「Patterned」を含む例文一覧(3853)
＜前へ 1 2 .... 48 49 50 51 52 53 54 55 56 .... 77 78 次へ＞- To provide a photosensitive resin composition capable of easily forming a micro-patterned thin film excellent in low dielectric property as well as in various properties such as flatness, heat resistance, transparency and chemical resistance.
平坦性、耐熱性、透明性、耐薬品性等の諸性能に優れるとともに、低誘電性に優れた微細なパターン状薄膜を容易に形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To surely distinguish (questionable) defects impeding the functional performance of chips from (unquestionable) defects not impeding the functional performance in a method of assessing the defects of a patterned wafer.
パターン化されたウェーハーの欠陥を査定する方法において、チップの機能性を阻害するような（問題となる）欠陥と、機能性を阻害しない（問題とならない）欠陥とを確実に識別するように構成する。 - 特許庁 - In a second mode, the colored acrylic syrup pattern paint is sprayed on the article to be coated to form a desired pattern and a reinforcing layer comprising FRP is provided on the patterned article to be coated to produce an FRP product.
本発明の第２は、被塗装物に着色アクリルシロップ模様塗料を吹き付け所望の模様を形成し、その上にＦＲＰからなる補強層を設けるＦＲＰ製品の製造方法である。 - 特許庁 - The manager side extracts a display patter corresponding to the patterned status by referring to a status display table 112 and displays the extracted patter on a pseudo office environment realized on a display device 12.
管理者側では、状況表示テーブル112を参照して類型化された状況に対応する表示パターンを抽出して表示装置12上に実現される擬似オフィス環境に表示する。 - 特許庁 - Accordingly, the plurality of light source devices arrayed on the board face 1 emit light and, thereby, it seems that the light-source exposing type signboard itself emits light in a shape of letters or figures patterned on the board face 1.
そして、盤面１上に配列された複数の光源装置が発光することにより、光源露出型看板自体が、盤面１の象った文字や図形形状に発光したように見える。 - 特許庁 - To improve accuracy of image retrieval in log information based on an output image printed on a medium such as a colored or patterned sheet or a sheet with characters or graphics printed thereon.
色や模様の付いた用紙、文字や図形が既に印刷されている用紙等の媒体に対して印刷出力を行った場合に、出力画像に基づく、ログ情報の画像検索の精度を向上させる。 - 特許庁 - To provide a resin transfer material, free of remaining of a resin layer in unwanted portions and capable of attaining reliable pattern formation, when being patterned after transfer, and capable of improving reliability.
転写後において、パターニングしたときに、不必要な部分に樹脂層が残存せず、確実なパターン形成を達成することができ、信頼性を向上させることのできる、樹脂転写材を提供すること。 - 特許庁 - The dielectric layer is patterned, the first electric conductive layer of the region is exposed where a third fuse element (F3) is arranged, while leaving a dielectric layer (4i) in the region where a second fuse element (F2) is arranged.
誘電体層をパターニングし、第２ヒューズ素子（Ｆ２）が配置される領域に誘電体層（４ｉ）を残すと共に、第３ヒューズ素子（Ｆ３）が配置される領域の第１導電層を露出させる。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an EL element through photolithography method preventing mixing of colors between an edge portion of a patterned light-emitting part and a different light-emitting layer deposited thereon afterwards, and preventing pixels from getting narrower.
パターン形成された発光部のエッジ部分と後に積層する異なる発光層との混色を防止し、画素細りを防止するフォトリソグラフィー法によるＥＬ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for joining two substrates each other using a joining film patterned in a fine pattern at low cost, and a joined body including a joining film joined by the same.
２つの基材同士を、低コストで微細な形状にパターニングされた接合膜で接合する接合方法、かかる接合方法で接合された接合膜を備える接合体を提供すること。 - 特許庁 - For barrier metals 18 and 19, a photoresist PR1 is let sag and is sputtered and is patterned to be thinner as it goes to the periphery of the barrier metal 18, and a protective sheet 20 is stuck, and the back is grounded.
