「Patterned」を含む例文一覧(3853)

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  • The mask layer is then patterned on the side of the silicon substrate 2 previously applied with a thermal oxidation film 3 and through holes 52 are opened in the silicon substrate 2 with high concentration alkaline liquid of KOH, for example, (Fig. (C)).
    予め熱酸化膜３がついていたシリコン基板２側のマスク層をパターニングし、ＫＯＨ等の高濃度アルカリ液にてシリコン基板２に貫通穴５２を開口する（図１（Ｃ））。 - 特許庁
  • A magnetic part 16 arraying magnetic dots 15 for recording a magnetic signal at every certain intervals and a nonmagnetic part 17 not recording a magnetic signal are formed in the patterned medium 11.
    パターンドメディア１１には、磁気信号が記録される磁性ドット１５が所定間隔毎に配置されている磁性部１６と、磁気信号が記録されない非磁性部１７が形成されている。 - 特許庁
  • Contact resistance on a back surface can be reduced by installing an ohmic electrode on a patterned back electrode or a bottom part of an insulating film with respect to the entire back surface.
    また、パターン化した裏面電極もしくは絶縁膜の底部にオーミック電極を裏面全体に設置することにより、裏面における接触抵抗を低減することが出来る。 - 特許庁
  • Further, the wood grain pattern 21b is provided with a plurality of the annual ring lines 31 planarly modelled after the annual rings of the wood and a plurality of vessel lines 32 planarly patterned after the vessel part of the wood.
    さらに、杢目柄２１ｂは、木材の年輪を平面的に象った複数の年輪線３１と、木材の導管部を平面的に象った複数の導管線３２とを備える。 - 特許庁
  • In order to solve such a problem that the ball seems to disappear, a part of a passage is made transparent but the front side face is patterned in color or made into punched vent hole.
    この一見消失したかのようにみえる問題の解決方法としては、通路一部を透明化していたが、その表側表面に色彩模様や、抜き型の通風口をしている。 - 特許庁
  • An insulation film is formed on a substrate, on which STI (Shallow Trench Isolation) is formed, and patterned; and then polysilicon is evaporated and etched without a mask; thereby a poly-sidewall is formed on a sidewall of the insulation film.
    ＳＴＩを形成した基板上に絶縁膜を形成してパターニングして、ポリシリコンを蒸着してマスクなしにエッチングして絶縁膜側壁にポーリ側壁を形成する。 - 特許庁
  • To provide an etching preventing layer where only a part of a lower inter-layer insulating layer is selectively patterned for allowing outgassing in a manufacturing process thereafter.
    ボイド領域内に形成された局部エッチング阻止層が備えられたビットラインスタッド上のビットラインランディングパッドとボーダレスコンタクトを有する半導体素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • A solution containing recording material is applied to the molding substrate to fill only the pit parts to form recording parts, and a required constitution layer is provided to form the optical information recording medium of the patterned medium type.
    記録材料を含む溶液を成形基板に塗布してピット部にのみ充填して記録部を形成し、必要な構成層を設けてパターンドメディアタイプの光情報記録媒体とする。 - 特許庁
  • The X-ray sensitive film 11 is irradiated with X-ray from above the X-ray shielding film 14, and then developed, thereby, the X-ray sensitive film 11 is patterned into a prescribed pattern.
    Ｘ線遮蔽膜１４の上からＸ線感光膜１１にＸ線を照射した後に現像することによりＸ線感光膜１１を所定パターンにパターニングする。 - 特許庁
  • A gate electrode 105 is patterned, and then a resist 104 used for patterning is thermally treated at temperature of 150 to 250°C as being irradiated with UV rays, by which the resist 104 is cured.
    ゲート電極１０５をパターニングした後、パターニングに用いたレジスト１０４にＵＶ光を照射しつつ１５０〜２５０℃の熱処理を施し、レジスト１０４を硬化させる（図２（ｄ））。 - 特許庁
  • The position control system is constructed to substantially correct the position of the target portion using the stiffness compensation model at least during projection of a patterned radiation beam on the target portion.
