアライメント補正を可能にするものである。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a printed circuit board permitting the conductive layer of the outermost layer to be thinned and facilitating the formation of the wiring pattern of the outermost layer.
最表層の導体層の薄肉化が可能で、最表層の配線パターンの形成が容易に行えるプリント基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The exothermic body in which pattern formation has been carried out in advance may be installed and the thickness of the exothermic body may be made uniform by carrying out the sand blast or the dry etching same as the above.
先にパターン形成した発熱体を設け、上記と同様にサンドブラスト処理又はドライエッチング処理して、発熱体の厚さを均一化しても良い。 - 特許庁 - Banks are formed in a predetermined pattern formation area PI on a substrate P, and a conductive membrane EP is formed by discharging liquid drops in a groove between the banks.
基板Ｐ上の所定のパターン形成領域ＰＩにバンクが形成され、バンク間の溝内に液滴吐出により導電性膜ＥＰが形成される。 - 特許庁 - To provide a method for forming a photosensitive resin film by which in-plane film thickness variation of the photosensitive resin film before pattern image formation can be diminished.
パターン画像を形成する前の感光性樹脂膜の面内膜厚変動を小さくすることができる感光性樹脂膜の形成方法を提供する。 - 特許庁 - A lead frame 1 comprises: a shape pattern formation region 2 for four pieces of semiconductor packages; and a frame portion 5 having an outer edge 3 and a boundary 4.
リードフレーム１は、半導体パッケージ４個分の形状パターン形成領域２と、外縁部３と境界部４とを有する枠体部５とからなっている。 - 特許庁 - PATTERN FORMATION METHOD, AND COLOR FILTER, LIQUID CRYSTAL DISPLAY, ELECTRICAL CIRCUIT, ELECTRONIC ELEMENT, SELF-LIGHT-EMITTING ELEMENT AND SEMICONDUCTOR DEVICE PRODUCED BY THE METHOD
パターン形成方法並びにその方法により製造されたカラーフィルタ、液晶表示装置、電気回路、電子素子、自発光素子及び半導体装置 - 特許庁 - The alignment layer 3, the light selection reflecting pattern layer 4, the hologram formation layer 5 and the reflective layer 6 may be sequentially layered on one surface of the base material 2.
基材２の片面に配向膜３、光選択反射パターン層４、ホログラム形成層５および反射性層６を順に積層したものでもよい。 - 特許庁 - A plurality of position accuracy measurement patterns 16 comprising openings are formed in the circumference of the pattern formation inhibition region 19 within a light-shielding zone 14.
遮光帯領域１４内のパターン形成禁止領域１９の周囲に、開口部からなる複数の位置精度測定用パターン１６が形成されている。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition suitable for a liquid immersion exposure process in a resist pattern formation and for image development using an organic solvent.
レジストパターン形成における液浸露光プロセスに好適で、かつ有機溶剤による現像にも適している感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an electroconductive ink that enables formation of a highly fine electrode circuit pattern by a screen printing method and exhibits good electroconductivity and excellent adhesion.
スクリーン印刷法による高精細な電極回路パターンの形成を可能にし、かつ導電性が良好で密着性に優れる導電性インキを提供する。 - 特許庁 - The pattern formation defect region is calculated by performing convolution operation of the correspondence relation on the layout used for forming the step portion.
前記パターン形成不良領域は、前記段差部の形成に用いたレイアウトに対して前記対応関係の畳み込み演算を行うことによって算出される。 - 特許庁 - To provide an alkali-soluble silicone resin excellent in weatherability, light resistance and heat resistance, and usable in a photosensitive resin composition enabling fine pattern formation.
耐候性、耐光性、耐熱性に優れ、微細パターンの形成が可能な感光性樹脂組成物に使用可能なアルカリ可溶性シリコーン樹脂を提供する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the composite substrate includes: a pattern formation processes (S11-S13); an ion implantation process (S14); a bonding process (S15); and a separation process (S16).
複合基板の製造方法は、パターン形成工程（Ｓ１１〜Ｓ１３）とイオン注入工程（Ｓ１４）と接合工程（Ｓ１５）と剥離工程（Ｓ１６）とを含む。 - 特許庁 - To provide a substrate inspection device and substrate inspection method for reducing the substrate cost and improving the yield in an inspection stage, prior to pattern formation.
パターン形成前の検査段階において、基板コストの削減と歩留まりの向上を図ることができる基板検査装置および基板検査方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a printing plate providing a high definition printed matter in a manufacturing technique of the printing plate including a process of pattern formation by means of laser engraving.
