The method for incorporating the identification error information in a disk (6)carrying data manufactured directly or indirectly from a master produced by a manufacturing processcontrolled by a processing means (34) is provided. 処理手段(34)により制御された製造プロセスにより生産されたマスタから直接的または間接的に物理的に製造されたデータを担うディスク(6)に識別エラー情報を組み込む方法である。 - 特許庁
To provide a piezoelectric transformer type high-voltage power supply device which can be controlled at a high resolution without using an integrated circuit of a fine process rule, in the digital control of a piezoelectric transformer. 圧電トランスのデジタル制御において、微細化されたプロセスルールの集積回路を用いずに高い分解能で制御することが可能な圧電トランス式高圧電源装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
In a process of forming a first conductive wiring layer 11A by etching the first thin conductive film 11, an etching depth can be controlled by stopping etching with the third conductive film 13. 第1の導電膜11をエッチングすることにより導電配線層11Aを形成する工程では、第3の導電膜13でエッチングがストップすることにより、エッチングの深さを制御することができる。 - 特許庁
In the process of mounting the semiconductor device on the wiring substrate, the interval between the wiring substrate 50 and the semiconductor chip 10 is controlled, based on the light reflected by the semiconductor device 1 and transmitted through the wiring substrate. 半導体装置を配線基板に搭載する工程では、半導体装置1で反射して配線基板を透過した光に基づいて、配線基板50と半導体チップ10との間隔を制御する。 - 特許庁
To provide a process for producing a water-absorbing polymer having a controlled water content that can efficiently prepare a water-absorbing polymer having a water content adequate to exhibit good characteristics. 良好な特性を示すのに好適な水分含有量を有する吸水性重合体を効率よく調製し得る、水分含有量が制御された吸水性重合体の製造方法を提供する。 - 特許庁
The pattern density PD in the drawing region is calculated based on the drawing data of the reticle pattern and the heating energy on the chemically amplifying resist film in the PEB treatment process is controlled based on the pattern density. レチクルパターンの描画データに基づいて、描画領域のパターン密度PDを算出し、該パターン密度に基づいてPEB処理工程における化学増幅型レジスト膜への加熱量を調節する。 - 特許庁
The positions and growth directions of the carbon nanotubes 1 to be synthesized starting at the exposed surfaces of the catalytic layers 4 are controlled by changing the positions and directions in the exposed surface formation process. 触媒層4の露出面を形成する位置及び方向を変更することにより、この露出面を成長起点として合成されるカーボンナノチューブ1の位置及び成長方向を制御する。 - 特許庁
To reduce a burden of reference electric energy setting process by an operator by setting adequate reference electric energy as needed, and adequately reduce consumed electric energy of a controlled device. 適切な基準電力量を随時設定して操作者による基準電力量設定処理の負担を軽減し、被制御装置の消費電力量を適切に低減することを可能とすること。 - 特許庁
To provide a method by which the shape (morphology) of the growth surface of a diamond can be easily controlled when a diamond single crystal is grown on a diamond substrate by a microwave plasma CVD process. マイクロ波プラズマCVD法によってダイヤモンド基板上にダイヤモンド単結晶を成長させる際に、ダイヤモンドの成長面の形状(モフォロジー)を簡単に制御できる方法を提供する。 - 特許庁
It is preferable that the quantity of the cleaning gas to be introduced into the tank in the cleaning process is controlled to 1.5-7.5 times of the volume of the adsorbent in the tank expressed in terms of ordinary temperature and atmospheric pressure. 好ましくは、洗浄工程において槽内に導入される洗浄ガスの量を、常温・大気圧に換算して、当該分離槽内における吸着剤の容積の1.5〜7.5倍とする。 - 特許庁
The composition of powder based nonmetallic inclusions in controlled so as to contain 1 to 5% MnO, 1 to 10% Al_2O_3 and 5 to 20% Na_2O so that the inclusions can be sufficiently crushed in a wire drawing process. パウダー系の非金属介在物の組成をMnO:1〜5%、Al_2O_3:1〜10%、Na_2O:5〜20%含むように制御し、介在物の伸線過程における破砕性を確保する。 - 特許庁
