「controlled process」を含む例文一覧(1033)
＜前へ 1 2 .... 9 10 11 12 13 14 15 16 17 .... 20 21 次へ＞- The emissions of flue gases produced by the combustion process of the fuel in the furnace are controlled in order to maintain clean the flue gases and for reducing the emission of impurities from the fuel such as SOx, NOx and particulates.
炉内の燃料の燃焼過程により生じる煙道ガスの排出は煙道ガスを清浄に維持するべく制御され、ＳＯｘ、ＮＯｘ及び微粒子等の燃料由来不純物の排出が低減される。 - 特許庁 - The operations of both of a pressure valve 3 and a flow rate proportion control valve 4 are controlled so that the controller 11 of the injection machine is matched with the different injection conditions of the injection molding machine 1 and process analysis 2 in the injection molding machine 1.
射出成形機１において射出機の制御器１１を射出成形機１の違った射出条件及び過程分析２に合せて圧力弁３、流量比例制御弁４の動作を制御する。 - 特許庁 - To provide a game machine effectively saving power irrespective of whether a game is in process or not and saving the power of a plurality of devices controlled by a sub control means.
遊技中であるか否かに関係なく節電を可能にするとともに、サブ制御手段に制御される複数の機器を節電可能とすることにより、効果的な節電を行うことができる遊技機を提供すること。 - 特許庁 - A raw material containing cellulose is ground, is controlled in moisture followed by adjusting its temperature to be 100°C or more and 300°C or less, and is solubilized under a condition of a total pressure 0.05 MPa or more and 10 MPa or less (solubilization process).
セルロースを含有する原料を粉砕し、水分調整を行った後、温度を１００℃以上３００℃未満とし、且つ、全圧を０．０５ＭＰａ以上１０ＭＰａ未満とする条件下で可溶化させる（可溶化工程）。 - 特許庁 - To provide a phase synchronous circuit capable of performing automatic adjustment so that a VCO (voltage-controlled circuit) can meet a prescribed frequency range even within a frequency range that the VCO oscillates due to a leak current caused when a low threshold process is applied.
低しきい値プロセスを適用した場合に発生するリーク電流によりVCOが発振する周波数範囲であっても、VCOが所定の周波数範囲を満たすように自動調整できる位相同期回路を提供する。 - 特許庁 - Moreover, since the driving part is controlled so that the recharged voltage of the rechargeable battery 63 is permanently monitored to bring the battery into recharging process when the voltage becomes a reference value or lower, the front panel can be started stably.
また、充電池６３の充電電圧を常に監視して、基準値以下になったら充電処理できる状態となるように駆動部を駆動制御しているため、前面パネルを安定して起動させることができる。 - 特許庁 - Power supply to the tray 17 is controlled to be performed when energizing the heating means of a transfer fixing device is in an off-state, and the maximum working electric energy of an entire printing process is restrained to be low.
また、予備加熱トレイ１７への電力供給は、転写定着装置の加熱手段への通電がOFF状態のときに行うように制御し、プリントプロセス全体の最大使用電力量を低く抑える。 - 特許庁 - In a process for forming a polythiophen layer 7A, a distribution state of the amount of adhesion of oxidizer on the outer surface of an anode body is controlled, the oxidizer being adhered to the anode body, thus controlling the thickness of the polythiophen layer 7A.
ポリチオフェン層７Ａを形成する過程で、陽極体に付着させる酸化剤の、陽極体の外表面における付着量の分布状態を制御することによって、ポリチオフェン層７Ａの厚さを制御する。 - 特許庁 - A cooling water adjusting valve 15 is controlled based on the result of this PID computation and the result of the pre- computation by an exhaust gas temperature detection and process mechanism 10 based on the detection result from an exhaust gas temperature detector 16.
このＰＩＤ演算結果と、排ガス温度検出器１６からの検出結果に基づく排ガス温度検出処理機構１０による予測演算結果とかられ冷却水調節弁１５を制御する。 - 特許庁 - When lifting the lift arm 6 up to an upper limit position from a lower limit position, the lift cylinder 11 extends, and the counter cylinder 12 is controlled so as to extend after being reduced once in its extension process.
リフトアーム６を下限位置から上限位置まで上昇させる場合に、リフトシリンダ１１が伸張するとともに、その伸張過程においてカウンタシリンダ１２はいったん縮退した後伸張するように制御される。 - 特許庁 - To provide a porous silicon carbide-based formed body having a pore diameter, porosity and the like which are controlled according to various specifications and uses without the need for a special process step, a special additive or the like, and to provide its manufacturing method.
特別な工程や添加剤等を必要とせずに、種々の仕様用途に応じて制御された細孔径や気孔率等を有する炭化珪素系多孔質成形体、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To obtain a milk component-containing beverage having a good taste with the damage to original flavor and fragrance characteristic of a material controlled in heat sterilization, in the milk component-containing beverage produced through a heat sterilization process.