レーザー彫刻によりパターン形成する工程を含む印刷版の製造技術において、高精細な印刷物が作成可能な印刷版の提供。 - 特許庁 - To effectively prevent characteristic deterioration due to a pattern shift in gate formation while suppressing increase in cell area, and to reduce resistance in a power supply voltage feeder line.
セル面積増大を抑制しつつゲート形成時のパターンずれによる特性低化を有効に防止し、さらに電源電圧供給線を低抵抗化する。 - 特許庁 - To provide a resist development method and a device for realizing highly precise fine pattern formation in a process for manufacturing a semiconductor device such as a super-LSI.
超ＬＳＩ等の半導体デバイスの製造工程において、高精度微細パタン形成を実現するレジスト現像方法および装置を提供する。 - 特許庁 - The chemical resistance layer 21 is formed on the insulating layer 1, and partially provided at an edge part in a formation region for the conductor pattern 2.
耐薬品性層２１は、絶縁層１の上に形成されており、導体パターン２の形成領域において縁部分に部分的に設けられている。 - 特許庁 - A chemical resistance layer 21 is formed on the insulating layer 1, and partially provided at an edge part in a formation area for the conductor pattern 2.
耐薬品性層２１は、絶縁層１の上に形成されており、導体パターン２の形成領域において縁部分に部分的に設けられている。 - 特許庁 - To provide a defect inspection method for speedily detecting a defect of a sheet material having a formation pattern such as a fine uneven shape on a surface with good reproducibility.
表面に微細な凹凸形状等の地合パターンを有するシート材の欠陥を、迅速かつ再現性良く検査する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a printing plate capable of materializing superior solid quality in a manufacturing technique of the printing plate including a process of performing pattern formation by means of laser engraving.
レーザー彫刻によりパターン形成する工程を含む印刷版の製造技術において、優れたベタ品質を実現可能な印刷版を製造する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition capable of performing formation of a resist pattern by a direct drawing exposure method with satisfactory sensitivity and resolution.
直接描画露光法によるレジストパターンの形成を、十分な感度及び解像度で行うことが可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a film deposition method that uses an AD method to enable a film to be deposited at a relatively high temperature and the formation of a high precision pattern.
ＡＤ法を用いることにより、比較的高い温度で成膜することができ、且つ、精度の高いパターンを形成できる成膜方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photoresist composition superior in uniformity and for improving quality of pattern formation such as sensitivity, resolution, adhesion during development and developability.
均一性（ユニフォミティー）に優れ、感度、解像性、現像時の密着性や現像性などパターン形成の品質を向上するフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation device in which an access can be easily performed and the substituting work of an ink jet head, maintenance management operation, etc. can be smoothly and quickly performed.
アクセス容易であり、インクジェットヘッドの交換作業、維持管理作業等を円滑かつ迅速に行うことを可能とするパターン形成装置を提供する。 - 特許庁 - To enable free formation of a pattern of wire-bonded metal threads in a resin sealed semiconductor device wherein integrated circuit chips are arranged on both surfaces of a die pad.
ダイパッドの両面に集積回路チップを設けた樹脂封止型半導体装置において、ワイヤーボンディングする金属細線のパターン自由にできるようにする。 - 特許庁 - FORMATION METHOD OF PATTERN, ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE, ITS MANUFACTURING METHOD, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, ITS MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ITS MANUFACTURING METHOD
パターンの形成方法、有機エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法、電気光学装置およびその製造方法、半導体装置及びその製造方法 - 特許庁 - To provide an organic thin-film transistor having a gate insulating film using a material in which fine pattern formation can be performed by a printing method or photolithography.
印刷法やフォトリソグラフィにより微細なパターン形成が可能な材料を用いて、ゲート絶縁膜を有する有機薄膜トランジスタを提供すること。 - 特許庁 - At least a part of a position of the photomask which corresponds to the position of the extreme value on the imaging plane is determined as a formation position of the auxiliary pattern.
前記結像面における前記極値をとる位置に対応する前記フォトマスクにおける位置の少なくとも一部を補助パターンの形成位置とする。 - 特許庁 - After pattern formation and etching of via holes 116, a thick BARC layer 120 is deposited to fill the via holes 116, and an IMD(inter-metal dielectric) 110 is covered.
ビア１１６のパターン形成及びエッチングの後、厚いＢＡＲＣ層１２０を堆積してビア１１６を充填し、ＩＭＤ１１０を被覆する。 - 特許庁
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