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＜前へ 1 2 .... 929 930 931 932 933 934 935 936 937 .... 999 1000 次へ＞- This wiring board manufacturing method comprises a first process of providing through-holes 1c to a sintered board 1 and wiring pattern grooves 1a and 1b to both the surfaces of the sintered board 1, a second process of filling the through-holes 1c and the wiring pattern grooves 1a and 1b with conductive paste M, and a third process of curing the conductive paste M.
焼結した基板１にスルーホール１ｃと、前記基板１の両面に配線パターン用の溝１ａ、１ｂを形成する工程と、前記スルーホール１ｃと配線パターン用の溝１ｂ、１ｃに導電ペーストＭを充填する工程と、前記導電ペーストＭを硬化させる工程とを有する配線基板の製造方法、によって解決される - 特許庁 - The method is provided with (a) a grinding process wherein a cylindrical sintered magnet is subjected to outer peripheral grinding with a coreless grinding machine, (b) an internal machining process forming a hole of arbitrary shape inside the rare earth sintered magnet subjected to the outer peripheral grinding by using wire electrical discharge machining, and (c) a cutting process slicing the cylindrical sintered magnet subjected to internal machining.
本発明方法は、（ａ）円筒状の焼結磁石を芯なし研削盤により外周研削する研削工程、（ｂ）外周研削した希土類焼結磁石の内部にワイヤ放電加工により任意形状の穴を形成する内面加工工程、（ｃ）内面加工した円筒状の焼結磁石をスライスする切断工程、を具備している。 - 特許庁 - The process for acquiring the backside layout data includes a process for detecting the light-emitting position of emission light 6 by a detector 7, which is generated by passing a forward current into a light-emitting device 5 that has a pn junction provided in the semiconductor chip, and a process for superposing the light-emitting position and the surface side layout data of the semiconductor chip.
また、裏面側レイアウトデータを得る工程は、半導体チップ内に設けられたｐｎ接合を有する発光素子５に順方向電流を流すことによって生じる発光光６の発光位置を検出器７によって検出する工程と、発光位置と半導体チップの表面側レイアウトデータとを重ね合わせる工程とを有する。 - 特許庁 - In conducting a film-forming process on a wafer W by introducing a film-forming gas containing SiH4 gas, O2 gas and Ar gas into a process chamber 2 while plasma is generated in the process chamber 2, SiH4 gas is fed only from a top nozzle 20, and O2 gas and Ar gas are fed from the top nozzle 20 and from a side nozzle 24.
処理チャンバ２内にプラズマを発生させた状態で、ＳｉＨ_4ガスとＯ_2ガスとＡｒガスとを含む成膜ガスを処理チャンバ２内に導入し、ウェハＷの成膜処理を行う場合、まず、ＳｉＨ_4ガスをトップノズル２０のみから供給すると共に、Ｏ_2ガス及びＡｒガスをトップノズル２０及びサイドノズル２４から供給する。 - 特許庁 - This method of manufacturing a thin-film electronic component is provided with a process of providing a dielectric layer 16 on a base material 10; a process of providing a first conductive layer 31 covering at least one part of the dielectric layer and having a first opening 50; and a process of forming a first through hole 52 piercing the base material and communicating with the first opening.
本発明に係る薄膜電子部品の製造方法は、基材１０上に誘電体層１６を設ける工程と、誘電体層の少なくとも一部を覆い、第１の開口５０を有する第１の導電層３１を設ける工程と、基材を貫通して第１の開口に連通する第１の貫通孔５２を形成する工程とを備えている。 - 特許庁 - This manufacturing method of a glass layer includes at least (I) a process for heat-treating a glass substrate having a copper electrode, (II) a process for forming a mixture layer containing (a) glass particles and (b) an organic resin binder on the heat-treated glass substrate having the copper electrode, and (III) a process for forming a glass layer by baking the mixture layer.
