「Patterned」を含む例文一覧(3853)
＜前へ 1 2 .... 46 47 48 49 50 51 52 53 54 .... 77 78 次へ＞- In one embodiment, a method for etching chromium includes steps of: preparing a film stack having a chromium layer in a processing chamber; patterning a photoresist layer on the film stack; depositing a conformal protective layer on the patterned photoresist layer; etching the conformal protective layer to expose the chromium layer through the patterned photoresist layer; and etching the chromium layer.
一実施形態において、クロムをエッチングする方法は、クロム層を有する膜スタックを処理チャンバー内に用意するステップと、膜スタック上でホトレジスト層をパターン化するステップと、パターン化されたホトレジスト層に適合保護層を堆積するステップと、その適合保護層をエッチングして、パターン化されたホトレジスト層を通してクロム層を露出させるステップと、クロム層をエッチングするステップとを備えている。 - 特許庁 - To provide a method for flattening a patterned surface, which can precisely, simply and inexpensively flatten the surface of a magnetic layer having patterned recessed and projecting portions and can promote increase in recording density by improving the scanning property and read/write property of a magnetic head by flattening; and to provide a magnetic recording medium and a manufacturing method thereof.
パターニングされた凹凸部を有する磁性層の表面をより高精度、簡便かつ低コストに平坦化することができ、平坦化により磁気ヘッドの走査性と読み書き（ｒｅａｄ／ｗｒｉｔｅ）性を向上させることができるようになることで、更に高記録密度化を促進することができるパターン表面の平坦化方法、並びに磁気記録媒体及びその製造方法の提供。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition that does not generate development residue while maintaining a high residual film ratio even when an aqueous tetramethylammonium hydroxide solution of 2.38 mass% is used as a developer in a patterned film formation step, and can form a patterned film with excellent low dielectric property without impairing physical characteristics of coating films such as light transmittance and solvent resistance even after high temperature baking.
パターン膜の形成工程において、２．３８質量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を現像液として用いても、高い残膜率を維持したまま、現像残渣がなく、高温ベーキング後においても光透過率、耐溶剤性等の塗膜物性を損なうことなく、低誘電特性に優れたパターン膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - In the manufacturing method of the thin film transistor comprising the process of patterning at least one element of the thin film transistor (TFT) on an intermediate transfer medium and the process of transferring the at least one patterned element onto a long-length support body, the manufacturing method of the thin film transistor has the process of executing heating treatment to the at least one patterned element.
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）の少なくとも一つの要素を中間転写媒体上にパターニングする工程、該パターニングされた少なくとも一つの要素を、長尺支持体上に転写する工程を有する薄膜トランジスタの製造方法において、 前記パターニングされた少なくとも一つの要素に、加熱処理を行う工程を有することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 - 特許庁 - A lithographic equipment includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁 - Dry etching is selectively applied to the first conductive film 35, the second conductive film 37, and the third conductive film 39 to form a first gate electrode composed of the first conductive film 35A and the third conductive film 37A which are patterned, and to form a second gate electrode composed of the second conductive film 37A and the third conductive film 39A which are patterned.
第１の導電膜３５、第２の導電膜３７及び第３の導電膜３９に対して選択的にドライエッチングを行なって、パターン化された第１の導電膜３５Ａ及び第３の導電膜３７Ａよりなる第１のゲート電極を形成すると共に、パターン化された第２の導電膜３７Ａ及び第３の導電膜３９Ａよりなる第２のゲート電極を形成する。 - 特許庁 - The patterned coating film 1 containing a colored particle is formed by applying the coating material once while adjusting a mass ratio of the colored particle 1a to a coating film forming component 1b so that the colored particle does not exist to a depth of 5 μm from the surface of the patterned coating film but exists at the least in a range of 5-100 μm.
塗膜形成成分１ｂに対する着色粒子１ａの質量比を調節することにより、着色粒子を含んだ模様塗膜１において、前記着色粒子が前記塗膜の表面から５μｍの領域には存在せず、５〜１００μｍの領域には少なくとも存在することを特徴とする、１回の塗装により形成される模様塗膜。 - 特許庁 - The method of controlling dimensions of structures formed on the substrate using the etching process includes a step 204 of measuring pre-etching dimensions of the respective elements of a patterned etching mask, a step 206 of adjusting the process recipe of the etching process using the results of the pre-etch measurements, and a step 208 of adjusting the process recipe of the etching process, using the patterned etch mask.
