In the heat treatment process, the temperature of the heater 433 is controlled to a predetermined temperature based on the temperature condition, and then the setters A-D are carried into the heat treating furnace 43 and heated for a fixed time. 熱処理工程では、当該温度条件に基づいてヒータ433の温度を所定温度に制御した後に、熱処理炉43内にセッタA〜Dを搬入して、当該セッタA〜Dを一定時間加熱する。 - 特許庁
The content of Pb in an aluminum material is controlled to 0.3 to 2.5 ppm by mass, process annealing is performed in an oxidizing atmosphere, and the aluminum material after tensile strain application and before final annealing is heated in an oxidizing atmosphere. アルミニウム材のPbの含有量を0.3質量ppm以上2.5質量ppm以下とし、中間焼鈍を酸化性雰囲気中で実施し、引張歪付与後最終焼鈍前のアルミニウム材を酸化性雰囲気中で加熱する。 - 特許庁
In the process of drying the waste, the halogen heaters and the ventilation fan 42 are controlled by a control unit so as to keep a constant-temperature drying period showing a specific water content reducing tendency of the waste. この廃棄物の乾燥処理中に、廃棄物の含水率が所定の減少変化傾向を示す恒温乾燥期間を維持するように、制御装置によりハロゲンヒータ及び換気ファン42の作動を制御する。 - 特許庁
To provide a printing method by which the screen separation is controlled in screen process printing, a printing device, a wiring board and a manufacturing method therefor, a semiconductor device and a manufacturing method therefor, a circuit board and electronic equipment. スクリーン印刷において版離れの制御を行える印刷方法、印刷装置、配線基板及びその製造方法、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器を提供することにある。 - 特許庁
The quality and uniformity of the film can be controlled by adjusting the frequency and amplitude of the signal, the duration time of the positive signal, the power supplied to a supporting member 112 and a coil, and other process parameters. 膜質と膜の均一性は、信号の周波数と振幅、信号のプラス部の持続時間、支持部材112とコイルとへそれぞれ供給される電力、および他のプロセスパラメータを調節することによって制御できる。 - 特許庁
To provide a process for preparing, with a high productivity, a colloidal dispersion of silver fine particles suitable as a coating solution for forming a transparent conductive layer or an antibacterial coating, wherein the grain size of the silver fine particles are easily controlled. 透明導電層形成塗液や抗菌コーティング形成塗液として好適な銀微粒子コロイド分散液を、その銀微粒子の粒径を容易に制御でき、且つ高い生産性で製造する方法を提供する。 - 特許庁
In the etching process, the etching amount y (μm) is controlled so as to satisfy y≥4 when the depth of the laser mark x (μm) is x≤60, and satisfy y≥0.001x^2-0.1186x+8.0643 when x>60. エッチング工程では、レーザマークの深さx(μm)がx≦60のときy≧4を満たし、x>60のときy≧0.001x^2−0.1186x+8.0643を満たすようにそのエッチング量y(μm)が制御される。 - 特許庁
In an HDD, the time interval of the servo sectors is measured in the process of following for reading or writing user data, and a timing signal for detecting the servo sectors is controlled in accordance with the measurement result. 本発明の一実施形態のHDDは、ユーザ・データのリードあるいはライトのためのフォローイング中にサーボ・セクタの時間間隔を測定し、その測定結果に応じてサーボ・セクタ検出のためのタイミング信号を制御する。 - 特許庁
With the structure explained above, entry of etching product to the side wall portion 15 is controlled and generation of platinum compound including etching product at the side wall portion 15 during the etching process of substrate 8 can be prevented. この構造により、側壁部15へのエッチング生成物の進入が抑制され、基板8のエッチング時に側壁部15にエッチング生成物を含む白金化合物の発生を未然に防止することが可能になる。 - 特許庁
In the case of controlling the air-fuel ratio to rich in the process of performing the catalyst generation control to correct the ignition timing to timing lag, when a torque down request is given, the air-fuel ratio is controlled stoichiometrically, thereby performing the torque down control. この触媒再生制御の実行中に空燃比をリッチに制御して火時期を遅角補正するときに、トルクダウン要求が発生した場合には、空燃比をストイキに制御してトルクダウン制御を実行する。 - 特許庁