（I）銅電極を有するガラス基板を加熱処理する工程、（II）加熱処理した銅電極を有するガラス基板上に（ａ）ガラス粒子、及び、（ｂ）有機樹脂バインダを含有する混合物層を形成する工程、並びに、（III）前記混合物層を焼成してガラス層を形成する工程、とを少なくとも含むガラス層の製造方法。 - 特許庁 - A driving method of the liquid crystal display device comprises: a process of calculating a difference value between a number of gate lines and a number of the gate channels; a process of generating a gate shift clock signal including at least one dummy shift clock, based on the difference value; and a process of supplying gate pulses to the gate lines in accordance with the gate clock signal.
また、本発明の１つの実施の形態に係る液晶表示装置の駆動方法は、ゲートラインの本数とゲートチャンネルの個数の差分を演算するステップと、差分に基づいて少なくとも１つのダミーシフトクロックを含むゲートシフトクロック信号を生成するステップと、ゲートシフトクロック信号に従ってゲートラインへゲートパルスを供給するステップとを含む。 - 特許庁 - A method (60) for weighting projection data comprises: a process (62) of selecting a region (70) that includes a plurality of projection data samples; a process (64) of dividing the region into a plurality of equally sized sub-regions (74); and a process (66) of weighting the equally sized sub-regions using a location dependent z-smoothing weighting function.
投影データに加重する方法（６０）が、複数の投影データ・サンプルを含んでいる領域（７０）を選択する工程（６２）と、この領域を複数の等寸法の小領域（７４）に分割する工程（６４）と、これら等寸法の小領域に、位置依存型ｚ平滑化加重関数を用いて加重する工程（６６）とを含んでいる。 - 特許庁 - This method of manufacturing the semiconductor device includes: an application process of applying a liquid body used as a material of a metal terminal film 4 on a mounting substrate 2; a loading process of loading a semiconductor member on the mounting substrate 2 so that a connection terminal 5 of the semiconductor member contacts the liquid body applied on the mounting substrate 2; and a solidification process of solidifying the liquid body.
金属端子膜４の材料となる液状体を実装基板２上に塗布する塗布工程と、前記実装基板２上に塗布された前記液状体に半導体部材の接続端子５が接触するように、前記実装基板２の上に前記半導体部材を載置する載置工程と、前記液状体を固化する固化工程と、を含む。 - 特許庁 - The resources 4a to 4c comprise a termination procedure unit 5 in which the state of update process of each of the plurality of the resources 4a to 4c is collected by the termination procedure unit 5 and the termination procedure is performed after deciding commit or abort of the own update process from the state of the collected update process without depending on indication from the coordinator 3.
また、リソース４ａ〜ｃは、終了手続き部５を備え、この終了手続き５によって、複数のリソース４ａ〜ｃそれぞれの更新処理の状態を収集し、コーディネータ３からの指示によらずに、この収集した更新処理の状態から自身の更新処理のコミットまたはアボートを決定して終了手続きを行う。 - 特許庁 - There are provided a process where an island-like semiconductor film 3 is formed on a substrate 1, a process where the semiconductor film is covered with an isolation film 4 and the side surface of the semiconductor film is enclosed with a heat insulation film 5 via the isolation film, and a process where the semiconductor film is irradiated with energy beam from above for crystallization to form an operation semiconductor film 11.
基板１上に島状の半導体膜３を形成する工程と、半導体膜を分離膜４で覆い、半導体膜の側面を分離膜を介して保温膜５で囲む工程と、半導体膜に対して上面からエネルギービームを照射して半導体膜を結晶化し、動作半導体膜１１を形成する工程とを有している。 - 特許庁 - To provide a processing facility with process chambers wherein the delivery of a processed object or a processing object is performed with the outside of the processing facility and arranged along a physical distribution passage, and with a passage for workers through which the workers enter and leave from the process chambers provided adjacent, on a side face side opposite to the physical distribution passage in the process chambers.
処理設備の外部との間において被処理物や処理物の受け渡しを行う工程室を物流通路に沿って配置すると共に、当該工程室に作業者が出入りする作業者用通路をこの工程室における前記物流通路とは反対側の側面側に隣接して設けることのできる処理設備を提供する。 - 特許庁 - By carrying out a ticketing and ticket collecting process of canceling a settlement process of former detrainment when an occupant entrains again based upon certain conditions in railway tickets using an IC card and an on-vehicle non-contact automatic ticketing and ticket collecting machine mounted on a train, an accurate ticketing and ticket collecting process is provided and the users waiting for the train is provided with proper information.
