To provide an SOI substrate which has a uniform film thickness distribution on a surface of a semiconductor activelayer. 半導体活性層表面の膜厚分布が均一なSOI基板を提供する。 - 特許庁
To prevent a short-circuit between a negative electrode active material mixture layer and a positive electrode metal exposed portion. 負極活物質合剤層と正極金属露出部との短絡を防止する。 - 特許庁
Next, an electrode for a battery is formed by layering an active material layer on the current collector. 次に、この集電体の上に活物質層を積層し、電池用電極を形成する。 - 特許庁
A silicon mixed crystal layer 21 generates stress to a channel region of the active region. シリコン混晶層21は、活性領域のチャネル領域に対して応力を生じさせる。 - 特許庁
Supports 2, 2 are formed on the side of a ridge 1 located above an activelayer 14. 活性層14の上方に位置するリッジ1の側方にサポート2・2を形成する。 - 特許庁
To prevent an activelayer from being damaged and sticking impurities in a semiconductor laser apparatus. 半導体レーザ製造における活性層へのダメージおよび不純物付着を防止する。 - 特許庁
To obtain a technique necessary for purifying an interface between an activelayer and an insulated film. 活性層と絶縁膜との界面を清浄化するために必要な技術を提供する。 - 特許庁
Next, a porous film 3 is formed on the collector 1 so as to cover the active material layer 2. 次に、集電体1上に活物質層2を覆うように多孔膜3を形成する。 - 特許庁
The light emitting diode is provided with a plurality of laminated semiconductors 10 including an activelayer 4 on a substrate 1. 基板1上に、活性層4を含む積層半導体10を複数有する。 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING ACTIVE ENERGY RAY CURABLE RESIN LAYER, AND HARD COATED FILM AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME 活性エネルギー線硬化樹脂層の製造方法、ハードコートフィルムおよびその製造方法 - 特許庁
The activelayer is patterned so as to make it possible to access the first sacrificial material. 活性層は、第1の犠牲材料にアクセスすることを可能にするようにパターニングされる。 - 特許庁
A negative electrode active material layer 12 containing Si is formed on a negative electrode current collector 11. 負極集電体11にSiを含む負極活物質層12が設けられている。 - 特許庁
A negative electrode active material layer 12 containing Si is provided in a negative electrode collector 11. 負極集電体11にSiを含む負極活物質層12が設けられている。 - 特許庁
To improve carrier injection efficiency from an electrode to an activelayer in an organic FET. 有機FETにおいて、電極から活性層へのキャリア注入効率を向上させること。 - 特許庁
An activelayer 17 is formed on the GaN-based based semiconductor epitaxial region 15. GaN系半導体エピタキシャル領域15上には、活性層17が設けられる。 - 特許庁
Therefore, the lowering can be suppressed in the efficiency of the current injection performed to a MQW activelayer 4. 従って、MQW活性層4への電流注入効率低下を抑制することができる。 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING THIN-FILM TRANSISTOR HAVING TITANIUM OXIDE AS ACTIVELAYER, AND STRUCTURE THEREOF 酸化チタニウムを活性層として有する薄膜トランジスタの製造方法およびその構造 - 特許庁
The band gaps of the lower and upper clad layers are larger than that of the activelayer. 下部クラッド層及び上部クラッド層のバンドギャップが活性層のバンドギャップよりも大きい。 - 特許庁
An electrode structure 7 is also obtained by forming an active material layer 9 in the collector 1. また、集電体1に活物質層9を形成して電極構造体7とする。 - 特許庁
To provide a new compound giving a thin film of an organic semiconductor activelayer. 有機半導体活性層の薄膜を与え得る新規な化合物が求められている。 - 特許庁
The metallic reflection film 19 reflects light L1 generated in the activelayer 9. 金属反射膜19は、活性層9において発生した光L1を反射する。 - 特許庁
The floating diffusion layer is formed in the active region between the transfer gate and the reset gate. トランスファゲート及びリセットゲートの間の活性領域内に浮遊拡散層を形成する。 - 特許庁
An insulative soft-magnetic material layer A is formed between the wiring substrate and the active device. 配線基板と能動素子との間には絶縁性軟磁性体層Aが形成されている。 - 特許庁
Preferably, the ink reception layer contains a surface active agent having an HLB value of 3-8. 好ましくはインク受容層がHLB価3〜8の界面活性剤を含有する。 - 特許庁
Then, the semiconductor film 100 is used as an activelayer for forming a TFT. そして、この半導体膜100を能動層として用いてTFTを形成する。 - 特許庁