    位置制御システムは、少なくともターゲット部分にパターン付き放射ビームを投影する間に、堅牢性補償モデルを用いてターゲット部分の位置を実質的に修正するように構成される。 - 特許庁
  • To achieve enhanced recording and resolving power and increased recording density of a perpendicular two-layer patterned medium used in various magnetic recording equipments as well as to achieve a lowered cost and enhanced throughput.
    各種磁気記録装置に搭載される垂直二層パターンド媒体において、低コスト化および高スループット化に加えて、媒体の記録分解能の向上、高記録密度化を実現する。 - 特許庁
  • To prevent accidents due to fault of equipment by predicting the possibility of the accident due to deterioration or the like of the equipment with accident pattern data patterned, from conventional accident data as a case base.
    従前の事故データをパターン化した事故パターンデータを事例ベースにして機器の劣化等による事故発生の可能性を予測することにより、機器故障による事故を未然に防止する。 - 特許庁
  • The package sealing construction of a compound semiconductor device 20 includes a patterned thin conductive film 22, a semiconductor chip 23, at least one metal wire 25, and a transparent sealing material 26.
    化合物半導体デバイス２０のパッケージ封入構造は、パターン付薄導電膜２２、半導体チップ２３、少なくとも１本の金属ワイア２５及び透明封入材料２６を有する。 - 特許庁
  • The magnetic recording system uses a patterned perpendicular magnetic recording medium where each magnetic block, i.e. island 52 contains a stack of a plurality of individual magnetic cells 22 and 32 to provide multilevel recording.
    磁気記録装置は、各磁気ブロック即ち島５２が多重レベル記録を可能にする積重なった複数の個別磁気セル２２，３２を含むパターン状垂直磁気記録媒体を用いる。 - 特許庁
  • RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERNED INSULATIVE FILM, ACTIVE MATRIX SUBSTRATE AND FLAT PANEL DISPLAY DEVICE WITH ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, AND MANUFACTURING METHOD OF FLAT PANEL DISPLAY DEVICE
    感放射線性樹脂組成物、パターン状絶縁性被膜の形成方法、アクティブマトリクス基板およびそれを備えた平面表示装置、並びに平面表示装置の製造方法 - 特許庁
  • A light reflection layer 109 connected to the TFT, a plurality of patterned color filters 110 and a transparent electrode 112 are laminated on the interlayer insulation film 108 in this order.
    層間絶縁膜１０８上には、ＴＦＴに接続された光反射層１１２、パターニングされた複数のカラーフィルタ１１０、および透明電極１１２がこの順序で積層されている。 - 特許庁
  • A patterned mask 20 is formed on the surface of a sacrifice layer 18, which is a part of a multilayer structure 10 comprising a substrate 12, a conductive layer 14, an insulating layer 16, and the sacrifice layer 18.
    基板１２、導電層１４、絶縁層１６及び犠牲層１８から成る多層構造１０の一部である犠牲層１８の表面上にパターニングされたマスク２０を形成する。 - 特許庁
  • The wiring layer is patterned to a metal layer that can be manufactured to uniform thickness regardless of the interlayer connection, and a finer pattern can be also formed with a high yield.
    配線層のパターニングが、この層間接続とは関係なく均一厚に製造可能である金属層に対して行われ、より微細なパターンも高歩留まりで形成可能となる。 - 特許庁
  • A gate insulating film 13 which is patterned so as to cover the gate electrode 12 and expose at least a part of the gate electrode 12 is formed on the polymer substrate 11.
    次いで、高分子基板１１上に、ゲート電極１２を覆うとともに、ゲート電極１２の少なくとも一部が露出するようにパターニングされたゲート絶縁膜１３を形成する。 - 特許庁
  • To provide a method for simply manufacturing a patterned optical element having phase difference of quarter wavelength used for a liquid crystal display device for semi-transmission reflection at a low cost.