ＩＣカードによる乗車券類と、列車に搭載される車載用非接触型自動改札機で再乗車時に前回降車時の精算処理を一定条件の元、キャンセルする出改札処理を行うことにより、正確な出改札処理を提供し、その際のデータから列車を待つ利用者に適切な情報を提供する。 - 特許庁 - The method of treating shredder dust is comprised of the process of classifying dust content including plastics, rubber and fibers as main components from the shredder dust, the process of heating and pressing the dust content and forming several kinds of solidified material groups, each having different means specific surface area or mean density and the process of feeding the solidified material groups in the mixed state in to a metal melting furnace.
シュレッダーダストからプラスチック類、ゴム類および繊維類を主体としたダスト分を選別する工程と、当該ダスト分を加熱圧縮して、比表面積ないし密度の平均値が異なる複数種の固化物群を成形する工程と、当該固化物群を混在させて金属溶解炉に投入する工程とを有している。 - 特許庁 - An image processing apparatus executes a region-dividing process to color image data divided into blocks of predetermined size (S1), and selects a three-color mode, when priority is given to gradation or selects a four-color mode, when priority is given to resolution as a color mode of a region averaging process which is a compressing process on the block, for each block (S2).
画像処理装置は、所定サイズのブロックに分割されたカラー画像データに対して領域分割処理を実行し（Ｓ１）、ブロックごとに、当該ブロックに対する圧縮処理である領域平均化処理の色モードとして、階調を優先する場合には３色モード、または解像度を優先する場合には４色モードを選択する（Ｓ２）。 - 特許庁 - The method for using the low grade iron scraps as the resources comprises; a high grade iron scrap manufacturing process for manufacturing the high grade iron scraps used as iron making raw material in a blast furnace iron making method from the low grade iron scraps; and a residue separating process for separating the residue in the high grade iron scrap manufacturing process into shape which can be used as the resource.
低品位鉄スクラップから高炉製鉄法の製鉄原料として利用可能な高品位鉄スクラップを製造する高品位鉄スクラップ製造工程と、その高品位鉄スクラップ製造工程での残渣を資源化可能な形態に分離する残渣分離工程とを備えていることを特徴とする低品位鉄スクラップの資源化方法。 - 特許庁 - The method for producing the biochip 1 is provided with a fine hole forming process for forming a fine hole 40 in a substrate 10; an immobilizing material bound process for bonding an immobilizing material 50 for immobilizing a target material 60 is to the fine hole 40; and an immobilization process for immobilizing the target material 60 on the immobilizing material 50.
本発明に係るバイオチップ１の作製方法は、基盤１０に、微細穴４０を形成する微細穴形成工程と、この微細穴４０に、ターゲット物質６０を固定化するための固定化物質５０を結合する固定化物質結合工程と、この固定化物質５０にターゲット物質６０を固定化する固定化工程と、を含んでいることを特徴とする。 - 特許庁 - The thick film conductor or the thick film resistor are formed by a coating process for applying the conductor paste or the resistor paste on the inside of the recess 4 and on the surface of the ceramic substrate by a screen printing method, a drying process for drying the applied conductor paste and resistor paste, and a baking process for baking the dried conductor paste or resistor paste.
厚膜導体や厚膜抵抗体は、スクリーン印刷法により導体ペーストや抵抗体ペーストを凹部４の内部およびセラミック基板表面上に塗布する塗布工程と、塗布した導体ペーストや抵抗体ペーストを乾燥する乾燥工程と、乾燥した導体ペーストや抵抗体ペーストを焼成する焼成工程とから形成される。 - 特許庁 - The method for producing the sweetened bean-jelly comprises a seasoning process of adding one by one to sweetened bean-jelly dough before solidification common salt and broth, or besides them, soy sauce, ginger and green laver and a filling process of pouring the sweetened bean-jelly dough obtained by finishing the seasoning process into the balloon container and blocking the opening part of the balloon container after pouring.