Atmospheric gas 7, introduced into a processing chamber 1, is controlled so as to realize quick rise or quick drop in the temperature, and especially, a cooled gas is introduced into the processing chamber 1 in a temperature drop process. 高速昇降温を実現するため処理室1に導入する雰囲気ガス7の温度調節を行って、とくに降温過程において冷却したガス7をチャンバーに導入できるようにする。 - 特許庁
A washing and dehydrating tub holding laundry is housed inside a receiving vessel freely rotationally and rotationally driven by a motor 9, and a series of process of washing, rinsing, and dehydrating processes are controlled by a control means 14. 洗濯物を収容する洗濯兼脱水槽を受け槽に回転自在に内包してモータ9により回転駆動し、制御手段14により、洗い、すすぎ、脱水などの一連の行程を制御する。 - 特許庁
That is, the process from the boosting to pressure reduction in the fuel pressure control can be controlled with the control flow rate characteristics for one driving amperage, so that the pressure controllability of the ECU can be enhanced. すなわち、燃料圧力制御の昇圧から減圧までを、1つの駆動電流値に対する制御流量特性で制御できるので、ECUの圧力制御性を向上することができる。 - 特許庁
In the notifying sound output process, a speaker driving circuit 43 is controlled by a CPU 31 to output notifying sounds A-D according to the kind of the small award hitting flag from a speaker 39. この報知音出力処理では、スピーカ駆動回路43がCPU31によって制御され、スピーカ39から小当たり入賞当選フラグの種類に応じた報知音A〜Dが出力させられる。 - 特許庁
Various application systems, a network system, a communication process conducting a data communication, a device configuring a system and an infrastructure such as a cable, radio waves or the like are used as the systems to be stopped, and these stops are controlled. 各種のアプリケーションシステム、ネットワークシステム、データ通信を行う通信プロセス、システムを構成する装置及びケーブルや電波などのインフラを停止対象システムとし、それらの停止を管理する。 - 特許庁
Capacities of a first and a second hydraulic motor 23, 24 are cooperatively controlled and the minimum inclination rolling quantity of the hydraulic motor 24 is limited to limited inclination rolling quantity q2cmin during four speed transmission control process. 4速変速制御処理時、第1及び第2油圧モータ23,24の容量を連携して制御するとともに、第2油圧モータ24の最小傾転量を制限傾転量q2cmiに制限する。 - 特許庁
The start order levels of application processes(AP) 110, 210 and 310 whose start order should be controlled are preliminarily set, and registered in start process management files 130, 230 and 330. 起動の順序制御が必要な各アプリケーションプロセス(AP)110、210及び310について予め起動順序レベルを設定し、起動プロセス管理ファイル130、230及び330に登録する。 - 特許庁
In the case that the same information or the similar information is present, the image processing part 106 is controlled so as to process the fetched images by the image quality adjusting condition stored in the storage 113. 同じ情報又は近似する情報が存在する場合には、取り込んだ画像を記憶113に記憶される画質調整条件で画像処理するように画像処理部106を制御する。 - 特許庁
The washing machine 200 is controlled such that the amount of mist in a unit time fed by a mist generator 100 (a mist generating means) in a washing step is more than in a drying process in mist generating periods. 洗濯機200では、洗い工程の方が、乾燥工程よりも、ミスト発生期間においてミスト生成器100(ミスト発生手段)が単位時間当たりに供給するミストの量が多く制御される。 - 特許庁
To provide a recycling method in a converter process with which slag amount for recycling after decarburizing is controlled and the amount is accurately grasped at the right amount and the control of dephosphorization refining is not deteriorated. 転炉製鋼法で、脱炭後のリサイクルするスラグ量を制御し、その量を過不足なく、あるいは精度良く把握し、脱P精錬の制御性を悪化させることなくリサイクルする方法を提供する。 - 特許庁
A process for producing the stabilized protein-containing preparation is provided in which the pH value is controlled with the use of a basic amino acid, a basic amino acid derivative, or a salt thereof. さらに、塩基性アミノ酸又は塩基性アミノ酸誘導体、又はその塩を用いてpH調整を行うことを特徴とするタンパク質含有安定化製剤の製造方法を提供する。 - 特許庁
A computer 100 operating as an adaptive control unit decides controlled variables for the status of a target physical system, when the time development of the physical system is described as a Markov process. 適応制御器として動作するコンピュータ100は、対象とする物理システムの時間発展がマルコフ過程として記述される際に、物理システムの状態に対する制御量を決定する。 - 特許庁
