「Pattern Formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 35 36 37 38 39 40 41 42 43 .... 57 58 次へ＞- To provide a formation method of a silicon oxide film in which, upon forming a round shape at a corner of silicon at an upper end of a projection of a pattern, the silicon oxide film can be formed at a uniform film thickness without causing a film thickness difference by a nondense and dense state of the pattern.
パターンの凸部上端のシリコンのコーナーに丸み形状を形成した上で、パターンの疎密による膜厚差を生じさせずに均一な膜厚でシリコン酸化膜を形成することが可能なシリコン酸化膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive composition having excellent sensitivity, PEB (post exposure bake) temperature dependence and roughness characteristics and allowing formation of a pattern with a favorable feature, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.
感度、ＰＥＢ温度依存性及びラフネス特性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - When the phase shifter pattern is formed by patterning a transparent film 4a, the formation and alignment of the phase shifter pattern with respect to a metallic layer 3 for forming the light shielding film of a mask substrate 2 are executed by using alignment mark patterns disposed at the metallic layer 3.
透明膜４ａをパターニングして位相シフタパターンを形成する際に、マスク基板２の遮光膜形成用の金属層３に設けられた位置合わせマークパターンを用いて、金属層３に対する位相シフタパターンの形成位置合わせを行う。 - 特許庁 - To improve etching characteristics such as an etching rate and an etching anisotropy, to reduce the formation of a polymer film on the side wall of a pattern, and to efficiently remove the polymer film formed on the side wall of the pattern.
エッチング速度およびエッチング異方性などのエッチング特性を向上し、パターン側壁ポリマー膜の生成を低減するとともに生成したパターン側壁ポリマー膜を効率よく除去することのできる多層膜材料のドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a formation method for a conductor pattern wherein a circuit pattern is surely formed even with a substrate comprising such a material as of low moisture-resistance and chemical-resistance while a lower resistance is realized by a low-cost and simple method.
耐湿性や耐薬品性の低い材料により構成される基板であっても、確実に回路パターンを形成することができ、しかも安価かつ簡易な方法によって低抵抗化を実現できる導体パターンを形成方法を提供する。 - 特許庁 - In the circuit board which is formed with a pattern and undergoes mechanistic interference by a shield plate, an area wherein pattern formation is restricted according to the relationship with the shield plate is indicated on the surface of the circuit board.
本発明の回路基板は、パターンが形成され、シールドプレートにより機構的干渉を受ける回路基板において、シールドプレートとの関係でパターンの形成が制限される領域を回路基板の表面に表示したことを特徴としている。 - 特許庁 - This inspecting device is equipped with image detecting means (116 and 117) for detecting an image of a pattern formed through image formation optical systems 107 to 115 and a defocusing means 122 which defocuses the image of the pattern detected by the image detecting means.
結像光学系（１０７〜１１５）を介して形成されたパターンの像を検出するための像検出手段（１１６、１１７）と、像検出手段において検出されるパターンの像をデフォーカスさせるためのデフォーカス手段（１２２）とを備えている。 - 特許庁 - To enable the formation of a pattern having a finer width which exceeds the limit of dimensional shape such as a film thickness of the layer which is lifted off and is patterned and a cut shape of resist when the pattern having the narrow width is formed by means of the lift-off method.
リフトオフ法により狭小な幅を有するパターンを形成する際に、リフトオフされてパターニングされる層の膜厚や、レジストの切れ込み形状などの寸法形状の限界を越えた、より微細な幅を有するパターンの形成を可能にする。 - 特許庁 - To provide an active light or radiation sensitive resin composition which allows formation of a pattern having less water residue defects, bubble defects, and development residue defects and is superior in LWR, and a pattern forming method using this resin composition.
水残り欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の少ないパターンを形成することが可能であり、さらにＬＷＲの優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - Each movable shade 48 advances or recedes with respect to the light axis of the bulb 30, and forms a light distribution pattern for a low-beam by shielding a part of a light at an advanced position while allowing formation of a partial shape of a light distribution pattern for a high-beam at a receded position.