その製造方法は、固化前の羊かん生地に、食塩およびだし、または、これらのほかに、しょう油、生姜および青のりを順次添加してなる味付け工程と、風船容器に上記味付け工程を終了してなる羊かん生地を注入し、該注入後に風船容器の開口部を閉塞してなる充填工程とを有する。 - 特許庁 - To provide a method for obtaining a component with a large expansion rate in one process without applying a drawing process of a tube end and process annealing, in hydroforming equipment and a hydroforming method by which a tube is processed into a predetermined shape while pushing a tube end portion into a tube axis direction by holding the tube in a die and applying internal pressure in the tube.
管を金型内に収容し，管内に内圧をかけて管端部を管軸方向に押し込みつつ所定の形状に加工するハイドロフォ−ム加工装置及び加工方法において，管端の絞り工程や中間焼きなまし処理を必要とせずに，大きな拡管率を有する部品を１工程で得られるハイドロフォ−ム加工方法を提供する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the speaker diaphragm comprises a forming process which forms the first formed object and the second formed object with the textile fabrics that are knitted with warps and wefts, and a stacking process which stacks the first formed object and the second formed object formed in the forming process while keeping an angle between both knitting directions to a predetermined one.
スピーカ振動板の製造方法は、縦糸と横糸とで編み込まれた織布から第１の成型体および第２の成型体を成型する成型工程と、成型工程にて成型された第１の成型体および第２の成型体を、編み込み方向が所定の角度傾くようにして重ね合わせる重ね合わせ工程とを有する。 - 特許庁 - The foams are pulverized by a selective pulverizing process step for obtaining primarily crushed matter C of the foams by selectively and primarily crushing the foams in the mixtures A including the foams, a separating process step for separating the primarily crushed matter C of the foams and foreign matter pieces E and a fine grinding process step for obtaining the fine powder D of the foams by finely grinding the separated primarily crushed matter C of the foams.
発泡体を含む混合物Ａ中の発泡体を選択的に粗粉砕して発泡体粗砕物Ｃを得る選択粉砕工程と、発泡体粗砕物Ｃと異物片Ｅとを分離する分離工程と、分離された発泡体粗砕物Ｃを微粉化し、発泡体微粉末Ｄを得る微粉化工程とにより、発泡体を粉砕する。 - 特許庁 - The discharge method of the residual material includes steps of: stirring the powder with this mixing device 1; discharging the stirred powder in a first discharge process; and thereafter discharging the residual material still remaining in the mixing tank 2 in a second discharging process by increasing the rotation rate R2 of the rotary blade 4 with respect to the rotation rate R1 of the rotary blade 4 in the first discharge process.
この混合装置１を用いて、粉体を攪拌し、第１排出工程においてその攪拌された粉体を排出した後に、第２排出工程において混合槽２にまだ残存する残粉体を、回転羽根４の回転速度Ｒ２を第１排出工程における回転羽根４の回転速度Ｒ１に対して増加させることにより、排出する。 - 特許庁 - A temperature variation amount-calculating part 33 sets the time process data at the time point which is at least one point before, for example, as a reference temperature for calculating a difference relative to the reference temperature for each time process data, as a prescribed processing for calculating a time variation amount of temperature, with the time process data outputted from the time direction data-processing part 32.
温度変化量算出部３３は、時間方向データ処理部３２から出力される時間処理データに対して、温度の時間変化量を算出する所定の処理として、例えば１ポイント以前の時間のポイントでの時間処理データを基準温度に設定し、基準温度に対する差を各時間処理データ毎に算出する。 - 特許庁 - The manufacturing method for the brush comprises a bristle bundle insertion process inserting the bristle bundle 3 into implantation holes 24 formed on an implantation base part 22 having a plurality of implantation holes 24, a heating process forming the end parts 31 of the bristle bundle 3 protruding from the implantation holes 24 into molten lumps 32 by heating, and a covering process covering the molten lumps 32.