To provide an optical waveguide device in which the generation of a warp is controlled and which is excellent is optical characteristic even when heat treatment is performed in a manufacturing process and to provide its manufacturing method. 製造工程において熱処理が行われた場合でも、光導波路装置での反りの発生が抑制されて、良好な光学特性が得られる光導波路装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
This bulking-controlled continuous activated sludge process is provided with at least one small-volume aeration tank as an adsorption tank for treating organic waste water biologically at the preceding stage of another aeration tank having a contact material on the inside. 内部に接触材を有するばっ気槽の前段に、小容量のばっ気槽を吸着槽として、少なくとも1つ設け、有機性排水を生物学的に処理する、バルキング抑制型連続式活性汚泥方法。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of executing a heat treatment process of a ferrodielectric film in a sealed atmosphere where oxygen concentration and argon concentration are controlled; and a heat treatment device. 酸素濃度及びアルゴン濃度が制御され、且つ密閉された雰囲気下で、強誘電体膜の熱処理工程を実施することができる半導体装置の製造方法及び熱処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a mold release film having ultraviolet ray anti-reflection characteristics and controlled well in size stability and releasability during ultraviolet ray irradiation, which is suitably used for a photo-cured resin layer manufacturing process. 光硬化性樹脂層製造工程において好適に使用される、紫外線の反射防止性が付与された、紫外線照射時の寸法安定性および離型性が良好に制御された離型フィルムを提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a liquid developer by which a process of removing a solvent is omitted, the toner particle size is freely controlled and a liquid developer excellent in dispersion stability, development characteristics and cleaning property can be obtained. 溶剤除去工程がなく、トナー粒径を自由にコントロールでき、且つ分散安定性、現像特性、クリーニング性に優れる液体現像剤を得ることができる液体現像剤の製造方法を提供する。 - 特許庁
Monitoring of discharged conditions during this grinding process is performed by both of discharge voltage and discharge current, and at least the change rate fg is controlled so as to maintain stable discharge by using the monitored results. この研削加工中の放電状態のモニタリングを放電電圧、及び放電電流の双方で行なって、このモニタリングの結果を用いて、安定放電を維持するように、少なくとも変化速度fgを制御する。 - 特許庁
In a process of forming a first conductive wiring layer 11A by etching the first thin conductive film 11, an etching depth can be controlled by stopping the etching with the third conductive film 13. 第1の導電膜11をエッチングすることにより第1の導電配線層11Aを形成する工程では、第3の導電膜13でエッチングがストップすることにより、エッチングの深さを制御することができる。 - 特許庁
As advantages of this method, for example, the adjustment of the implant process is controlled by a receiver side radio service provider and an adverse effect (interruption) to the radio communication service for the subscriber is minimized. 長所として、一つの好ましい実施例においては、移植プロセスの調整が受け取り側無線サービスプロバイダによって制御され、加入者への無線通信サービスへの影響(中断)が最小限に押さえられる。 - 特許庁
An operational speed of the sealing member 33 is increased by using the rubber tubes 36 as a driving means, and also the operational speed at the moment the member 33 closes can be controlled to get slower than the process so far. 駆動手段としてラバーチューブ36を用いることで、シール部材33の動作速度を大きくする一方で、それが閉じる瞬間の動作速度がそれまでの行程に比べて遅くなるように調整できる。 - 特許庁
To obtain current and phase to be used in actual process control, when setting the original position of a linear motor, so as to position, at a high speed and with accuracy, a portal stage whose shift is controlled by the use of the linear motor. リニアモータを用いて移動制御する門型ステージを高速かつ高精度に位置決めするために、実際のプロセス制御に使用する電流と位相をリニアモータの原点位置設定時に求めるを可能にする。 - 特許庁
