「Pattern Formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 33 34 35 36 37 38 39 40 41 .... 57 58 次へ＞- To improve flaw detecting precision by carrying out correction to remove an influence due to a pattern with respect to image data, when a steel plate surface has formation patterns, etc., on it.
鋼板表面に地合模様等がある場合に、その模様による影響を除去する補正を画像データに対して行うことにより、疵検出精度を向上させる。 - 特許庁 - For example, when the signal line is a source signal line in an active matrix display device, formation of a stripe pattern in a displayed image can be suppressed.
具体的な例としては、当該信号線がアクティブマトリクス型の表示装置におけるソース信号線である場合、映像における縞模様の発生を抑制することができる。 - 特許庁 - To provide a novel fluorine-containing compound that suppresses occurrence of defects in resist pattern formation, and a polymer compound comprising the fluorine-containing compound as a monomer unit thereof.
レジストパターン形成におけるディフェクトの発生を抑制できる、新規な含フッ素化合物、および該含フッ素化合物をモノマー単位とする高分子化合物を提供する。 - 特許庁 - To provide a formation material of an original plate for fine pattern transfer giving a film having excellent adhesiveness, releasability, mechanical properties, and solvent, heat and moisture resistances.
接着性、離型性、機械的特性、耐溶剤性、耐熱性及び耐湿性に優れた被膜を与える微細パターン転写用原版の形成材料を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition that find applications in formation of microscopic patterns for semiconductor production and that is superior to conventional products in exposure latitude, LWR (line width roughness) and pattern collapse performance.
半導体製造の微細なパターン形成に用いられ、従来品よりも露光ラチチュード、ＬＷＲ、パターン倒れ性能に優れた感光性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a new polymeric compound usable for lithographic application and a resist composition containing the polymeric compound and to provide a method for formation of a resist pattern.
リソグラフィー用途に使用可能な新規高分子化合物、及びこの高分子化合物を含有するレジスト組成物、並びにレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Then, a density difference of the pattern formation material, which corresponds to the existence of the conductive primer layer 7 due to a surface resistance difference between the conductive primer layer 7 and the base coat layer 6, is created.
すると、導電プライマー層７とベースコート層６の表面抵抗値の差により、導電プライマー層７の有無に対応した模様形成材料の密度差が生じる。 - 特許庁 - To provide a wet developer for circuit formation with which a fine circuit pattern with high accuracy of line width can be formed by an electrophotographic method.
電子写真法による回路形成用現像剤として、ライン幅精度が高く、緻密な回路パターンを形成できる回路形成用湿式現像剤を提供する。 - 特許庁 - MEMBRANE PATTERN FORMATION METHOD, PRODUCTION METHOD FOR ELASTIC SURFACE WAVE DEVICE, LIQUID DROP DELIVERY APPARATUS, ELASTIC SURFACE WAVE DEVICE, ELASTIC SURFACE WAVE OSCILLATION APPARATUS AND ELECTRONIC INSTRUMENT
膜パターン形成方法、弾性表面波デバイスの製造方法、及び液滴吐出装置、並びに弾性表面波デバイス、弾性表面波発振装置、及び電子機器 - 特許庁 - To provide a drawing apparatus for reducing dimensional errors even in the case of performing pattern formation for patterning a part leaving a resist, and to provide a drawing method using the apparatus.
レジストを残す部分をパターンとするパターン形成を行なう場合でも寸法誤差を低減させる描画装置と、その装置を用いた描画方法を提供。 - 特許庁 - Formation of a mask can be facilitated by employing an identical pattern in the diffusion layer constituting the source potential connection transistor and in the diffusion layer of a memory cell transistor.