エッチングプロセスを用いて基板上に形成された構造物の寸法を制御する方法がパターン化されたエッチングマスクのそれぞれの素子のエッチング前の寸法を測定するステップ２０４、前記エッチング前の測定結果を用いてエッチングプロセスのプロセスレシピを調整するステップ２０６及びパターン化されたエッチングマスクを用いてエッチングプロセスを行い、プロセスレシピを調整するステップ２０８を有する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the pellicle patterned layer comprises the steps of providing a substrate having a plurality of partition walls and separately forming a plurality of accommodation spaces between the adjacent partition walls, discharging ink containing a high-boiling point solvent in the plurality of accommodation spaces using at least two nozzles, and solidifying the ink to form the pellicle patterned layer.
本発明の薄膜パターン層の製造方法は、複数の隔壁を有し、隣接する前記隔壁との間に別々に複数の収容空間が形成されている基板を提供する工程と、少なくとも二つのノズルを用いて、前記複数の収容空間内に高沸点溶剤の含むインクを吐出する工程と、前記インクを固化して、薄膜パターン層を形成する工程と、を含む。 - 特許庁 - To provide a liquid state material forming a highly fine-patterned membrane on a substrate plate simply and inexpensively by removing a solvent, a method for producing a substrate plate having a membrane forming the substrate plate equipped with the highly fine-patterned membrane by using such the liquid state material, and method for producing an electro-optical device and an electronic instrument by using such the method of production.
溶媒を除去することにより、基板上に高精細なパターンの膜を簡単かつ安価に形成可能な液状材料、かかる液状材料を用いて高精細なパターンの膜を備えた基板を形成することができる膜付き基板の製造方法、および、かかる製造方法を用いた電気光学装置の製造方法および電子機器の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The elastic element 130 is arranged on the second surface 110b and further encloses the second patterned metal layer 114, while being brought into contact with the lower mold chase 220 and arranged between it and the substrate 110.
弾性要素１３０は、第２表面１１０ｂ上に配置されるとともに、第２のパターン化金属層１１４を囲み、下側モールドチェイス２２０と接触させ、基板１１０との間に配置される。 - 特許庁 - To provide an effective magnetic recording medium manufacturing method for forming a non-magnetic separation areas between magnetic patterns in a short time period and manufacturing a magnetic recording medium such as a discrete track medium or a bit patterned medium.
磁性パターン間に非磁性の分離領域を短時間で形成することができ、ディスクリートトラック媒体やビットパターンド媒体のような磁気記録媒体を製造するのに有効な方法を提供する。 - 特許庁 - A channel region 12 and a gate oxidized film 13 are patterned on a prescribed region on a P-type element region 11 in the substrate of signal- crystal Si, and a gate electrode 14 on them, for example, as shown in Fig. (a).
（ａ）に示すように、単結晶Ｓｉの基板における例えばＰ型の素子領域１１上の所定領域に、チャネル領域１２、ゲート酸化膜１３、その上にゲート電極１４をパターニングする。 - 特許庁 - The entire surface is coated with a photosensitive organic insulating protective film 15 which is patterned, and an opening part 16 is formed at the upper part of the fuse part 13, while an opening part 19 is formed at the upper part of the pad electrode 17.
全面に感光性の有機絶縁保護膜１５を塗布し、パターンニングして、ヒューズ部１３の上部に開口部１６及びパッド電極１７の上部に開口部１９を形成する。 - 特許庁 - A liquid crystal panel 10 for display has a polarizing plate 15 on the side to be laminated with the patterned retardation plate 20, and the surface of the polarizing plate 15 is coated with an acrylic resin film 16.
表示用液晶パネル１０はパターン化位相差板２０との貼り合わせ側において偏光板１５を有しており、かつ、偏光板１５の表面にアクリル系樹脂膜１６が被覆される。 - 特許庁 - The sacrificial layer 118 is patterned so that a bulkhead arrangement space R1 in which an ink bulkhead 140A of a bulkhead layer 140 is arranged, and a bump connecting space R2 in which a bump 64 is arranged can be formed.
そして、犠牲層１１８をパターニングして、隔壁層１４０のインク隔壁部１４０Ａが配置される隔壁配置空間Ｒ１、及び、バンプ６４が配置されるバンプ接続空間Ｒ２を構成する。 - 特許庁 - In the printed wiring board, an insulating layer 6, a patterned circuit layer 8, and a solder resist layer 20 are sequentially laminated on a base 2.