For increasing the forming rate of polar functional groups on the surface of the insulating base material 4 at the time of the plasma bombardment by controlling these managing items, the d.c. bias voltage in the process of the plasma bombardment is managed or controlled. これらの管理項目を制御することで、プラズマボンバードの際に絶縁性基材4の表面での極性官能基の生成率が高まるように、プラズマボンバード中の直流バイアス電圧を管理または制御する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing an active material for a lithium ion secondary battery positive electrode where generation of a corrosive gas can be controlled in the process of manufacturing lithium manganate as the active material for the lithium ion secondary battery positive electrode. マンガン酸リチウムによるリチウムイオン二次電池正極活物質を製造する過程で、腐食性ガスの発生を抑制可能なリチウムイオン二次電池正極活物質の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
The temperature in the carbonization room in the carbonization process is controlled to a specified temperature (predetermined temperature) by turning on/off the first burner for heating for carbonizing according to the termometer for controlling the carbonization room (thermometer B) arranged in the carbonization room. この際、炭化工程中の炭化室の温度は、炭化室に配置した炭化室温度調整用温度計(温度計B)を介して第一バーナの加熱をオン/オフさせ、所定の温度(設定温度)に制御する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a yellow toner by which a toner having a controlled particle diameter can be easily manufactured in a short manufacture time, red discoloration of a pigment can be suppressed and a process load can be significantly decreased. 粒径を制御したトナーを簡便にかつ短い製造時間で製造しうるとともに、顔料の赤変を抑制でき、さらに工程負荷が大幅に低減できる黄色トナーの製造方法を提供する。 - 特許庁
The range of a picture display area is determined from the result of detecting the existence of image signal components in input picture signals, and an image sharpening process is controlled to be applied within the range. 入力映像信号中の画像信号成分の有無を検出した結果から上記映像表示領域の範囲を決定し、その範囲内のみに画像先鋭化処理が施されるように制御を行う。 - 特許庁
Since a resistance element having negative temperature characteristics is not required, a temperature controlled oscillator in which oscillation frequency increases continuously as the temperature rises can be obtained without employing an intricate manufacturing process. これにより、負の温度特性を有する抵抗素子を用いる必要がないので、複雑な製造工程を用いることなく、温度上昇に従って発振周波数が連続的に高くなる温度制御発振器が得られる - 特許庁
Accordingly, generation of wiring failure such as short-circuit of wire among the adjacent metal wires 6a can be controlled in the etching process to form the metal wires 6a with etching of the metal wiring layer 6. これにより、金属配線層6をエッチングして金属配線6aを形成するエッチング工程において、隣接する金属配線6aの配線ショートなどの配線不良が発生するのを抑えることができる。 - 特許庁
In addition, timing of electrical stimulation given to the animal by an electrical stimulator 20 is controlled from signals representing results of arithmetic process by a first controller 100 controlling the output of the actuator 15. また、アクチュエータ15の出力を制御する第1制御装置100による演算処理結果を表わす信号に基づき、電気刺激装置20により動物に与えられる電気刺激のタイミングが調節される。 - 特許庁
In the pattern exposure process, the time when the electron beam 83 passes on the exposure position reference mark 21 is detected with the electron detector and the timing for irradiating the electron beam 83 is controlled with reference to the passing time. パターン露光を行う工程において、露光位置参照マーク21上を電子ビーム83が通過する時刻を電子検出器により検出し、通過時刻を基準として電子ビーム83を照射するタイミングを制御する。 - 特許庁
The alkali concentration of a digestion liquid gathered from an anaerobic digestion tank is measured, and the concentration of the volatile organic acid is measured from this measured value, so that the operation condition of the digestion tank in an anaerobic digestion process is controlled. 嫌気性消化槽から採取した消化液のアルカリ度を測定し、この測定値から揮発性有機酸濃度を定量して嫌気性消化プロセスにおける消化槽の運転条件を制御するようにした。 - 特許庁