バリアメタル１８、１９は、ホトレジストＰＲ１をダレさせてスパッタリングし、バリアメタル１９の周辺に向かうに連れて薄くなるようにパターニングした後に、保護シート２０を貼り合わせてバックグラインドする。 - 特許庁 - A figured glass 1 to be printed is made by cutting the mist pattern figured glass into a prescribed shape, the figured glass 1 is cleaned by a cleaner and is dried and, thereafter, a screen print is set on the patterned surface.
ミスト模様型板ガラスを所定の形状に切断して印刷すべき型板ガラス１とし、この型板ガラス１を洗浄機で洗浄し乾燥した後、模様面にスクリーン印刷版をセットする。 - 特許庁 - To make a coil of a magnetic head small in diameter and to make the magnetic head compact by forming an end surface of an insulating layer vertically when the insulating layer is etched to be patterned.
絶縁層をエッチングしてパターン形成する際に絶縁層の端面を垂直となるように形成し、これによってたとえば、磁気ヘッドのコイルの小径化、磁気ヘッドの小型化を図ることを可能にする。 - 特許庁 - OLEDs are patterned into a marker, and it is combined with an outer layer comprising a high-scattering, nonabsorbing film provided on an OLED luminescent region and a high-absorbing film provided on a nonluminescent region.
ＯＬＥＤをパターン化して標識とし、ＯＬＥＤ発光領域上に設けた高散乱性・非吸収性皮膜と非発光領域上に設けた高吸収性皮膜とからなる外層と組合わせる。 - 特許庁 - The outer peripheral side surface 14a of the chip opposing to a side of a liquid droplet ejection surface is patterned as it becomes more inside than an outer peripheral side surface 14b of the chip at the side of the liquid droplet ejection surface by several μm.
ここで、液滴吐出面側と反対側のチップ外周側面１４ａが、液滴吐出面側のチップ外周側面１４ｂより数μｍ内側となるようにパターニングする。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a thin-film magnetic head, which is capable of easily lifting-off a resist layer patterned by an electron beam, a method for manufacturing a magneto-resistive element aggregate, and a method for manufacturing a magnetic head slider.
電子ビームでパターニングしたレジスト層を容易にリフトオフできる薄膜磁気ヘッドの製造方法、磁気抵抗効果素子集合体の製造方法、及び磁気ヘッドスライダの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To prevent increase of resistance caused by plasma application in a method of fabricating a liquid crystal display device, in which a transparent conductive film is patterned on an interlayer insulating film having at least an organic insulating film.
少なくとも有機絶縁膜を有する層間絶縁膜上に透明導電膜をパターン形成する液晶表示装置の製造方法において、プラズマ処理による抵抗増大を防止する。 - 特許庁 - (2) The two-dimensional patterned polarizing element comprises a polymer film, a glass plate or a glass plate with transparent electrode which has the uniaxially oriented conjugating polymer thin film pattern described in (1).
〔２〕前記の〔１〕記載の一軸配向共役系高分子薄膜パターンを有する高分子フィルムまたはガラス板もしくは透明電極を有するガラス板からなる２次元パターン状偏光素子。 - 特許庁 - To provide a liquid jet device in which a patterned article having a desired shape printed thereon can be obtained in a short period of time without using a cutting machine, and to provide a method for controlling the same.
裁断機を用いることなく、所望の形状の印刷された図柄製品を短時間に低コストで取得することが可能な液体噴射装置及び液体噴射装置の制御方法を提供する。 - 特許庁 - An amorphous Si thin film in film thickness of 35 nm is formed with reference to a substrate 2, it is patterned to be in a prescribed shape, and then an amorphous Si thin film in a film thickness of 50 nm is formed additionally.
基板２に対して３５ｎｍの膜厚で非晶質Ｓｉ薄膜を形成し、これを所定形状にパターニングしてから５０ｎｍの膜厚で非晶質Ｓｉ薄膜を更に形成する。 - 特許庁 - The liquid repellent layer 12 may be arranged before patterning the resin film 11 or be formed on the surface of the patterned resin film 11 by low-pressure plasma less than 1 Pa after patterning.