各可動シェード４８は、バルブ３０の光軸に対し進退可能であり、進出位置において光の一部を遮ってロービーム用配光パターンを形成し、退避位置においてハイビーム用配光パターンの一部形状の形成を許容する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation which gives a pattern free of pattern defects such as a chip and undercut and excellent in adhesion to a substrate, and allows production of a color filter excellent in reliability in electrical characteristics, etc.
パターンに欠けやアンダーカット等のパターン不良が無く、基板との密着性に優れ、加えて電気特性等における信頼性に優れたカラーフィルタを作製することが可能な着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - A coating liquid for providing a substrate with liquid-repellency is applied to a substrate by ink-jet manner and dried to control the surface condition and thereafter a liquid material for pattern formation is discharged to the substrate, dried, and fired to form a pattern.
基板に撥液性を付与するためのコーティング液をインクジェット方式により基板上に塗布、乾燥し、表面状態を制御した後、パターン形成用液体材料を基板上に吐出、乾燥、焼成することによってパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a method of producing a surface metal film material and a method of producing a metal pattern material, which allow the formation of a metal film or a metal pattern high in thermal shock resistance and superior in adhesion to a flat and smooth substrate, by simple and convenient processes.
熱衝撃耐性が高く、平滑な基板との密着性に優れる金属膜又は金属パターンを簡便な工程により形成しうる表面金属膜材料の作製方法、及び金属パターン材料の作製方法を提供すること。 - 特許庁 - A Q value showing an intensity difference between right and left edges of a signal obtained from the photoelectric detection of a pattern image is approximated to a specified order function, related to the defocus quantity Z of a pattern on a focus position corresponding with Gaussian mirror surface of the image formation optical system.
パターン像を光電検出して得られる信号の左右エッジの強度差を表すＱ値を、結像光学系のガウス像面に対応するフォーカス位置に対するパターンのデフォーカス量Ｚに関する所定次数の関数に近似する。 - 特許庁 - As a result, when the pattern of the internal wiring is formed, the green sheet 4G has the same degree of expansion as that of the green sheet 4G at via hole formation, and hence, the pattern of the internal wiring is not arranged deviated from the via hole 7.
この結果、内部配線のパターン形成時のグリーンシート４Ｇは、ビアホール形成時のグリーンシート４Ｇの膨張（拡張）度合いと同じだけ膨張した状態となることから、内部配線のパターンはビアホール７とずれて配置されることはなくなる。 - 特許庁 - To provide a surface processing method for obtaininga substrate having the desired uniform lyophilic property in order to improve formation of a film pattern by the ink jet method, and also provide a surface processing substrate obtained by this surface process and a method of forming a film pattern.
インクジェット法による膜パターンの形成を改善するため、所望の親液性を均一に有する基板を得るための表面処理方法、この表面処理によって得られた表面処理基板、及び膜パターンの形成方法等を提供する。 - 特許庁 - To provide a solder resist pattern forming method which allows formation of a high-resolution resist pattern with good reproducibility regardless of the thickness of a solder resist layer and the influence of a blue pigment, and a photosensitive composition suitable for use in the forming method.
ソルダーレジスト層の膜厚や青色顔料の影響によらず、再現性よく高解像度のレジストパターン形成を可能とするソルダーレジストパターンの形成方法、並びに該形成方法に好適に用いられる感光性組成物を提供すること。 - 特許庁 - Thus, an image of a high-definition pattern can be produced by roll-to-roll techniques on a long web substrate, and this can effectively respond to a larger size and low cost of a substrate for pattern formation to be used for, for example, various kinds of displays.
これにより、長尺ウェブ基材上に高精細パターンの画像をロールｔｏロールで製造することが可能となり、例えば各種のディスプレイ用途に用いられるパターン形成用基材の大型化や低コスト化に有効に対応できる。 - 特許庁 - After an exothermic body film which has not been patternized and which has a uniform film thickness is formed, pattern formation is carried out by sand blast treatment or dry etching treatment using a resist pattern to that exothermic body film.