Thereby, the assembling process, by selecting the length of the valve opening controlling member 74, can be easily controlled in a short time so as to provide properties (operation noises, intake quantity) according to desire of a user. そのため、組立工程において、弁開度調節部材74の長さ寸法を選択することにより、ユーザの要望に応じた性能(動作音、吸い込み量)を得られるように簡単且つ短時間で調整される。 - 特許庁
To provide a process for producing a valve metal powder which has specially controlled morphology by reducing a suitable oxide which can retain desired morphology without an expensive post-treatment stage. 高価な後処理工程を必要とすることなく、所望の形態を維持することが可能である、相応する酸化物を還元することにより特別に調整された形態を有するバルブ金属粉末の製造法を提供する。 - 特許庁
This process film for the wet type production of synthetic leather is characterized by disposing a peeling layer comprising a polyolefin-based resin and having a peeling property controlled by a corona treatment on at least one side of a substrate comprising a synthetic resin film. 合成樹脂フィルムからなる基体の少なくとも片面に、コロナ処理により剥離制御されたポリオレフィン系樹脂からなる剥離層を設けたことを特徴とする湿式合成皮革製造用工程フィルムである。 - 特許庁
In the process of survey, the doctor precisely applies the pressure by finger contact pressure method to perceive the pulse waveform and amplitude of the subject, and the localization and pressure of the pulse sensor are controlled to improve the accuracy of measurement result. 測量の過程で、医師は指の触圧方式で精確に圧力を施圧し、受測者の脈拍波形と振幅を感じ取り、脈拍センサーの定位と圧力を制御して、測量結果の精確性を向上させる。 - 特許庁
Sulfuric acid pitch is mixed into black liquor obtained from pulp cooking and washing process of a paper mill, and pH is controlled to 9 or more, preferably 10 or more, then the mixed liquid is sent to a well-known recovery boiler for combustion. 硫酸ピッチを製紙工場のパルプ蒸解及び洗浄工程から得られる黒液に混合した後、PH9以上、好ましくは10以上とし、該混合液を公知の回収ボイラへ送って燃焼処理する。 - 特許庁
After the Cu wiring 1 is formed so as to be embedded in the surface of the interlayer insulating film 2, the reducing process is applied to the Cu wiring 1 in an atmosphere in which the total pressure of oxygen and water vapor is controlled to be less than 10^-3 Pa. 層間絶縁膜2の表面にCu配線1を埋込み形成した後、酸素と水蒸気の合計圧力を10^-3Pa以下に制御した雰囲気中で、Cu配線1に還元処理を施す。 - 特許庁
Then, an enemy character to fight with, an item to be generated and the branching of a game scenario are controlled according to the value of the radio wave reception intensities stored in the storage area in the advancing process of the game (step S205 to S213). そして、ゲームの進行過程において、記憶領域に格納した電波受信強度の値に応じて対戦する敵キャラクタや発生させるアイテム、ゲームシナリオの分岐を制御する(ステップS205〜S213)。 - 特許庁
In this process, by using a target distance Δm from a representative point 7 of the own vehicle to a target point 5 for the preceding vehicle 2, the following vehicle 3 determines which of the azimuth ϕ and the relative angle θ is controlled preferentially. この際に、追従車両3は、自車両の代表点7から先行車両2に対する目標点5までの目標点距離Δmを用いて、φとθの何れを優先的に制御するかを判断する。 - 特許庁
To provide an apparatus, a method and a program for the measurement of irregularities in a film thickness wherein when the film thickness of a thin film during a production process is controlled, the film thickness can be measured wholly with high accuracy in an on-line manner. 生産工程中の薄膜の膜厚管理を行う際に、オンラインで全面を高精度に測定可能な膜厚むら測定装置、膜厚むら測定方法および膜厚むら測定プログラムを提供すること。 - 特許庁
In the progressive process of the game, an opponent character, generated items and branching of a game scenario are controlled according to the value of the base station ID code stored in the ID code storage area (steps S205-S213). そして、ゲームの進行過程において、IDコード記憶領域に格納した基地局IDコードの値に応じて対戦する敵キャラクタや発生させるアイテム、ゲームシナリオの分岐を制御する(ステップS205〜S213)。 - 特許庁