基材２上に、絶縁層６とパターン化された回路層８とソルダーレジスト層２０とを順次積層してなるプリント配線基板において、前記ソルダーレジスト層は、前記絶縁層の材料と同一材料よりなる。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition which makes physical properties of a film after curing comparable favorably with those of a film cured at a high temperature, a method for producing a patterned cured film using the resin composition and electronic components.
硬化後の膜の物性が、高温で硬化したものと遜色ない性能が得られる感光性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたパターン硬化膜の製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition from which a cured film having good film properties even at low temperature is obtained, and to provide a polybenzoxazole film, a method for producing a patterned cured film and electronic components using the resin composition.
低温でも良好な膜特性を持つ硬化膜が得られる感光性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたポリベンゾオキサゾール膜、パターン硬化膜の製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁 - With the photosensitive film 47 as a mask, the second metal layer 45 is patterned so as to have a width (W2) narrower by about 1-4 μm than the photosensitive film width (W1) by an isotropic wet etching method ((b) in Fig.5).
感光膜４７をマスクとして第２金属層４５を等方性のウェットエッチング方法で感光膜の幅（Ｗ１）よりも１μｍ乃至４μｍ程度小さな幅（Ｗ２）にパターニングする（図５（ｂ））。 - 特許庁 - To provide transparent conductive laminate in which difference in optical characteristics between a conductive part and a non-conductive part which are patterned is small, and whose bones are invisible, and a method for manufacturing the same with sufficient productivity and at low cost.
パターン化した導電性部と非導電性部の光学特性の差が小さく、骨見えしない透明導電積層体と、その製造方法を生産性良く、低コストに提供せんとするものである。 - 特許庁 - An organic insulating layer is formed, the insulating layer is patterned, a liner is accumulated on the insulating layer, the above structure is exposed in plasma, and a pore is formed in an insulating layer of an area adjacent to the liner.
本発明は、有機絶縁層を形成し、絶縁層をパターン化し、絶縁層上にライナを堆積し、該構造をプラズマに露出してライナに隣接する領域内の絶縁層内に微細孔を形成する。 - 特許庁 - To provide an array substrate for a reflection type liquid crystal display device capable of embodying high numerical aperture and high brightness by providing a patterned spacer for maintaining a gap of a liquid crystal panel, and to provide a manufacture method thereof.
液晶パネルのギャップを維持するパターン化したスペーサーを含んで、高開口率と高輝度を具現できる反射型液晶表示装置用アレイ基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁 - A thin gold plating is applied to the general copper foil lead parts of a TAB tape, while lead patterned parts which are required a metal bonding to IC bumps are reduced in their plating thickness, whereby the reliability of a bonding of the tape is ensured.
ＴＡＢ用テ−プのー搬部銅箔リ−ドに薄金メッキを施しながら、ＩＣバンプとの金属接合の必要なリ−ドパタ−ン部は、メッキ厚を厚くする事によりボンデングの信頼性を確保する。 - 特許庁 - To manufacture, with high throughput, a magnetic recording medium having a patterned medium wherein imprinting is carried out uniformly over a full surface even when there is distortion between a substrate and a stamper, and wherein no change occurs in a resist film with time.
基板とスタンパの間で歪みがある場合にも全面均一にインプリントが可能であり、且つレジスト膜の経時変化もしないパターンドメディアを有する磁気記録媒体を高スループットで作製する。 - 特許庁 - A low reflecting film 6 and a high reflecting film 10 are respectively separately patterned to one side 4a and the other side 4b of a transparent substrate 4 and the films 6, 10 configure the black matrix.
低反射膜６と高反射膜１０とを、それぞれ透光性基板４の一方面４ａと他方面４ｂとに分けてパターンニングし、当該各膜６、１０によってブラックマトリックスを構成した。 - 特許庁 - A 2nd insulating layer 5 is arranged, which has a semiconductor- layer-top insulating layer 5a of a specified width about at the central part of a semiconductor layer 4 and is also formed to be patterned on a gate insulating layer 3.
本発明は、半導体層４のほぼ中央部に所定幅の半導体層上絶縁層５ａを有すると共にゲート絶縁層３上にパターン化して形成される第２の絶縁層５を設ける。 - 特許庁 - Continuously, a polycrystal silicon thin film is formed thereon and patterned self-adjustably by exposure of a back face, and the polycrystal silicon thin film is left behind in the recess part 25 to form a semiconductor active layer 30.