セラミックス基板の表面上にスクリーン印刷やローラーコートなどにより、均一な膜厚のパターン化されていない発熱体膜を形成した後、その発熱体膜にレジストパターンを用いたサンドブラスト処理又はドライエッチング処理によりパターン形成する。 - 特許庁 - To provide the manufacturing method of a semiconductor device which can improve pattern dependence, when forming an insulation film through reaction between ozone and organic silicon compound, while removing resist residue and reaction product after wiring pattern formation.
配線パターン形成後のレジスト残渣や反応生成物を除去しながら、オゾンと有機シリコン化合物との反応により絶縁膜を形成する際のパターン依存性を改善することができる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - By using this paste for pattern formation using a binder containing an organic high polymer having a branched structure, a conductor, a resistor, a dielectric and an insulating material are manufactured, and the pattern having a high aspect ratio is formed on a green sheet by a screen printing method by using them.
枝分かれ構造の有機高分子を含むものをバインダとしたパターン形成用ペーストを使用して、導電体、抵抗体、誘電体、絶縁体を作製し、これをスクリーン印刷法によりアスペクト比の高いパターンをグリーンシート上に形成する。 - 特許庁 - A conductive via-hole 5 penetrating the upper surface (main surface) and the lower surface (back surface) of an insulator layer of each circuit board is connected with a metal wiring pattern 7 at the main surface side, and a solder plate formation region 8 is formed at the metal wiring pattern 7.
個別の回路基板の、絶縁体層の上面（主面）と下面（裏面）とを貫通する導電ビア５が、主面側において金属配線パターン７と接続し、その金属配線パターン７上にはんだめっき形成領域８を形成する。 - 特許庁 - To provide a resist composition very excellent in heat resistance, enabling formation of a resist pattern having good adhesion to a substrate and suitable for a light shielding film such as a black matrix and to provide a pattern forming method using the resist composition.
耐熱性が顕著に優れ、基板との密着性が良好なレジストパターンを形成することができ、ブラックマトリックスなどの遮光膜としての用途に好適なレジスト組成物と、該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for forming pattern using a chemically amplified resist by which formation of a surface insoluble layer is prevented without reducing thickness of a resist layer and the profile and dimensional accuracy of the resist pattern can be improved.
化学増幅型レジストを用いたパターン形成方法において、レジスト層を膜減りさせずに表面難溶化層の形成を防止し、レジストパターン形状及び寸法精度を向上させることのできるパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - A method for manufacturing a conductive pattern-formed substrate of the present invention includes: a conductive pattern formation step of irradiating a transparent conductive layer provided on an insulation substrate with a pulse-form laser beam in a predetermined pattern to form an insulation portion and forming at least a conductive pattern; and a re-irradiation step of re-irradiating a part of the insulation portion with the pulse-form laser beam.
本発明の導電パターン形成基板の製造方法は、絶縁基板上に設けられた透明導電層にパルス状レーザ光を所定パターンで照射することにより絶縁部を形成して、少なくとも導電パターンを形成する導電パターン形成工程と、前記絶縁部の一部にパルス状レーザ光を再照射する再照射工程とを有する。 - 特許庁 - To conquer chipping of a resist pattern and instability of a resist pattern in a low exposure region, which become problematic when a fine pattern is formed using a laminate comprising a substrate, a photosensitive resin layer and a support layer in circuit formation for a printed wiring board, a flexible wiring board, a TAB substrate or a COF substrate, and to provide a stable fine resist pattern and a circuit.
プリント配線板、フレキシブル配線板、ＴＡＢ基板、ＣＯＦ基板の回路形成において、基材と感光性樹脂層と支持体層からなる積層体をもちいてファインパターンを形成する際問題となる、レジストパターンの欠損、低露光領域下でのレジストパターンの不安定を克服し、安定したファインなレジストパターンおよび回路を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a resist composition having a broad process window in contact hole formation in microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, and capable of suppressing pit formation in flow baking, and to provide a method of forming a pattern using the same.
遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ションに於いて、コンタクトホール形成において広いプロセスウインドウをもち、かつフローベーク時のピット形成を抑制出来るレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - A diagnosis section 7 calculates the formation probability of the waveform pattern of the detected characteristics quantity, based on the parameters stored in the learning section 6, determines the parameter whose formation probability becomes maximum, decides the state of the winding section 2 and indicates the results on a display 8.
診断部７は、検出された特徴量の波形パターンの生成確率を、学習部６に記憶したパラメータに基づき演算して、生成確率が最大となるパラメータを決定し、巻線部２の状態を判定し、結果を表示部８に表示する。 - 特許庁 - A single pattern sensor 18 can detect a belt rotation detection mark TM displayed on an image non-formation part of an intermediate transfer belt 16 and registration marks RM(K), RM(C), RM(M), and RM(Y) displayed on an image formation part of the intermediate transfer belt 16.
中間転写ベルト１６上の画像非形成部に設けられたベルト回転検出マークＴＭと、中間転写ベルト１６上の画像形成部に設けられたレジストマークＲＭ(K)、ＲＭ(C)、ＲＭ(M)、ＲＭ(Y)を、一つのパターンセンサ１８で検出可能となっている。 - 特許庁 - After formation of a thick resin film 5 and an upper layer contact hole 51 that penetrates the film, formation of a lower layer contact hole 41 that penetrates a gate insulation film 15 and patterning of an ITO film for the purpose of forming a transparent pixel electrode are performed all together, under one resist pattern 8.
厚型樹脂膜５及びこれを貫く上層コンタクトホール５１の形成後に、一つのレジストパターン８の下で、ゲート絶縁膜１５を貫く下層コンタクトホール４１の作成と、透明画素電極形成のためのＩＴＯ膜のパターニングとを一括して行う。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method that allows excellent roughness performance such as line width roughness and exposure latitude, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film used for the same.
ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュードに優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive paste composition by which a fine pattern can be formed, and the amount of a noble metal material used can be reduced to allow the formation of an electrode which can be reduced in cost.
微細パターン形成が可能であり、かつ、貴金属材料の使用量が少なくでき、低コスト化が可能な電極を形成できる感光性ペースト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a transfer apparatus which can improve transfer efficiency and, at the same time, can realize high-accuracy pattern formation and can suppress the thermal deformation of a transferred product.
転写能率を向上することができるとともにパターンの形成を精度よく行うことができ、製品の熱による変形を抑制することができる転写装置を提供する。 - 特許庁 - To enable formation of a resistor which has a required resistance within an etch-formed circuit pattern.
所要の抵抗値を有する抵抗器をエッチング形成された配線パターン内部に形成可能とする抵抗層接合体の製造方法、および抵抗層接合体を用いた部品の製造方法の提供。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an EL element realizing high emission efficiency and fetching efficiency, simple manufacturing processes and high-definition pattern formation.
本発明は、発光効率や取り出し効率の高さ、製造工程の簡便さや高精細なパターンの形成を実現するＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a printed wiring board which allows easy formation of an upper face pattern and prevents the damage of a bottom section at the time of making a blind via hole by laser and also provide a printed wiring board manufactured by such a method.
上面パターンの形成が容易で，レーザによるブラインドビアホール開口時の底部の損傷を抑制することができる，プリント配線板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a magnetic recording medium by which a projecting defect on a substrate surface is reduced and obstruction of pattern formation of a magnetic recording layer and damage of a stamper is prevented.
基体表面の凸状欠陥を低減し、磁気記録層のパターン形成の阻害、およびスタンパの損傷を防ぐことが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a plastic package wherein the spreading adhesion, burring, warpage or the like of copper of a plating pattern in a slit hole formation part can be prevented, and defective conductivity can be also prevented.
スリット孔形成部に発生するめっきパターンの銅の延展付着、バリ、めくれ等の発生を防止でき、導通不良を防止できるプラスチックパッケージの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of thin film formation substrate by which a substrate having a surface on which a fine pattern is formed with high precision can be obtained, with high degree of freedom in process conditions and material selection.