撥液層１２は、樹脂膜１１をパターニングする前に配置しておいてもよいし、パターニング後、１Ｐａよりも低圧のプラズマによる表面処理で、パターニングした樹脂膜１１の表面に形成してもよい。 - 特許庁 - To provide a method for producing an aligned single-walled carbon nanotube bulk structure which has been patterned, and in which a high specific surface area, high purity and significantly large-scaled height or length are achieved.
高比表面積、高純度でありかつ高さあるいは長さの飛躍的なラージスケール化を達成した、パターニング化された配向単層カーボンナノチューブ・バルク構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A sheet-like single crystal Si is doped with, for example, a P-type impurity and then patterned to leave only a region to be a strain gauge 24 by etching etc. and form the strain gauge 24.
シート状の単結晶Ｓｉに対して例えばＰ型不純物をドーピングしたのち、エッチングなどによってパターニングして歪ゲージ２４となる領域のみを残すことで歪ゲージ２４を形成する。 - 特許庁 - A thermally assisted recording (TAR) bit patterned media (BPM) magnetic recording disk drive utilizes optical detection of a synchronization field for write synchronization and optical detection of the servo sector for read/write head positioning.
熱アシスト記録（ＴＡＲ）ビットパターンメディア（ＢＰＭ）磁気記録ディスクドライブは、書き込み同期のための同期フィールドの光検出と、読み込み／書き込みヘッド位置決め用サーボセクタの光検出を利用する。 - 特許庁 - The patterned beam PB of radiation includes a pattern for forming device features in areas of a product die and a pattern for use in forming features of an alignment mark 101 in other areas.
放射線のパターン形成ビームＰＢは、製品ダイの領域にデバイス・フィーチャーを形成するためのパターン、および他の領域にアラインメントマーク１０１のフィーチャーを形成する際に使用するパターンを含む。 - 特許庁 - A lithography apparatus comprises a masking device for covering at least a part of patterning means used for patterning a projected beam, before image formation of a patterned beam is performed on a substrate.
パターン化されたビームを基板上に結像する前に投影ビームをパターン化するために使用されるパターン化手段の少なくとも一部を覆い隠すためのマスキング・デバイスを有するリソグラフィ投影装置。 - 特許庁 - To provide a connector which has minutely and complex patterned wiring parts and with which required electrical characteristics can be accomplished and provide its manufacturing method and a circuit device inspecting adaptor device equipped with the connector.
微細で複雑なパターンの配線部を有し、所要の電気的特性が達成されるコネクターおよびその製造方法並びにこのコネクターを具えた回路装置検査用アダプター装置を提供すること。 - 特許庁 - The cell gate-insulating film 14 is patterned to leave the film 14 on a first region of a cell array region a and expose a second region of a cell array region a and a peripheral circuit region b.
セルゲート絶縁膜１４をパターニングしてセルアレイ領域ａの第１領域上にセルゲート絶縁膜１４を残して、セルアレイ領域ａの第２領域及び周辺回路領域ｂを露出させる。 - 特許庁 - The signal is inputted to the amplifying circuit not through any capacitor, so the waveform has no variation even if a difference in continuance between its low and high level is present, thereby the striped patterned flicker of video is eliminated.
信号はコンデンサを介さずに増幅回路に入力されるので、ローレベルとハイレベルの継続時間に差があっても波形の変化は発生せず、映像の縞模様やチラツキを解消できる。 - 特許庁 - In the circuit unit 12, for example, five circuit boards 19 are stacked; and a patterned foil circuit 21 is placed on a resin plate 20 molded by, for example, injection molding, on each circuit board 19.
回路ユニット１２は例えば５枚の回路基板１９が積層され、各回路基板１９は例えば射出成型により成型された樹脂プレート２０上に、パターンの箔回路２１が載置されている。 - 特許庁 - On the other hand, each of the second light-transmissive electrodes 4 arrayed in a direction orthogonal to the surface of paper is coupled via connections parts 5 patterned integrally with the second light-transmissive electrodes 4.