続いて、この上に多結晶シリコン薄膜２７を形成し、裏面露光により自己整合的にパターニングして、凹部２５に多結晶シリコン薄膜２７を残存させて、半導体活性層３０を形成する。 - 特許庁 - The BiTe-based thin film is patterned and a c-axis orientation degree which is a ratio of the peak value of a (001) plane to the peak value of a (015) plane in X-ray diffraction is at least 1.0.
そのＢｉＴｅ系薄膜は、パターニングされており、かつ、Ｘ線回折における（００１）面のピーク値と（０１５）面のピーク値との比であるｃ軸配向度が、１．０以上であることを特徴とする。 - 特許庁 - A first layer conductor 15 and a conductor adhesive layer 16 are laminated and pressed on the first layer insulating base material Li, and the first layer conductor 15 is patterned to form a first layer conductor pattern 15p.
第１層絶縁基材Ｌｉに第１層導体１５および導体接着剤層１６を積層プレスし、第１層導体１５をパターニングして、第１層導体パターン１５ｐを形成する。 - 特許庁 - Patterned paper comprises fragments of a safflower dispersed and carried as a pattern forming material in paper, in which CIE chromaticity values, a* is 4 to 30 and b* is 0 or larger, and (b*-10)/a*≤0.5.
ベニバナ細片を模様形成体として紙中に分散担持せしめた模様紙であって、ＣＩＥ色度ａ＊値が４〜３０の範囲にあり、ｂ＊≧０で、且つ（ｂ＊−１０）／ａ＊≦０．５であることを特徴とする模様紙。 - 特許庁 - A conductive film is formed on all the surface, and the conductive film is patterned so as to be electrically connected to the first metal wiring layer 4 whose surface is exposed, and an island-like metal film 6 is formed.
全面に導電膜を形成し、導電膜が表面が露出した第１の金属配線層４と電気的に接続するように導電膜をパターニングし、島状の金属膜６を形成する。 - 特許庁 - When water is applied to the patterned nonwoven fabric, water is absorbed in the thermally embossed area to exhibit a semitransparent state while keeping the opaque state of the non-embossed area to develop the pattern on the fabric.
この模様の付された不織布に水を含ませることにより、熱エンボス加工領域は、水を吸水して半透明状態を呈し、一方非エンボス加工領域は白色のままであり、模様が浮き出る。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device manufacturing method wherein an object film formed on a substrate such as a silicon wafer is patterned into a specified shape by using a masking material high in etch resistance.
高いエッチング耐性を持ったマスク材を用い、シリコンウェハーなどの基板上に形成した被加工膜を所定の形状にパターニングすることが可能となる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a bonding method for mutually bonding two base materials through a bonding film inexpensively patterned into minute shapes and a bonded body equipped with the bonding film bonded by the bonding method.
２つの基材同士を、低コストで微細な形状にパターニングされた接合膜で接合する接合方法、かかる接合方法で接合された接合膜を備える接合体を提供すること。 - 特許庁 - This bandpass filter comprises a base which is made of low-temperature co-fire ceramic and has one or more holes, and a coplanar waveguide which is patterned on the base and covers one or more holes.
低温同時焼成セラミック製であり、１または１以上の孔を有するベースと、前記ベースの上にパターニングされ、前記１または１以上の孔を覆うコプレーナ導波部と、を備えるバンドパス・フィルタ。 - 特許庁 - After an insulating film 21c and a silicon film 12c are patterned onto a semiconductor substrate 10, and a capacity formation section C is formed; a sidewall insulating film 14c is formed on the side of the capacity formation section C.
半導体基板１０上に絶縁膜２１ｃ及びシリコン膜１２ｃをパターニングして容量形成部Ｃを形成した後、容量形成部Ｃの側面上に側壁絶縁膜１４ｃを形成する。 - 特許庁 - An anti-abrasion matte resin layer 5 containing the inorganic anti-abrasion agent 4 and a delustering agent is formed over the entire surface of a base material 1 and a patterned lustrous resin layer 6 is formed on the layer 5 to constitute the decorative material.