With the resist pattern as a mask, impurities are subjected to ion implantation to the surface layer of the active region. レジストパターンをマスクとして活性領域の表層部に不純物をイオン注入する。 - 特許庁
ACTIVE CARBON ELECTRODE AND ITS MANUFACTURING METHOD, ELECTRIC DOUBLE-LAYER CAPACITOR, AND HYBRID CAPACITOR 活性炭電極及びその製造方法並びに電気二重層キャパシタ及びハイブリッドキャパシタ - 特許庁
The negative electrode comprises a collector and a negative electrode active material layer containing Si or Sn. 負極が、集電体とSi又はSnを含む負極活物質層を有している。 - 特許庁
THIN LAYER TRANSISTOR, ACTIVE MATRIX DISPLAY DEVICE USING IT, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE 薄層トランジスタ、それを用いたアクティブマトリックス型表示装置、及び、液晶表示装置 - 特許庁
Thus, a TFT which uses the semiconductor film as an activelayer is reliable. それ故、この半導体膜を能動層として用いたTFTの信頼性が高い。 - 特許庁
LAMINATED STRUCTURE FOR PROTECTIVE CLOTHING HAVING ACTIVE CARBON NANO FIBROUS LAYER AND PROTECTIVE CLOTHING 活性炭ナノ繊維層を有する防護衣類用の積層構造体および防護衣類 - 特許庁
Thus, a deviation of a distribution of holes in the InGaAsP activelayer 3 can be mitigated. これにより、InGaAsP活性層3内部の正孔の分布の偏りを緩和することができる。 - 特許庁
The photosensitive layer is formed of a photopolymerizable composition including a surface-active agent. この感光層は、界面活性剤を含む光重合性組成物により形成されている。 - 特許庁
The active material layer is further filled with a solid electrolyte. さらに、当該活物質層には、固体電解質が充填されている点に特徴を有する。 - 特許庁
The junction A is placed in the vicinity of the activelayer 3 within 3 μm for example. 接合部Aは、活性層3の近傍、例えば3μm以内に配置されている。 - 特許庁
The first layer 12A contains an element or an alloy of Si as a negative electrode active material. 第1層12Aは、負極活物質としてケイ素の単体または合金を含んでいる。 - 特許庁
A tin oxide layer is formed on a surface of the active material thin film. 活物質薄膜の表面に酸化錫層が形成されていることを特徴としている。 - 特許庁
As a result, the flatness of the surface of the activelayer 11 is improved in a short time. その結果、短時間で活性層11の表面の平坦性を高めることができる。 - 特許庁
To provide a group-III nitride semiconductor optical element capable of reducing strain of an activelayer. 活性層の歪みを低減可能なIII族窒化物半導体光素子を提供する。 - 特許庁
The negative electrode 10 has a negative current collector and a negative active material layer 12. 負極10は、負極集電体11と負極活物質層12とを有している。 - 特許庁
The anode 10 has an anode current collector 11 and an anode active material layer 12. 負極10は、負極集電体11と負極活物質層12とを有している。 - 特許庁
ACTIVE ENERGY RAY-CURABLE RESIN COMPOSITION FOR WATER- BASED INK RECEIVING LAYER, AND PRINTING BASE MATERIAL 水性インク受容層用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物および印刷基材 - 特許庁
ACTIVE ENERGY RAY-CURABLE RESIN COMPOSITION FOR FILM PROTECTIVE LAYER, AND FILM USING THE SAME フィルム保護層用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物及びこれを用いたフィルム - 特許庁
The activelayer 21 is optically coupled to the distribution feedback type diffraction grating 23. 分布帰還型回折格子23には、活性領域21が光学的に結合されている。 - 特許庁
The optical sensor is formed monolithically on a base substrate constituting the active matrix layer 2. 光センサは、アクティブマトリクス基板2を構成するベース基板上にモノリシックに形成される。 - 特許庁
The negative electrode active material layer 7 contains alloy particles 7a of lithium and an alkaline earth metal. 負極活物質層7は、リチウムとアルカリ土類金属との合金粒子7aを含む。 - 特許庁
The activelayer 15 is made of III-V group compound semiconductor containing Al in its composition. 活性層15は、組成中にAlを含むIII−V族化合物半導体からなる。 - 特許庁
The switching layer 4 is formed of an organic high polymer having an oxidation-reduction active region. スイッチング層4は酸化還元活性部位を有する有機高分子から形成した。 - 特許庁
An activelayer 17 is provided on the GaN-based semiconductor epitaxial region 15. GaN系半導体エピタキシャル領域15上には、活性層17が設けられている。 - 特許庁
An activelayer 4 is provided on a first main surface 2a of the semiconductor substrate 2. 半導体基板2の第1の主面2aには活性層4が設けられている。 - 特許庁