一方、紙面と直交する方向に整列する第２の透光性電極４の各々は、第２の透光性電極４と一体的にパターニングされる接続部５を介して連結されている。 - 特許庁 - In this detection chip, a liquid-permeable spacer 2 with molecules 1 having a molecule recognizing function fixed thereto is patterned on a substrate 3 so as to serve as a flow path 6 for a liquid sample.
分子認識機能を有する分子１が固定された液浸透性スペーサ２が、液体試料用の流路６となるように基板３上にパターニングされていることを特徴とする検出チップ - 特許庁 - The result is a superconducting wire rod which includes a magnesium diboride-containing superconducting core and a metal tube covering the superconducting core, the superconducting core in its cross section having mesh-patterned voids extending in the lengthwise direction.
二ホウ化マグネシウムを含む超電導芯と、前記超電導芯を覆う金属管とを有し、超電導芯は断面に長手方向に伸びる網目状のボイドを有する超電導線材となる。 - 特許庁 - This method of manufacturing electrical machines which comprises geometrically patterned arrays of permanent magnets, soft magnetic materials, and electrical conductors deposited by kinetic spraying methods directly on a carrier 24.
運動噴霧法によりキャリアー24の上に直接堆積させられる、永久磁石、軟質磁性材料及び導電体の、幾何学的にパターン印刷された配列からなる、電気機械を製造する方法である。 - 特許庁 - A patterned first polycrystalline silicon 102 is formed on a first silicon oxide film 101 formed on a semiconductor substrate 100, and the surface thereof is covered by a second silicon oxide film 103.
半導体基板１００上に形成された第１のシリコン酸化膜１０１上に、パターニングされた第１の多結晶シリコン１０２が形成され、表面を第２のシリコン酸化膜１０３により覆われている。 - 特許庁 - Then the second polycrystal semiconductor film 33 is patterned to form a collector leadout electrode 34, an emitter electrode 35, a gate electrode 36, and LDD source / drain regions 37, 38, 40, 41.
次に第２多結晶半導体膜３３をパターニングしてコレクタ引出し電極３４、エミッタ電極３５及びゲート電極部３６を形成し、ＬＤＤソース／ドレイン領域３７、３８、４０、４１を形成。 - 特許庁 - This patterned knitted fabric characterized by having a pattern comprising loop length-different portions obtained by changing a feeding tension applied to a knitting yarn Y fed from a yarn guide 5 to a knitting needle 3.
本発明の柄付き編地は、糸ガイド５から編針３に供給される編糸Ｙにかける給糸張力を変動させて得られたループ長の異なる部分からなる柄を有するものである。 - 特許庁 - In the second etching process, a resist film is formed to cover the upper and the side surfaces of the second and the third conductive wiring layers which have already been patterned in the first etching process.
第２のエッチング工程では、第１のエッチング工程においてすでにパターニングされた第２及び第３の導電性配線層の上面及び側面を被覆するようにレジスト膜が形成される。 - 特許庁 - Next, a predetermined resist is formed on an electrode film 113 from which the substrate 111 for film formation is removed, the electrode film 113 is patterned to form the upper electrode 103 (the figure 3B, the process j).
次に、成膜用基板１１１が除去された電極膜１１３上に所定のレジストを形成し、この電極膜１１３をパターニングして、上部電極１０３を形成する（図３Ｂ、工程ｊ）。 - 特許庁 - The diode part 3 of the P+ type region 10 is then irradiated with laser light and patterned by laser annealing thus forming an N+ type region 13 selectively in the P+ type region 10 (Fig. 3(c)).
そして、Ｐ＋型領域１０のうちダイオード部３にレーザ光を照射してレーザアニールすることによりパターニングし、Ｐ＋型領域１０にＮ＋型領域１３を選択的に形成する（図３（ｃ））。 - 特許庁 - This geometrically patterned core 10 is manufactured first by preparing a flexible and elastic inserting body with the honeycomb structure which is used for ordinary compression molding metal molds.