    半透過反射用の液晶表示装置に用いられるパターン化された１／４波長の位相差を有する光学素子を簡易且つ安価に製造できる方法を提供する。 - 特許庁
  • On one surface 14 of the substrate 14, a set of conductor layers 23a, 23b and lead-out electrodes 24a, 24b are patterned corresponding to both faces of the membrane electrode junction 12.
    基板１４は、片面１４ａに、膜電極接合体１２の両面に対応して1組の導体層２３ａ、２３ｂおよび引き出し電極２４ａ、２４ｂがパターニング形成される。 - 特許庁
  • The PXLEDs are formed with novel fabrication techniques, such as the epitaxial lateral overgrowth technique over a patterned masking layer, yielding semiconductor layers with low defect density.
    ＰＸＬＥＤは、パターン化されたマスク層上で使用されるエピタキシャル横方向過度成長技術のような新しい製作技術で形成され、欠陥密度の低い半導体層が得られる。 - 特許庁
  • Thereafter, an organic semiconductor layer 7 is evaporated and the organic semiconductor layer 7 is patterned to the insulating film 4 exposed after the photoresist pattern 8a is removed and is left at the area near such insulating film 4.
    その後、有機半導体層７を蒸着し、フォトレジストパターン８ａが除去されて露出された絶縁膜４及びその近傍に残るように有機半導体層７をパターニングする。 - 特許庁
  • The semiconductor layer 14 is patterned, whereby a resistor constituting heaters 15a and 15b and thermometers 16a-16c and wiring layers 17a-17h which form a sensing part is formed.
    そして、この半導体層１４をパターニングすることで、ヒータ１５ａ、１５ｂとセンシング部となる温度計１６ａ〜１６ｃおよび配線層１７ａ〜１７ｈを構成する抵抗体を形成する。 - 特許庁
  • The laser irradiator patterns a laser beam into an elongated shape having a scheduled processing line in the longitudinal direction and irradiates the scheduled processing line on a brittle material substrate with the patterned laser beam.
    レーザ照射装置は、レーザビームを加工予定線が長手方向である細長い形状にパターニングし、パターニングされたレーザビームを脆性材料基板の加工予定線上に照射する。 - 特許庁
  • A patterning device includes a material layer 31, a patterned opaque material layer 32 on the surface of the material layer, and a pellicle 40 of a perfluoropolyether (PFPE) liquid, the pellicle covering the surface.
    パターニング・デバイスは、素材層３１と、素材層の表面上にあるパターン状不透明材料の層３２と、表面を覆う過フルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）液のペリクル４０とを含む。 - 特許庁
  • After selectively forming the resist film 13 on a main surface 11A of a substrate 11, a film 12 to be patterned is formed on the substrate 11 so as to cover this resist film 13.
    基体１１の主面１１Ａ上にレジスト膜１３を選択的に形成した後、このレジスト膜１３を覆うようにして基体１１上に被パターニング膜１２を形成する。 - 特許庁
  • After a connection hole exposing the shoulder of the electrode layer 14a is formed, doped polysilicon is deposited on an upper face of the substrate, and the deposited layer is patterned to form gate electrode layers 28A, 28B.
    電極層１４ａの肩部を露呈する接続孔を形成した後、基板上面にドープトポリシリコンを堆積し、その堆積層をパターニングしてゲート電極層２８Ａ，２８Ｂを形成する。 - 特許庁
  • To provided an apparatus and a method of producing a patterned conductive polymer film wherein production cost is reduced and particularly reproducibility is improved.
    パターニングされた導電性ポリマーフィルムの製造方法および製造装置において、製造コストを低減し、殊に再現性を向上させることができる方法及び装置を提供する。 - 特許庁
  • With a patterned silicon nitride film as a mask, a trench groove is formed at the silicon substrate 21, which is filled with a filling oxide film 27, and which is planarized until the silicon nitride film is exposed.