複数の植毛孔２４を有する植毛基部２２の植毛孔２４に用毛束３を挿入する用毛束の挿入工程と、植毛孔２４から突出する用毛束３の片端部３１を加熱して溶融塊３２を形成する熱加工工程と、溶融塊３２を被覆する被覆工程とを具備するブラシの製造方法である。 - 特許庁 - At this time, when a restart button 20 is specified and clicked by the mouse pointer 12 in the input window 13, for example in a case that a "B process" is specified by the mouse pointer 12, a "B process 2" surrounded by a rectangular flowchart symbol is added and inserted immediately after the "B process", and is displayed again in the flowchart 11 displayed on the display 3.
このとき、その入力ウインドウ１３において、やり直しボタン２０をマウス・ポインタ１２で指定してクリックすると、ディスプレイ３に表示されたフローチャート１１について、例えば、「Ｂ工程」をマウス・ポインタ１２で指定していた場合には、「Ｂ工程」の直後に、長方形のフローチャート記号で囲まれた「Ｂ工程２」が追加挿入された状態に表示し直される。 - 特許庁 - To provide a surface treatment agent for a freezing process that meets the requirement that (1) the line width of a first resist pattern does not fluctuate and (2) the line edge roughness (LER) of the first resist pattern does not deteriorate, by a freezing process in a freezing process that is applied to the first resist pattern in a double patterning method, and a pattern forming method using it.
ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理によって、（１）第一のレジストパターンの線幅が変動しない、（２）第一のレジストパターンのラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が悪化しない、という要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - A resin film gettering capability evaluation method according to the present invention comprises: a process of forming the resin film on one surface of a silicon wafer; a process of heating a laminate of the resin film and the silicon wafer to a temperature of 200°C and over; and a process of determining a quantity of a heavy-metal element in a surface layer on the other surface side of the silicon wafer.
本発明に係る樹脂膜のゲッタリング性能の評価方法は、 該樹脂膜をシリコンウエハの片面に形成する工程、 該樹脂膜とシリコンウエハとの積層体を２００℃以上に加熱する工程、および 該シリコンウエハの他面側の表面層における重金属元素量を定量する工程を含むことを特徴としている。 - 特許庁 - Accordingly, even if the peeling 40 of interlayer film is generated due to weakness in the strength of close contact with a stopper material 13 of the low-k film 14 and damage 30 by the dicing process not only in the assembling process but also in the processes after the assembling process, growth of peeling 40 of the interlayer film can be prevented with the reinforcing pattern 20.
これにより、アセンブリ時のみでなく、組み立て工程以降において、ｌｏｗ−ｋ膜１４のストッパー材１３との密着強度の弱さやダイシングによるダメージ３０に起因する層間膜剥がれ４０が発生したとしても、補強パターン２０によって層間膜剥がれ４０が進行するのをくい止めることが可能な構成となっている。 - 特許庁 - After carrying out an interface process 3 to form an interface layer 12 on the surface of a shaped textile fabric 11, PIP process 4 and CVI process 5 are alternately carried out several times, and a laminated matrix 15, consisting of PIP matrix layer 13 and CVI matrix layer 14 alternately built up in between the gaps of the interface layer 12 on the surface of the textile, is formed.
成形した繊維織物１１の表面にインターフェース層１２を形成するインターフェース工程３を行った後に、ＰＩＰ工程４とＣＶＩ工程５を交互に複数回行い、繊維表面のインターフェース層１２の隙間にＰＩＰマトリックス層１３とＣＶＩマトリックス層１４が交互に積層した積層マトリックス１５を形成する。 - 特許庁 - To provide a clean unit-process device fusion system capable of easily achieving not only dehumidification and oxidation prevention but also dust-proofing and dust removal at low cost for a load lock used in taking samples in and out of a process device such as a vacuum device or a thin-film growth device, so that the load lock can easily be placed on a series of production process lines.
真空装置や薄膜成長装置等のプロセス装置において、試料の出し入れに用いるロードロックに、水分除去および酸化防止のみならず、防塵および脱塵を、低コストで簡便に実行することができ、一連の生産プロセスラインに容易に乗せることができるクリーンユニット−プロセス装置融合システムを提供する。 - 特許庁 - The manufacturing method comprises a process in which the photosensitive resin film 2 is adhered to the top face of ribs 13 in a state to cover the dielectric layer 12 of the rear substrate 1, a process in which openings 21 for applying the phosphor paste 4 on the photosensitive resin film 2 are formed, and a process in which the phosphor paste 4 is applied from the openings 21.