また、ソース電位接続トランジスタを構成する拡散層の形状をメモリセルトランジスタの拡散層の形状と同一パターンにすることで、マスク作成の容易化を実現できる。 - 特許庁 - FORMATION OF ARRAY PATTERN WITH FINE RECESSES AND PLANAR LENS ARRAY, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND PLANAR OIL TRAP PRODUCED BY THE FORMING METHOD
凹型微細形状のアレイ状パターン形成方法及びその形成方法を用いて製作される平板型レンズアレイ及び液晶表示素子及び平板型オイルトラップ - 特許庁 - The first linear ribs 81 after exposure are developed by a developing device, and a rib pattern suitable for formation of the lattice-like rib is easily formed on the substrate 9.
そして、現像装置にて露光後の第１線状リブ８１が現像され、格子状のリブの形成に適したリブパターンが基板９上に容易に形成される。 - 特許庁 - A second gate layer 46 is subjected to pattern formation to the first gate layer and extended to cover a prescribed region of the gate insulation layer 40 and to cover the LDD structure 36.
第二ゲート層４６は前記第一ゲート層にパターン形成され、延伸して前記ゲート絶縁層４０の所定領域を被覆し、その下の前記LDD 構造３６を被覆する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method of forming two parallel wire patterns, often used in various electronic devices, optical device or the like, with high accuracy.
様々な電子デバイス、光学デバイス等でしばしば用いられている平行な２本線パターンを高精度に形成するパターン形成方法提供することを目的とする。 - 特許庁 - The method of applying the liquid resist ink for uneven pattern formation is characterized in that the liquid resist ink is atomized to the surface of the substrate, using a spray nozzle system.
本発明の凹凸パターン形成用液状レジストインキの塗布方法は、スプレーノズルシステムを用いて、液状レジストインキを基板上に噴霧することを特徴とする。 - 特許庁 - Subsequently, a resist pattern 24 of pressure chambers 4, ink supply paths 5 and reservoirs 6 is formed and followed by formation of a second electroforming layer 25 of 80 μm thick.
その後圧力室４、インク供給路５およびリザーバー６のレジストパターン２４を形成し、電鋳処理によって厚さ８０ミクロンの第二の電鋳層２５を形成する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition excellent in long-term stability when the composition is left to stand at room temperature, and allowing pattern formation with high accuracy even when exposure luminous energy is low.
長期の室温放置安定性に優れ、さらに露光量が比較的少なくても、精度よくパターン形成できる感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for producing a conductive resin composition having little fluctuation in sensitivity and enabling formation of a preferable pattern feature, and to provide a conductive resin composition obtained by the method.
感度変動が少なく、良好なパターン形状を形成できる導電性樹脂組成物の製造方法、およびこれより得られた導電性樹脂組成物の提供。 - 特許庁 - To provide a copper foil for a printed wiring board which has superior heat resistance, excellent etching properties during circuit pattern formation, and is suitable for fine-pitch fabrication, and to provide a layered body using the same.
耐熱性に優れ、且つ、回路パターン形成の際のエッチング性が良好でファインピッチ化に適したプリント配線板用銅箔及びそれを用いた積層体を提供する。 - 特許庁 - To provide a mask holding apparatus capable of holding a mask while securing planarity of a pattern formation region of the mask, an exposure apparatus, an exposure method, and a method of manufacturing a device.
マスクのパターン形成領域の平面性を確保しつつ、マスクを保持することができるマスク保持装置、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a copper foil for a printed wiring board and a layered body which have superior etching property during formation of a circuit pattern, are suitable for fine-pitch fabrication, and is excellently suppressed in magnetic property.
回路パターン形成の際のエッチング性が良好でファインピッチ化に適し、磁性が良好に抑制されたプリント配線板用銅箔及び積層体を提供する。 - 特許庁 - To prevent toner consumption to create an unwanted pattern, not to deteriorate productivity of image formation, and to form an image of high quality without position-misalignments, at all times.
不必要なパターン作成によるトナーの消費を防ぎ、画像形成の生産性が低下することなく、常に位置ずれの無い高品質の画像を形成できるようにする。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method with which it becomes possible to precisely and simply inspect the quality of a process for patterning a photosensitive resin film using a semiconductor lithography technique.