To provide a method for depositing a titanium-dioxide-based thin film having controlled crystal structure, particularly a titanium-dioxide-based thin film having anatase-based crystal structure, onto the surface of a base material by a simple process. 簡単な工程により基材表面に、結晶構造の制御された二酸化チタン系薄膜、特にアナターゼ型の結晶構造を有する二酸化チタン系薄膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁
This is a solubility controlling method wherein the duration of frozen time is controlled in a process of obtaining the hyaluronic acid made hardly water soluble by freezing an aqueous solution of usual hyaluronic acid having pH ≤2.0 followed by its thawing. ヒアルロン酸の pH 2.0 以下の水溶液を凍結し、次いで解凍することにより得られる水難溶性化したヒアルロン酸の凍結時間を調整することによる溶解性制御方法を構成とする。 - 特許庁
HYDROCRACKING PROCESS WITH RECYCLE INCLUDING ADSORPTION OF POLYNUCLEAR AROMATIC COMPOUND FROM RECYCLED FRACTION USING ADSORBENT BASED ON SILICA-ALUMINA HAVING CONTROLLED MACROPORE CONTENT 制限されたマクロ孔含有量を有するシリカ−アルミナをベースとする吸着剤を用いる、再循環させられたフラクションからの多芳香族化合物の吸着を包含する、再循環を伴う水素化分解法 - 特許庁
Significant stress reduction is achieved by removing the filter from a substrate used in a deposition process in a controlled manner and maintaining structural completeness of the obtained free standing multilayer film structure. 著しい応力低減は、堆積プロセスで使用される基板からフィルタを制御された態様で取去り、得られる自立形多層膜構造の構造完全性を保持することによって達成される。 - 特許庁
The priority of each thread is set within the CPU, and processing order/frequency of instructions of multiple threads is controlled so as to process a thread with upper priority more preferentially than a thread with lower priority in principle. CPU内で、各スレッドの優先度が設定され、原則として上位優先度のスレッドが下位優先度のスレッドより優先的に処理されるよう、複数スレッドの命令の処理順序/頻度が制御される。 - 特許庁
To provide a processing device and method wherein the periphery of a workpiece can be selectively processed with a processing liquid, and a process region can be controlled with high dimensional accuracy and processing efficiency. 被処理体の周縁部を選択的に処理液により処理するとともに、処理領域寸法の精度の高い制御ができ処理効率も高い、処理装置及び処理方法を提供すること。 - 特許庁
The temperature controlling method of microwave heating includes a process in which mocrowaves are irradiated on a ferroelectric and a heating temperature is controlled by a variation of a dielectric property around a Curie point of the ferroelectric. 強誘電体にマイクロ波を照射し、強誘電体のキュリーポイントの前後での誘電特性の変化により加熱温度を制御するマイクロ波加熱の温度制御方法の構成とした。 - 特許庁
At this time, the separation timing of the cleaning blade is controlled by setting the write-in timing of a latent image corresponding to the toner image primarily transferred first in the next image forming process as reference. このとき、上記次の画像形成工程において最初に1次転写されるトナー像に対応する潜像の書込タイミングを基準にして、上記クリーニングブレードの離間タイミングを制御する。 - 特許庁
Because ionization reaction in the gas can be properly controlled and excess carbon which becomes soot or glass-like carbon without being used for carburizing does not exist in the atmosphere at carburizing, the carburizing reaction is allowed to process smoothly. ガス中の電離反応が適度に抑制され、浸炭に利用されずにススやガラスライクカーボンになるような過剰のカーボンが浸炭時の雰囲気に存在しないので、浸炭反応が順調に進行する。 - 特許庁
HYDROCRACKING PROCESS WITH RECYCLE INCLUDING ADSORPTION OF POLYNUCLEAR AROMATIC COMPOUND FROM FRACTION TO BE RECYCLED ON ADSORBENT BASED ON SILICA-ALUMINA HAVING CONTROLLED MACROPORE CONTENT 制御されたマクロ孔含有量を有するシリカ−アルミナをベースとする吸着剤上での、再循環させられる部分からの多芳香族化合物の吸着を包含する、再循環を伴う水素化分解法 - 特許庁
When one or more operation points pc, pd, ... are moved by a user in the specified parameter region Ar (Ac2-Ac5), the movement operations Ac2-Ac5 are detected and a predetermined signal process characteristic is controlled. また、指定パラメータ領域Ar内でユーザにより1乃至複数の操作点pc,pd,…が移動されると(Ac2〜Ac5)、この移動操作Ac2〜Ac5を検出し、所定の信号処理特性を制御する。 - 特許庁