感光性樹脂フィルム２を、背面基板１の誘電体層１２を覆うように、リブ１３の上面と接着させる工程と、感光性樹脂フィルム２に蛍光体ペースト４を塗り込むための開口部２１を形成する工程と、この開口部２１から、蛍光体ペースト４を塗り込む工程と、を有する方法としてある。 - 特許庁 - The manufacturing method of the stacked conductive material 100 comprises a web forming process A of forming a belt-like web 5 from mixed cotton 1 containing a fiber for matrix, a folding process B of repeatedly folding the web 5 in the longitudinal direction and making a stacked body 6 of which the faces are overlapped on one another from the folded web, and a calcining process of calcining the stacked body 6.
本発明は、母材用繊維を含む混合綿１から帯状のウェブ５を形成するウェブ形成工程Ａと、ウェブ５を長手方向に繰り返し折畳んで面同士を重ね合わせた重畳体６とする折畳み工程Ｂと、重畳体６を焼成する焼成工程と、を備える重畳導電材１００の製造方法である。 - 特許庁 - The laminate composed of the dielectric layer and the metallic tin-film layer is manufactured by using a process in which a resin material is attached and the dielectric layer is formed, a process in which a patterning material is attached on the dielectric layer in a beltlike manner, and a process in which the metallic thin-film layer is laminated as one unit and repeating the processes in fixed numbers.
樹脂材料を付着させて誘電体層を形成する工程と、前記誘電体層上にパターニング材料を帯状に付着させる工程と、金属薄膜層を積層する工程とを一単位とし、これを所定の回数繰返すことにより、誘電体層と金属薄膜層とからなる積層体を製造する。 - 特許庁 - When the process relating to the predetermined action does not match the process by the operation of the key input section 9, the control section 6 adds to a total addition point an addition point corresponding to a process relating to the predetermined action, which has not been matched and when the total addition point after the addition is equal to or higher than a threshold point, it is decided that the user is not authorized.
制御部６は、前記所定の動作に係る手順と、キー入力部９の操作による手順とが一致しない場合に、一致しなかった前記所定の動作に係る手順に対応する加算ポイントを合計加算ポイントに加算し、加算後の合計加算ポイントが閾値ポイント以上の場合に、使用者が正規ユーザではないと判断する。 - 特許庁 - Accordingly, a process of forming the infrared absorbing plate 105 and a process of sticking a first and second birefringent plates 102, 103 to the infrared absorbing plate 105 are united into one process and the manufacture of a large-sized optical low-pass filter 100 of a four-point separation type can be performed conveniently to permit the formation of the infrared absorbing plate 105 having a uniform thickness.
したがって、赤外線吸収板１０５を形成する工程と、第１および第２複屈折板１０２，１０３と赤外線吸収板１０５とを貼り合わせる工程とが一つの工程にまとめられ、４点分離型の大判の光学ローパスフィルタ１００の製造を簡便にでき、均一な厚みの赤外線吸収板１０５を形成できる。 - 特許庁 - Manufacture of a gear rotor comprises a sintering process wherein by sintering a gear rotor molded product formed of green aluminum powder, a gear rotor sintered substance is formed, a hot compression process wherein the gear rotor sintered substance is inserted in a mold having the shape of a gear rotor and a gear rotor is sintered through hardening under pressure; and a mold release process wherein the gear rotor is taken out from a mold.
圧粉成形されたアルミニウム粉末からなるギアロータ成形体を焼結することにより、ギアロータ焼結体を形成する焼結工程と、このギアロータ焼結体をギアロータの形状を有する金型に挿入し加圧固化してギアロータを焼成する温間圧縮工程と、そのギアロータを金型から取出す離型工程とを備えている。 - 特許庁 - This manufacturing method comprises a process preparing raw material glass, having the characteristics of a strain point of 550°C or higher and a liquid phase temperature of 1150°C or lower, a process drawing and molding the raw material glass, in the condition that a devitrified crystal with a major axis of 1 μ or more does not deposit in glass, and a process cutting the drawn glass molded body glass.