幾何学的な形状を有するコア（１０）は、最初に、通常の圧縮成型金型（３０）で使用される可撓性を有し、弾力性のあるハニカム構造の挿入体（４２）を用意することにより製造される。 - 特許庁 - By using the process solution as a rinsing solution during or after developing a patterned photoresist layer, post-development defects such as pattern collapse and line width roughness can be reduced.
この処理溶液は、パターニングされたフォトレジスト層の現像の際又はその後にリンス溶液として用いられた場合に、パターンの倒壊又はライン幅の凹凸のような現像後の欠陥を低減することができる。 - 特許庁 - To provide a device and a method for projecting an image rectifying it to crrect hues and being not influenced by a pattern even when a projection plane is colored and patterned.
投射面が有彩色であったり模様が付いているような場合においても、正しい色相に補正すると共に模様の影響を受けない画像投射装置及び画像投射方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an electronic device in which a photoresist can be cured even when a low dielectric constant interlayer insulating film is patterned, to provide a method for manufacturing an electronic device in which an energy beam absorbing material is actualized, and to provide an energy beam absorbing material.
低誘電率層間絶縁膜をパターニングする場合であっても、フォトレジストにキュア処理を行うことが可能な電子デバイスの製造方法及びエネルギー線吸収材料を実現する。 - 特許庁 - The respective switching device layers are provided with first and second non-conductive substrates (56, 58; 57, 59), patterned first and second dielectric material layers (79, 113; 80, 115), and adhesive layers (78, 114).
各スイッチングデバイス層がそれぞれ、第１、第２の非導体基板（５６、５８；５７、５９）と、パターン化した第１、第２の誘電体材料層（７９、１１３；８０、１１５）と、接着剤層（７８、１１４）とを備える。 - 特許庁 - By forming the protecting layer 31 prior to forming the resist pattern 33a, the protecting layer 31 can be accurately patterned without being affected by ruggedness in the microscopically three-dimensional resist pattern 33a.
保護層３１をレジストパターン３３ａの形成前に形成すれば、微視的に立体構造物であるレジストパターン３３ａの起伏の影響を受けずに保護層３１を精確にパターンニングすることができる。 - 特許庁 - The organic thin film layer includes at least one or more of a hole injecting layer, a hole transport layer, an RGB light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injecting layer, and is patterned by utilizing a laser transfer method.
有機薄膜層は正孔注入層、正孔輸送層、Ｒ、Ｇ、Ｂ発光層、電子輸送層、電子注入層中の一つ以上を含み、レーザー転写法を利用してパターニングされる。 - 特許庁 - By mapping the DSM with the weight to the information flow model patterned beforehand, the information flow model required for the simulation of a complicated process is generated for all the dependences among tasks.
当該ウェイト付きＤＳＭを、予めパターン化しておいた情報フロー・モデルに写像することで、タスク間の全ての依存関係について、複雑なプロセスのシミュレーションに必要な情報フロー・モデルを生成する。 - 特許庁 - Thereafter, a photoresist film patterned to the predetermined shape is formed over the interlayer insulating film (S16), and the dry etching is performed using the photoresist film as a mask (S18) to form a wiring groove to the interlayer insulating film.
この後、層間絶縁膜上に所定の形状にパターニングされたフォトレジスト膜を形成し（Ｓ１６）、フォトレジスト膜をマスクとしてドライエッチングし（Ｓ１８）、層間絶縁膜に配線溝を形成する。 - 特許庁 - The metal thin film, semiconductor film, and second insulating film are patterned, based on the same pattern until the first insulating film is exposed, to form a signal wire, a source electrode, and a drain electrode.
上記金属薄膜、半導体膜、および第２絶縁膜を同一パターンに基づいて第１絶縁膜が露出するまでパターニングして信号線、ソース電極及びドレイン電極を形成する。 - 特許庁
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