半導体リソグラフィ技術を用いて感光性樹脂膜をパターニングする工程の良否を正確且つ簡易に検査することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus which efficiently processes a pattern formation surface of a wafer while preventing the diffusion of a chemical atmosphere that may occur during chemical processing.
薬液処理時に発生しうる薬液雰囲気の拡散を防止しつつ、ウエハのパターン形成面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁 - A gate electrode 104 has a pattern with an aperture above at least the region 120 out of the element formation region 10HV as viewed from the top.
ゲート電極１０４は、平面視したときに、素子形成領域１０ＨＶのうち少なくとも第１不純物領域１２０の上方に開口を有するパターンを有している。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a flip chip type IC which facilitates the formation of a barrier metal layer by nicely depositing a Zn layer on a circuit pattern composed of Al.
Ａｌからなる回路パターン上に良好にＺｎ層を析出させてバリアメタル層を形成することが容易となるフリップチップ型ＩＣの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition which is concurrently equipped with high planarization performance and high sensitivity and has high visible light transmittance, in the formation of a cured resin pattern.
硬化樹脂パターンの形成において、高い平坦化性能や高い感度等を兼ね備え、高い可視光透過性を有する感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - A drive device 12 rotates a photomask 4 to match the slope of a pattern 5 for pixel formation with respect to the y-axis to the slope of the shielding layer with respect to the y-axis.
駆動装置１２は、フォトマスク４を回転させて、ｙ軸に対する画素形成用パターン５の対する傾きを、ｙ軸に対する遮光層の傾きに一致させる。 - 特許庁 - To provide an inexpensive aluminum-containing photosensitive composition having high adhesion strength as a thin film to a glass substrate, having low resistance and enabling formation of a high-definition pattern.
ガラス基板に対して薄膜で密着強度が高く、抵抗値が低く、高精細なパターンを形成可能な、安価なアルミニウム含有感光性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing mask blanks having a thinner pattern formation area than the other area in a method different from etching.
エッチングとは異なる方法により、他の領域に比して薄膜のパターン形成領域を有するマスクブランクスを作製することができるマスクブランクスの作製方法を提供する。 - 特許庁 - Simultaneously with formation of first layer aluminum interconnections 63B, 64B, a dummy pattern of aluminum layer is formed in a region where a beam part 2B and an etching liquid injection opening 72B are formed.
１層目アルミ配線６３Ｂ、６４Ｂの形成と同時に、梁部２Ｂおよびエッチング液注入口７２Ｂが形成される領域にアルミ層からなるダミーパターンを形成する。 - 特許庁 - To remove a resist mask together with its hardened superficial film, without damaging the organic base film after the organic film patterning, in the formation of an organic film pattern.
有機膜パターンの形成において、有機膜のパターニング後に、下地の有機膜を損なうことなく、レジスト表面硬化膜を含むレジストマスクの除去を可能にする。 - 特許庁 - A substrate having groove with a square cross section on its surface is prepared, on which film formation by sputtering and etching are repeated to form a surface pattern having a triangular cross section.
矩形の溝形状を表面に有する基板を準備し、この上に、スパッタによる成膜とエッチング処理を繰り返して、断面三角形状の面形状を形成する。 - 特許庁 - Concretely, the emission ratio determination means determines emission ration of emission component to reduce ozone formation quantity by referring ozone forming pattern.
具体的には、排出比率決定手段は、オゾン生成パターンを参照することによって、オゾン生成量が低減されるような排気成分の排出比率を決定する。 - 特許庁 - To provide: a polymer for a resist suitable for dry exposure, immersion exposure, and double patterning; a resist material including the same; and a pattern formation method using the resist material.
ドライ露光、液浸露光、ダブルパターンニングに適するレジスト用重合体、それを含むレジスト材料、ならびにそのレジスト材料を用いるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a coating liquid that can well form a film of an organic EL layer in pattern formation of organic EL element, and an organic EL ele ment and method of manufacturing the same.