歪点が５５０℃以上、液相温度が１１５０℃以下の特性を有する素材ガラスを準備する工程と、長径１μｍ以上の失透結晶がガラス中に析出しない条件で素材ガラスを延伸成形する工程と、延伸されたガラス成形体ガラスを切断する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁 - Thus, the sub control part 106 compares whether or not the content of a performance control process instructed by a performance specifying command and the content of the performance control process specified from the feedback command match on the basis of the feedback command, and determines whether or not the performance control process specified from the sub control part 106 is executed in the performance control part 110.
これにより、サブ制御部１０６は、フィードバックコマンドに基づいて、演出指定コマンドで指示した演出制御処理の内容とフィードバックコマンドから特定される演出制御処理の内容とが一致するか否かを比較して、サブ制御部１０６から指定した演出制御処理が演出制御部１１０で実行されているか否かを判断する。 - 特許庁 - The manufacturing method comprises a primary process in which a straight glass tube 1 is processed to make its both ends standing on different levels in a single spiral structure, with a process of forming a phosphor membrane in which the phosphor membrane is formed inside of a spiral glass tube 6, and a secondary process in which the spiral glass tube that has the phosphor membrane is processed to become circular in the same plane.
直管状ガラス管１を、その両端部が段違いになるように一重の螺旋状に加工する１次加工工程と、螺旋状ガラス管６の内面に蛍光体膜を形成する蛍光体膜形成工程と、蛍光体膜を形成した螺旋状ガラス管を、同一平面に沿った環状に加工する２次加工工程とを含んでいる。 - 特許庁 - The classifying counting method of leucocytes is constituted of processes that includes (1) a process for treating the hematologic specimen with a hemolytic agent for dissolving the blood erythrocyte; (2) a process for measuring at least the scattering light by introducing the processed specimen into the flow sight meter; (3) a process for classifying the aggregation of platelet and the leucocytes, by utilizing the difference of width of the forward scattering.
白血球の分類計数方法は、（１）血液学的試料を、赤血球を溶解させるための溶血剤によって処理する工程、（２）処理された試料をフローサイトメータに導入して、少なくとも散乱光を測定する工程、（３）前方散乱光幅の差を利用して、血小板凝集と、白血球とを分類する工程からなる。 - 特許庁 - The manufacturing method has a first working process in which a nozzle plate constituting member with the water repellent film 2 of at least one or more layers set on the base 1 is worked from the base 1 side, and the base material 1 is mainly etched; and a second working process in which the water repellent film 2 is mainly etched with the use of plasma having oxygen after the first working process is finished.
基材１上に少なくとも１層以上からなる撥水膜２を有するノズルプレート構成部材を、基材１側から加工するとともに、主に基材１をエッチングする第１の加工工程と、第１の加工工程終了後、主に上記撥水膜２を酸素を有するプラズマを用いてエッチングする第２の加工工程を備える。 - 特許庁 - This circuit board is formed by using a manufacturing method constituted of a process for forming a through-hole 13 in a sheet 11 constituted of heat hardening resin and non-organic filler in a state that the heat hardening resin is put in a non-hardened state, a process for packing solvable ink 14 in the through-hole 13, and a process for hardening the solvable ink 14.
熱硬化性樹脂と無機フィラーからなる前記熱硬化性樹脂の未硬化状態におけるシート１１にスルーホール１３を形成する工程と、前記スルーホール１３に溶解型インク１４を充填する工程と、前記溶解型インク１４を硬化させる工程を有する製造方法を用いて回路基板を形成する。 - 特許庁 - The sintering process is composed of a first process of keeping the molded body 20 in a temperature range of from 700°C to 1000°C for 10 to 420 minutes, and a second process of sintering the molded body 20 in a temperature range of from 1000 to 1200°C, where the sintered rare earth magnet is set to be 3 to 9 μm in average crystal grain diameter.