    そして、パターニングされたシリコン窒化膜をマスクにしてシリコン基板２１にトレンチ溝を形成し、埋め込み酸化膜２７で埋め込み、シリコン窒化膜が露出するまで平坦化する。 - 特許庁
  • To provide the medal shape straightening mechanism of a medal plate marking apparatus by which a curved and patterned medal formed by a plate forming mechanism is reworked into an approximately flat state and discharged.
    版形成機構で形成した湾曲した模様入りメダルを略平らな状態に再加工して払い出すメダル版刻印装置におけるメダル形状矯正機構を提供する。 - 特許庁
  • any of numerous usually rhizomatous hybrid begonias derived from an East Indian plant having rough-textured leaves patterned in silver and bronze and purple and red-brown with inconspicuous flowers
    銀色、ブロンズ色、紫、赤褐色の縞柄のきめの粗い葉と小さくて淡い色の花を持つ、東インドの植物に由来する多数の通常根茎のある雑種のベゴニヤの総称 - 日本語WordNet
  • It is said that the word 'Shinagon' was derived from "Jukkinsho" (A Miscellany of Ten Maxims - Chapter 1: Shinagon), and was patterned after a wise man of the Liu Bang era of Han China, called "Shiko" ("Shiki," the Lord Liu Genealogy).
    「四納言」という言葉は、『十訓抄』（第一、四納言事）に由来し、漢の劉邦の時代に実在した「四皓」（『史記』留侯世家）と呼ばれる賢者に擬えられたと言われている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • The at least one second laser beam is a pulsed form and heats the patterned surface up to the melting temperature from the non-melting temperature prepared by the at least one first laser beam.
    少なくとも一つの第２レーザービームは、パルス状であり、かつ、少なくとも一つの第１レーザービームによって準備された非溶融温度から溶融温度までパターン付き表面を加熱する。 - 特許庁
  • To provide the producing method of liposome using lipid pattern for efficiently forming liposome of a uniform shape from a uniformly patterned lipid film by electro-formation.
    エレクトロフォーメーションにより均一な形のパターン化された脂質フィルムから均一な形のリポソームを効率的に形成することができる脂質パターンを用いたリポソームの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The light-emitting device is disclosed; and includes a multilayer stack, and a sealing material layer having a patterned sealing material region adjacent to the light-emitting stack surface of the multilayer stack optically.
    多層スタック、および多層スタックの発光スタック表面に対して光学的に近接したパターン化封止材料領域を有する封止材料層を含む発光装置が開示される。 - 特許庁
  • The patterned carbon nanotube array contains a plurality of carbon nanotube arrays, and the material of the metal material base with the low melting point is charged between adjacent carbon nanotube arrays.
    前記パターン化されたカーボンナノチューブアレイが、複数のカーボンナノチューブサブアレイを含み、隣接するカーボンナノチューブサブアレイの間に前記低融点の金属材料基体の材料が充填されている。 - 特許庁
  • DIFFRACTION STRUCTURE FORMATION BODY WITH PATTERNED METAL REFLECTING LAYER AND ITS MANUFACTURING METHOD, DIFFRACTION STRUCTURE TRANSFER FOIL, DIFFRACTION STRUCTURE STICKER, AND INFORMATION RECORDING MEDIUM WITH DIFFRACTION STRUCTURE
    パターン状の金属反射層を有する回折構造形成体とその製造方法、並びに回折構造体転写箔、回折構造体ステッカー、及び回折構造体付き情報記録媒体 - 特許庁
  • A patterned conductive coating 4 can be formed on the undercoat film 3 to exhibit good wettability and strong adhesion strength after curing by the thick film technology.