表面に高精度で微細パターンが形成された基板を得ることができ、かつプロセス条件や材料選択の自由度の大きな薄膜形成基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - After that, by means of lithography using the chemical amplification resist, a resist pattern 10a with an opening in a trench formation region including the region where the via-hole 8 is formed, is formed.
その後、化学増幅型レジストを用いたリソグラフィーにより、ビアホ−ル８が形成された領域を含むトレンチ形成領域に開口部を持つレジストパターン１０ａを形成する。 - 特許庁 - To provide an apparatus and a method for metal pattern formation and a method for manufacturing a device which can improve productivity by decreasing manufacturing processes and reducing manufacturing costs.
製造工程を削減し、製造コストを削減し、生産性を向上することができる金属パターン形成装置、金属パターン形成方法並びにデバイスの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a semiconductor device wherein a lower wiring pattern which is in contact with a connection hole is not damaged in the case that a wiring trench is formed in a dual damascene formation.
デュアルダマシン形成において、配線溝を形成する際に、接続孔と接している下の配線パターンにダメージを与えることのない半導体製造方法を提供する。 - 特許庁 - The radiation-sensitive resin composition comprises a resin, a radiation-sensitive acid generator, a nitrogen-containing compound and a solvent, wherein the resin has a glass transition temperature not over a preapplication bake temperature in the formation of a resist pattern.
樹脂と、感放射線性酸発生剤と、含窒素化合物と、溶剤とを含有し、且つ、前記樹脂のガラス転移温度が、レジストパターンを形成する際のプレアプリケーションベーク温度以下である。 - 特許庁 - A polymer comprising a repeating unit selected from the repeating units represented by formula (1) and/or formula (2) is used as a resin component of a resin composition for fine pattern formation.
微細パターン形成用樹脂組成物の樹脂成分として、下記式（１）および／または下記式（２）で表される繰返し単位から選ばれる繰返し単位を含む重合体を使用する。 - 特許庁 - When contamination is adhered before the step of forming the film 5, its part is raised, and hence a pattern formation is failed to be short-circuited when forming the checking patterns 7a, 7b.
層間絶縁膜５の形成工程以前で異物が付着すると、その部分が盛り上がるので、チェック用電極パターン７ａ，７ｂの形成時にパターン形成が失敗しショートする。 - 特許庁 - A pattern formation control section causes image forming units by color to form toner patterns PT so that the densities of the leading and trailing ends are higher than that of the middle parts in the running direction of the transfer belt.
パターン形成制御部が、各色別の作像ユニットに、トナーパターンPTを、転写ベルト走行方向の先端部及び後端部の濃度を中央部よりも薄い濃度で形成させる。 - 特許庁 - To provide a screen printing apparatus in which the viscosity of a printing paste is reduced so as to ease release of air bubbles from the printing paste, thereby enabling stable formation of a printing pattern.
印刷ペーストを低粘度化し、印刷ペースト中から気泡が離脱することを容易にすることにより、印刷パターンを安定して形成可能なスクリーン印刷装置を得ることができる。 - 特許庁 - To provide a method for forming a light shielding pattern using a light shielding transfer film which enables low-temperature film formation and easily and inexpensively obtaining light shielding property by simple film transfer.
低温成膜が可能で簡便なフィルムの転写により遮光性を容易に安価に得ることのできる遮光性転写フィルムを用いた遮光性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an electrochromic (EC) composition capable of retaining a gap between electrodes only by performing pattern formation according to coating without separately forming a spacer; and to provide an EC element using the electrochromic composition.
塗布法によるパターン形成のみで、スペーサーを別途形成せずとも電極間のギャップを保持する事が可能なＥＣ組成物及びこの組成物を用いたＥＣ素子を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition film allowing formation of a film having superior heat resistance, in which a high-resolution pattern can be formed without producing undercut at patterning.
パターン加工時にアンダーカットが発生することなく、高解像度のパターンを形成し、優れた耐熱性を有する膜を形成することができる感光性樹脂組成物フィルムを提供すること。 - 特許庁
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