基材１上に無機耐摩剤４及び艶消剤を含有する耐摩耗艶消樹脂層５を全面に設け、その上に模様状の艶出樹脂層６を設けて化粧材を構成する。 - 特許庁 - A sheet material 11 in which an electrode member 10 for forming an electrode terminal is patterned and formed is arranged between the first and the second metallic mold half objects, in such a manner that the electrode member is positioned facing the cavity.
電極端子を形成するための電極部材１０をパターン形成したシート材１１を、キャビティに面して電極部材が位置するように、第１および第２金型半体の間に配置する。 - 特許庁 - To provide a thin film magnetic head having a recording head part capable of efficiently and securely inverting a magnetization direction of an isolated bit of a patterned medium arranged for high-density recording.
高密度記録のために配置されたパターンドメディアの孤立しているビットの磁化方向を、効率よく、かつ確実に反転させることのできる記録ヘッド部を有する薄膜磁気ヘッドを提供する。 - 特許庁 - Each recording area has data area patterns 58, where the shape of magnetic material is patterned and a plurality of servo area patterns 60 which are provided with a prescribed phase in the circumferential direction of the substrate.
各記録領域は磁性体形状がパターン化されたデータ領域パターン５８および基板の円周方向に所定の位相で設けられた複数のサーボ領域パターン６０を有している。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a high-definition color conversion substrate having a predetermined film thickness to be patterned preferably and to be produced efficiently without deteriorating the organic molecules or generating an incomplete transfer.
有機分子を劣化させることなく、かつ転写残りがなく効率的に生産でき、高精細で所定の膜厚を有し、良好なパターニングが可能な、色変換基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - On that substrate 1S, a groove (trench) 6 is patterned which has a depth deeper than that of the p^--type well 3, and a secondary gate electrode 10G1 is provided inside the groove 6 via an insulating film 9.
その基板１Ｓには、深さがｐ^−型ウェル３より深い溝６（トレンチ）がパターニングされており、その溝６の内部に絶縁膜９を介して設けられた第２ゲート電極１０Ｇ１が設けられている。 - 特許庁 - The transparent electrode has a transparent area 52 and an uneven area 52b patterned into many islands and the reflecting electrode is formed on the inter-layer insulation films while being placed on the uneven area.
透明電極は、透過領域５２ａおよび多数の島状にパターニングされた凹凸領域５２ｂを有し、反射電極は、凹凸領域に重ねて層間絶縁膜上に形成されている。 - 特許庁 - A gate matallic layer is stacked on the dispersion mask and is patterned, so as to form a gate electrode 7 on the opening of the dispersion mask in a self-matching manner to the p+-type gate region 6.
その拡散マスク上からゲート金属層を堆積させ、これをパターニングすることにより拡散マスクの開口部にゲート電極７をｐ^+ 型ゲート領域６に対して自己整合的に形成する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a liquid crystal display with which an alignment layer aligned with liquid crystal molecules can be precisely patterned and formed at a desired pretilt angle on a plastic film.
プラスチックフィルムの上に、液晶分子が所望のプレチルト角をもって配向される配向膜を精度よくパターン化して形成できる液晶表示装置用電極基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method in which a protective insulating film (flattening film) formed on a pixel circuit can easily be patterned by dry etching, and a display device manufactured by the manufacturing method.
画素回路上に形成された保護絶縁膜（平坦化膜）をドライエッチングにより容易にパターニングすることができる製造方法、及び、該製造方法により製造された表示装置を提供する。 - 特許庁 - A film 2 one side of which has an uneven pattern part 3 is laminated on the surface of the patterned nonwoven fabric 1 impregnated with the resin so that the pattern part 3 contacts the nonwoven fabric 1.
この模様付けした樹脂含浸不織布１の表面に、片面が凹凸模様部３を有するフィルム２を凹凸模様部３側が樹脂含浸不織布１側となるようにして積層する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal device wherein an underground organic film is made not to be corroded by an organic solvent when a retardation layer is patterned on a substrate on which the organic film is formed and to provide a manufacturing method thereof.
有機膜が形成された基板に位相差層をパターニングする際に有機溶剤によって下地の有機膜が侵食されないようにした液晶装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - This sensor has a first substrate having a first driving pattern and a first pickup pattern on its upper and lower surfaces respectively, and magnetic bodies laminated upon the upper and lower surfaces of the first substrate and patterned in prescribed forms.
上下両面に第１ドライビングパターン及び第１ピックアップパターンが形成された第１基板と、該第１基板の上下両面に積層され、所定の形態にパターン化された磁性体が形成される。 - 特許庁
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