To provide a controller of a plant which accurately prevents overshoot in a converging process of plant output and which makes the plant output smoothly converge to a controlled object value. プラント出力の収束過程におけるオーバシュートを確実に防止し、プラント出力を制御目標値に滑らかに収束させることができるプラントの制御装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
Then, when the input image data are judged to be similar to the reference image, the content of a process to be performed on the input image data is controlled in accordance with the processing rule information corresponding to the reference image. そして、入力画像データが登録画像に類似すると判定された場合、当該登録画像に対応する処理ルール情報に基づいて入力画像データに対する処理内容を制御する。 - 特許庁
In the cell type ice making machine, the ice making time setting data (57) as the data of ice making time in an ice making process is set and the ice making time is controlled on the basis of the ice making time setting data. セルタイプ製氷機は、製氷工程での製氷時間のデータである製氷時間設定データ(57)が設定され、この製氷時間設定データに基づいて製氷時間が制御されている。 - 特許庁
To provide a substrate processing line wherein a plurality of processing sections arranged in a small space can continuously process a substrate, a conveyance apparatus can easily be controlled and maintained, and the equipment cost can be reduced. 狭いスペースに複数の処理部を配置して基板の処理を連続的にできるとともに、搬送装置の制御や保守が容易で、且つ設備コストを低減できる基板処理ラインを提供する。 - 特許庁
A treated liquid flowing out from the ozone contact process is introduced into the following accelerated oxidation process, and the injection amount of ozone and the injection amount of hydrogen peroxide in the accelerated oxidation process are controlled according to the concentration of dissolved ozone in the ozone contact process. オゾンガスと被処理水を接触・混合せしめるオゾン接触工程を配し、そのオゾン接触工程の次にオゾンガスおよび過酸化水素を混合・注入する促進酸化処理工程を配する工程とし、オゾン接触工程から流出する処理液を次の促進酸化処理工程に導入すると共に、該オゾン接触工程における溶存オゾン濃度値に応じて、該促進酸化処理工程でのオゾン注入量、および過酸化水素注入量を制御する。 - 特許庁
To provide a method and system for controlling a predictive model of a controlled system having one or more physical components using a model predictive control (MPC) model, determining an iterative finite interval optimization of a system model of the controlled system, in order to generate a manipulated value trajectory as part of a control process. 制御プロセスの一部分として操作値軌跡を生成するために、モデル予測制御モデル(MPC)を使用し、被制御システムのシステムモデルの反復有限区間最適化を決定する1つまたは複数の物理的構成要素を有する被制御システムの予測モデル制御の方法およびシステムを提供する。 - 特許庁
The temperature or pressure in a thawing zone 2 is controlled to a preset level in a thawing process to perform the thawing of an object 1 with low-pressure steam in the thawing zone 2 by evacuating the thawing zone 2 under controlled evacuation speed while supplying steam to the thawing zone 2. 解凍区域2内の低圧蒸気により被解凍物1の解凍を行う解凍方法において、解凍区域2内へ給蒸しながら、減圧速度を調整して解凍区域2内を減圧することにより、解凍区域2内の温度または圧力を設定値となるように制御することを特徴とする。 - 特許庁
Then the copying machine 1 specifies a document to be controlled which have document contents similar to that of the document in accordance with the decision and refers to control information of the document to be controlled specified from the document management index data 18b to decide whether document processing in response to a request to process the document is performed. そして複写機1は、上記判断に応じて原稿と文書内容が類似する制御対象文書を特定し、文書管理索引データ18bから特定した制御対象文書の制御情報を参照して、原稿に対する処理要求に応じた文書処理を行うか否かを判断する。 - 特許庁
This method is a method for performing the controlled cooling 22 of the thick steel plate 1 after finish rolling in a thick steel plate manufacturing process, the distribution of scale thickness is measured 14 and, after reducing variation in the scale thickness to ≤10 μm by descaling 16 or applying a surface film based on the measured result, the controlled cooling 22 is performed. 厚鋼板製造工程において仕上圧延10後に厚鋼板1を制御冷却22する方法であって、スケール厚み分布を計測14し、スケール厚み分布の計測結果に基づいてデスケーリング16または表面膜塗布によりスケール厚みのばらつきを10μm以下とした後、制御冷却22を行う。 - 特許庁