焼結工程は、７００℃以上１０００℃以下の温度範囲に１０分以上４２０分以下の時間だけ保持する第１工程と、１０００℃以上１２００℃以下の温度範囲で焼結を進行させる第２工程とを含み、焼結後の希土類磁石の平均結晶粒径を３μｍ以上９μｍ以下とする。 - 特許庁 - A photocatalyst is produced by a first process for reacting a titanium alkoxide with a polycarboxylic acid, a second process for adding a polyol and a polyamine or either one of them to the reaction product of the titanium alkoxide and the polycarboxylic acid and a third process for baking the reaction product of the titanium alkoxide and the polycarboxylic acid.
光触媒の製造方法において、第１の工程として、チタンアルコキシドとポリカルボン酸との反応工程と、第２の工程として、チタンアルコキシドとポリカルボン酸との反応物にポリオールおよびポリアミンあるいはずれか一方の化合物を添加する工程と、第３の工程として、チタンアルコキシドとポリカルボン酸との反応物を焼成する工程とを含む。 - 特許庁 - The method for preparing the photocatalyst comprises a first process wherein a photocatalyst coat is formed by coating a photocatalyst coating liquid on the substrate and a second process wherein a photocatalyst film is formed by forcing the undried photocatalyst coat prepared in the first process to dry and calcining it by blowing hot air thereon.
また、光触媒体の製造方法は、基体の表面に光触媒塗布液を塗布して光触媒塗布膜を形成する第１の工程と、第１の工程により形成された未乾燥状態の光触媒塗布膜に熱風を吹き付けて強制乾燥を行うとともに焼成して光触媒膜を形成する第２の工程とを具備している。 - 特許庁 - This extraction method of S-adenosylmethionine contained in sake lees includes: a process for preparing a composition containing sake lees and vinegars derived from brewing by mixing sake lees with vinegars derived from brewing; and a process for obtaining extract containing S-adenosylmethionine by removing solid matter in the composition obtained in the above process.
清酒粕に含まれるS-アデノシルメチオニンの抽出方法であって、清酒粕と醸造に由来する酢類とを混合して清酒粕と醸造に由来する酢類とを含む組成物を調製する工程、及び上記工程により得られた組成物中の固形分を除去してS-アデノシルメチオニンを含む抽出物を得る工程を含む方法。 - 特許庁 - This method for removal of organic chlorine compounds from wastewater containing them is characterized by a process to add a flocculant to wastewater, which is to add to wastewater a flocculant capable of adsorbing organic chlorine compounds, and a process to remove such flocks made by the addition of the flocculant in the flocculant addition process.
有機塩素化合物を含む排水から有機塩素化合物を除去する方法であって、有機塩素化合物の吸着能を有する凝集剤を排水に添加する凝集剤添加工程と、前記凝集剤添加工程で凝集した凝集物を除去する凝集物除去工程とを含むことを特徴としている。 - 特許庁 - This water treatment system of water purification by ultraviolet irradiation comprises: a former stage ultraviolet irradiation device 5 irradiating ultraviolet in a former process of the water purification process; a latter stage ultraviolet irradiation device 10 irradiating ultraviolet in a latter process; and a controller 14 controlling these ultraviolet irradiation devices.
紫外線照射により浄水処理を行う水処理システムにおいて、浄水処理工程の前段工程で紫外線を照射するための前段紫外線照射装置５と、後段工程で紫外線を照射するための後段紫外線照射装置１０と、これらの紫外線照射装置を制御するコントローラ１４とを備えた構成である。 - 特許庁 - In the method of manufacturing the compound semiconductor board having the pn junctions using the epitaxial growth method including the selective growth process, the maximum temperature of the epitaxial growth processes after the selective growth process is made lower than that of the entire epitaxial growth processes before the selective growth process.
選択成長工程を含むエピタキシャル成長法により、ｐｎ接合を有する化合物半導体基板を製造する方法において、選択成長工程より前のすべてのエピタキシャル成長工程における最高温度より、該エピタキシャル成長工程より後の工程における最高温度を低くすることを特徴とする化合物半導体基板の製造方法。 - 特許庁
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