有機ＥＬ素子のパターン形成における有機ＥＬ層の成膜を良好に行うための塗液並びに有機ＥＬ素子及びその製造方法を提案する。 - 特許庁 - To provide a negative resist composition having high sensitivity and high resolving power and reduced in development defects in pattern formation with an actinic radiation (electron beam, X-ray or EUV (extreme-ultraviolet ray)).
活性放射線（電子線、Ｘ線又はＥＵＶ）によるパターン形成において、高感度、高解像力で、現像欠陥が低減されたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method by which lowering of contrast is solubility can be prevented and lowering of resolution can be suppressed even when the thickness of a resist film is made smaller than 250 nm.
レジスト膜の厚さを２５０ｎｍよりも薄くしても、溶解性のコントラストが低下しないようにして、解像度の低下を抑制できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Because of the dummy patterns 7, the problem of the residual caused by the loading effect of dry etching for pattern formation, which occurs in the inter-wiring spaces 6, is resolved.
ダミーパターン７によって配線間スペース６で発生していたパターン形成のためのドライエッチングによるローディング効果に起因する残さの問題を解決できる。 - 特許庁 - To obtain a screen printing device performing formation of a seal pattern on a substrate on which an alignment layer material is formed and performing alignment treatment to the alignment layer material.
配向膜材料が形成された基板上にシールパターンの形成を行うと同時に配向膜材料への配向処理を行うスクリーン印刷装置を得ることができる。 - 特許庁 - To provide a determination method capable of accurately and rapidly determining a replacement timing of a focus ring, a control method, a determination device, a pattern formation system, and a program.
フォーカスリングの交換時期を的確かつ迅速に判定することができる判定方法、制御方法、判定装置、パターン形成システム及びプログラムを提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method wherein a viscosity of a liquid object is reduced and a stability in the ejection action for the liquid object is improved, and to provide a liquid droplet ejector.
液状体の粘度を低下させるとともに、その液状体の吐出動作の安定性を向上させたパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁 - On this occasion, the formation is carried out so that the distance between the opening and the neighboring active region can be varied by the width of the element isolation film pattern under the selected opening.
この時、開口部とこれに隣接する活性領域との間の距離を選択された開口部の下の素子分離膜パターンの幅によって変えるように形成する。 - 特許庁 - To provide a photo-setting composition being excellent in heat resistance and low in the contractility during photo-setting, and a pattern formation process by light imprinting method using the composition.
光硬化時の収縮度が低く耐熱性に優れた光硬化性組成物及び該組成物を用いる光インプリント法によるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a near-field exposure mask, a resist pattern formation method, and a device manufacturing method capable of securing close contact between a mask and an exposure target over a large area.
大面積にわたってマスクと被露光物との密着を確保することのできる近接場露光用マスク、レジストパターン形成方法、デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive film having sufficiently high release property of a photosensitive layer comprising a photosensitive resin composition from a support film and allowing formation of a resist pattern free of defects.
感光樹脂組成物からなる感光層の支持体フィルムからの剥離性が十分に高く、欠陥のないレジストパターンを形成できる感光性フィルムを提供すること。 - 特許庁 - To provide a new compound, to provide an acid generator consisting of the same, to provide a resist composition containing the acid generator, and to provide a method of resist pattern formation using the resist composition.
新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide a technique that copes with a tendency of making electrode pattern formation accuracy difficult caused by a tendency or the like of making electrodes high-density due to a tendency of making PDPs high-definition.
ＰＤＰの高精細化に伴う電極の高密度化などによる電極パターン形成精度の困難化に対して対処できる技術を提供する。 - 特許庁 - Because the mask part 13 is formed of a photosensitive emulsion, the formation of micropattern is facilitated and the cathode vapor deposition pattern A can be vapor deposited into micropattern.
マスク部１３は、感光性をもつ乳剤から形成されているので、微細パターンの形成が容易であり、カソード蒸着パターンＡを微細パターンに蒸着することができる。 - 特許庁
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