    そして、前記アンダーコート膜３上に厚膜技術にてパターン形状の導電塗膜４を硬化後の濡れ性が良好で且つ強い接着強度にて形成することが可能になる。 - 特許庁
  • The sensitive material of the mask blank is patterned on the basis of the data under prescribed conditions (focal depth and beam diameter) and the mask blank is developed and rinsed to obtain a three-dimensional sensitive material pattern.
    そのデータに基づいて、マスクブランクスの感光性材料を所定の条件（焦点深度、ビーム径）で描画し、そのマスクブランクスを現像・リンスして三次元の感光性材料パターンを得る。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device and a method of manufacturing the semiconductor device by which a base layer can be patterned in high accuracy and any scratch and corrosion in the base layer can be prevented.
    下地層を高精度にパターニングすることができ、下地層にスクラッチおよび腐食が生じるのを防ぐことができる半導体装置の製造方法および半導体装置を提供する。 - 特許庁
  • After a boron is ion-implanted into the SiGe layer 13 through the Si layer 14 in amorphous, the SiGe layer 13 and the Si layer 14 are patterned to form a gate electrode 15.
    アモルファス状態のＳｉ層１４を介してＳｉＧｅ層１３にボロンをイオン注入した後、ＳｉＧｅ層１３及びＳｉ層１４をパターン化してゲート電極１５を形成する。 - 特許庁
  • Consequently, the interface film 7 can be patterned so as to contain the whole plane shape of the GST film 23 as the phase-change film and be made wider than the plane shape of the GST film 23.
    その結果、相変化膜であるＧＳＴ膜２３の平面形状全体を含み、かつＧＳＴ膜２３の平面形状より広くなるように界面膜７をパターニングすることができる。 - 特許庁
  • The barrier layer and a laminated film 18 composed of aluminum or the alloy film are formed on the contact plug, and an insulation film and the laminated film is patterned so as to be in contact with the contact plug.
    前記コンタクトプラグと絶縁膜上にバリア層とアルミニウム又はその合金膜からなる積層膜１８を形成し、コンタクトプラグに接触するように、前記積層膜膜をパターニングする。 - 特許庁
  • Since the photoimageable switchable material can be patterned directly by the actinic irradiation, the resistance memory cell can be manufactured through a simple process.
    本発明の写真現像型スイッチング可能物質は光化学線照射によって直接的にパターニングされるから、単純な工程を通じて抵抗メモリセルを製造することができる。 - 特許庁
  • As a result, a patterned medium may be formed having one- or two-dimensional patterns with a feature pitch of 5-100 nm and/or a bit density of at least 1 Tdpsi.
    その結果、５〜１００ｎｍの特徴ピッチおよび／または少なくとも１Ｔｄｐｓｉのビット密度を有する一次元もしくは二次元のパターンを有するパターンド媒体が形成され得る。 - 特許庁
  • By pushing down the foot-operated lever 14 by stepping operation, the stem 4 is operated, and the aerosol contents liquid is sprayed from the spray nozzle 10 whose spray angle and the like are patterned.
    従って、足踏レバー１４が足踏み操作によって押し下げられることでステム４を作動させ、噴射角度等がパターン化されている噴射ノズル１０からエアゾール内溶液を噴射させる。 - 特許庁
  • More concretely, an upper portion is etched by dry etching so that ITO thin film may leave about 50 nm, and etching is continued by wet etching and patterned in this patterning method.
    具体的には、ＩＴＯ薄膜を約５０ｎｍ残すように上部をドライエッチングによりエッチングによりエッチングし、連続してウェットエッチングによりエッチングしてパターニングを行うパターニングを方法。 - 特許庁
  • A reflecting pixel electrode 11 (third metal film) and a second transparent conductive film 12 as a layer above it are patterned with the same mask pattern and subjected to a batch wet etching process using the same etchant.
    反射画素電極１１（第３の金属膜）とその上層の第２の透明導電性膜１２を同じマスクパターンでパターニングし、同じエッチング液を用いて一括ウェットエッチング処理した。 - 特許庁
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