To provide a semiconductor production system in which process gas flow can be controlled such that a sufficiently good temperature uniformity can be realized in the plane of a wafer loaded in a processing container. 本発明は、処理容器内に装填したウェーハ面内の十分に良好な温度均一性が実現されるようにプロセスガスの流れを制御することが可能な半導体製造装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a game machine effectively saving power irrespective of whether a game is in process and saving the power of a plurality of devices controlled by a sub control board. 遊技中であるか否かに関係なく節電を可能にするとともに、サブ制御基板に制御される複数の機器を節電可能とすることにより、効果的な節電を行うことができる遊技機を提供すること。 - 特許庁
Thus, the optical loss to the side of the substrate 3 is controlled, a light propagating characteristic is excellent, a thin type and a small type are realized, a manufacturing process is relatively simplified and the optical waveguide having large mechanical strength is obtained. 基板3側への光損失を抑え、光伝搬特性が良好で、薄型化・小型化を図ることができ、作製工程が比較的単純でかつ簡便であり、機械強度も強い光導波路となる。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a resin welded body in which sinking amount of a joined part is highly precisely controlled, even without the need of highly precise control of a joining process or very highly precise dimensional control of a molten surface. 接合工程の高精度な制御や溶融面に極めて高精度な寸法管理を必要としなくとも、接合部の沈み込み量が高精度に管理された樹脂溶着体の製造方法を提供する。 - 特許庁
The liquid is filled at a temperature controlled to a temperature range satisfying the temperature to suppress the foaming in the filling process and the temperature to stably keep the inner pressure according to the kind of the liquid. 内容液の充填温度を、内容液の種類に応じて、充填時の泡立ちを抑制できる温度と、内圧の安定確保ができる温度との両方を満たす温度域に制御して、内容液を充填する。 - 特許庁
To provide a method for producing barium titanate under controlled crystal grain shape, efficiently synthesizing barium titanate and preventing destruction of crystal grain shape in the synthesis process. チタン酸バリウムを効率よく合成することができ、その合成する過程における結晶粒子形状の破壊を防ぐことができる結晶粒子形状を制御したチタン酸バリウムの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide doping which allows the concentration and uniformity of a deposited dopant to be controlled by blocking some of the available binding sites for a dopant precursor with a blocking reactant and allows the blocking reactant to be introduced prior to introduction of the dopant precursor in an ALD (atomic layer deposition) process or allows the blocking reactant and the dopant precursor to be introduced simultaneously. 阻害反応物を用いてドーパント前駆体が利用可能な結合部位の一部を阻害することによって、堆積したドーパントの濃度および均一性を制御することができる。 - 特許庁
Silica is added as a chelating agent during a toner production process, and the polyester-based toner particle size is effectively controlled as well as the pH is adjusted, thereby contributing to enhanced triboelectric charging properties of the toner particles. トナー製造プロセス中に、シリカをキレート剤として加え、pHを調節することに加え、ポリエステルに由来するトナーの粒径を有効に制御し、このことが、トナー粒子の摩擦帯電特性を高めることに役立つ。 - 特許庁
To provide an α-olefin polymerization catalyst capable of producing an α-olefin polymer having highly controlled stereoregularity and high melt tension and provide an α-olefin polymerization process using the catalyst. 高度に立体規則性が制御され、かつ溶融張力の高いα−オレフィン重合体を高収率で製造できるα−オレフィン重合用触媒及びそれを用いた重合方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
The process for manufacturing a lamination having an adhesive coating unit operated by a non-contact technology and having a controlled height between a feeder and a restrictor or in a tool placed thereon. 非接触技術によって稼動される接着剤塗布ユニットを備え、かつ、フィーダー及びレストリクターの間、又はそれらに位置する工具内において、制御された高さを有する積重ねラミネーションを製造する方法。 - 特許庁