The process control device 20 comprises: a predictive operation part 26 for inputting a current controlled variable and outputting a controlled variable predicted to be reached in a predetermined time; and a control part 22 for inputting the deviation of the predicted controlled variable from a control command and outputting a manipulated variable resulting from one or more of proportional, integral and derivative operations on the deviation. プロセス制御装置20は、現在の制御量を入力として、現在から所定時間経過後の制御量の予測値を出力する予測演算部26と、制御目標値と制御量の予測値との偏差を入力として、当該偏差に対して、比例演算、積分演算、微分演算のうちいずれか1つ以上の演算を行った結果を操作量として出力する調節部22とを備える。 - 特許庁
The invention relates to the method for producing the melanin under a controlled condition comprising at least an oxidation process carrying out a continuous oxidation of a melanin precursor in an alkaline solution sustaining molar ratio of the melanin precursor and an oxidant at constant, and a precipitation process precipitating the melanin by acidifying the reaction liquid after oxidation process. 本発明のメラニンの製造方法は、管理条件下でメラニンを製造するメラニンの製造方法であって、アルカリ水溶液中においてメラニン前駆体と酸化剤とのモル比を一定に維持しながら前記メラニン前駆体を連続酸化する酸化反応工程と、該酸化工程後の反応液を酸性にすることによりメラニンを析出させる析出工程とを少なくとも含み構成する。 - 特許庁
When a semiconductor device which includes a polycrystalline silicon layer 11 at least at a part thereof is manufactured, the hydrogen annealing process is conducted at least to the polycrystalline silicon layer 11 under the condition that the temperature condition and/or hydrogen gas flow rate be controlled, and this hydrogen annealing process is then performed, after the completion of the wiring process in a semiconductor device. 少なくとも一部に多結晶シリコン層11を有する半導体デバイスを製造するに際して、温度条件及び/又は水素ガス流量比を制御した状態で、少なくとも多結晶シリコン層11に対して水素アニール処理を施し、該水素アニール処理を半導体デバイスにおける配線加工処理が終わった後に行うことを特徴とするものである。 - 特許庁
A mark for controlling a manufacturing process is given to a region to which laser beams are not irradiated, the laser beams being for laser scribing for each layer of a peripheral region of a face opposite to a face where a light transmission substrate is deposited, or a side surface; and in the subsequent each manufacturing process, the mark is read and each manufacturing process is controlled by using the read mark. 透光性基板の成膜される面とは反対側の面の周縁領域または側面の、各層に対するレーザースクライブのためのレーザー光が照射されない領域に、製造工程の管理のためのマークを付し、以後の各製造工程において、前記マークを読取り、読取られたマークを利用して各製造工程の管理を行うことを特徴とする。 - 特許庁
In the re-encoding process, a transition of a VBV buffer duty value is so controlled and implemented that the transition starts from one at a position of (a) and finishes until the VBV buffer duty value at a position of (d). この再符号化は、VBVバッファ占有値の推移が、aの位置でのVBVバッファ占有値から開始されて、dの位置でのVBVバッファ占有値までで終了するように制御されて実行される。 - 特許庁
In the heat treatment process, the temperature of the heater 433 is controlled to a predetermined temperature based on the temperature condition, and then the setters A-D are carried into the heat treating furnace 43 and heated for a fixed time. 熱処理工程では、当該温度条件に基づいてヒータ433の温度を所定温度に制御した後に、熱処理炉43内にセッタA〜Dを搬入して、当該セッタA〜Dを一定時間加熱する。 - 特許庁
The content of Pb in an aluminum material is controlled to 0.3 to 2.5 ppm by mass, process annealing is performed in an oxidizing atmosphere, and the aluminum material after tensile strain application and before final annealing is heated in an oxidizing atmosphere. アルミニウム材のPbの含有量を0.3質量ppm以上2.5質量ppm以下とし、中間焼鈍を酸化性雰囲気中で実施し、引張歪付与後最終焼鈍前のアルミニウム材を酸化性雰囲気中で加熱する。 - 特許庁