加熱殺菌工程を経て製造される乳成分含有飲料において、加熱殺菌時に材料が本来有する味や香りが損なわれるのを抑制して、風味のよい乳成分含有飲料を提供する。 - 特許庁 - The machine plate of which the wettability of the surface is controlled selectively according to image information is prepared by the preparing method of the machine plate which has a process of heating a polyimide precursor layer of the plate material to make it into a polyimide one and a process of giving energy to the polyimide surface of the machine plate according to the image information.
版材のポリイミド前駆体層を加熱してポリイミド化する工程と、該ポリイミド化した版材表面に画像情報に応じてエネルギーを付与する工程とを有する刷版の作製方法によって表面の濡れ性を画像情報に応じて選択的に制御した刷版を作製する。 - 特許庁 - In the manufacturing method of the cathode ray tube, by releasing at least one kind of specific gas of either Ar gas, N2 gas, or H2 gas from a part in a bulb, before aging process 22 in the cathode ray tube, the pressure of the specific gas in the cathode ray tube at the aging process 22 is controlled.
陰極線管の製造方法において、エージング工程２２前に陰極線管内でＡｒガス、Ｎ_2ガス、Ｈ_2ガスのうち少なくとも一種類の特定ガスを管内部品から放出させることにより、前記エージング工程２２における前記陰極線管内の前記特定ガスのガス圧を制御する。 - 特許庁 - In the plasma nitriding processing apparatus that nitrides a substrate having an insulating film, the wafer temperature is in-process monitored before starting the plasma nitiding processing, and the plasma nitriding time or process pressure is controlled by feeding the monitored value of the wafer temperature back to a CPU to enhance the uniformity of the nitridation quantities among the wafers.
絶縁膜を有する基板を窒化するプラズマ窒化処理装置において、プラズマ窒化処理を開始する前にウェハ温度をインプロセスで計測し、該ウェハ温度の計測値をＣＰＵにフィードバックしてプラズマ窒化時間またはプロセス圧力を制御することにより、ウェハ間の窒化量の均一性を向上することができる。 - 特許庁 - The exhaust gas selector valve 28 is controlled, such that the exhaust gas is prevented from flowing through the NOx catalyst 20 by conducting the exhaust gas through the bypass pipe 26 during the recovery process of the SOx absorbent 17, and the exhaust gas is prevented from flowing through the bypass pipe 26, by conducting the exhaust gas through the NOx catalyst 20 during the SOx releasing process of the NOx catalyst 20.
ＳＯx吸収剤１７の再生処理時には排気ガスをバイパス管２６に導き、ＮＯx触媒２０に排気ガスが流れないようにし、ＮＯx触媒２０のＳＯx放出処理時には排気ガスをＮＯx触媒２０に導き、バイパス管２６に排気ガスが流れないように、排気切替弁２８を制御する。 - 特許庁 - To provide an optical compensation film in which phase differences with respect to wavelengths of light can be easily controlled at low cost without the need of a complicated process such as a process for laminating two retardation films while aligning optical axes; and to provide a polarizing plate with an optical compensation film produced by using the optical compensation film.
光軸を合わせて２枚の位相差フィルムを貼り合わせるような煩雑な工程を必要とせず、かつ、安価に、光の各波長に対する位相差の制御が容易な光学補償フィルムを提供し、さらには、その光学補償フィルムを用いて製造した光学補償層付き偏光板を提供することである。 - 特許庁 - The method of cutting the rod-like workpiece includes a feed roller controlling process in which the feed roller 13 is controlled to drive and stop driving so that the tip 40a of workpiece 40 touches a stopper member 21 according to the remaining length G of workpiece, and the cutting process in which the workpiece 40 is cut in a condition that tip 40a of workpiece 40 touches the stopper member 21.
棒状ワークの切断方法は、ワーク残存長さＧに応じて、ワーク40の先端40aがストッパ部材21に当接するように送りローラ13の駆動及び駆動停止を制御する送りローラ制御工程と、ワーク40の先端40aがストッパ部材21に当接した状態でワーク40を切断する切断工程とを含む。 - 特許庁 - In the control method for the sluice valve in the process of treating the high pressure fluid, the method for controlling the sluice valve provided on a pipe in the process of treating the high pressure fluid is characterized in that the timing for opening the sluice valve is controlled based on an output of a differential pressure gauge for detecting the differential pressure at front and rear sides of the sluice valve.
高圧流体を扱うプロセスの配管に設けられた仕切弁を制御する方法であって、その仕切弁を開にするタイミングをその仕切弁の前後の差圧を検出する差圧計の出力に基づいて制御することを特徴とする、高圧流体を扱うプロセスにおける仕切弁の制御方法。 - 特許庁 - Thus, the cooling operation of the cooling means 46 is regulated in at least one of the water-immersing process and the steaming process with weak heating power, the pot temperature detection means 15 accurately detects the temperature of the pot without being affected by the cooling means 46, and the pot heating means 13 is highly accurately controlled.
これによって、弱い火力の浸水工程とむらし工程との少なくとも一方の工程において冷却手段４６の冷却動作が規制され、鍋温度検知手段１５は冷却手段４６による影響がなくなり、鍋温度を正確に検知でき、鍋加熱手段１３を高精度で制御することができる。 - 特許庁 - An evacuation channel for evacuating reaction gas from each reaction gas process area is provided separately, and a separation area is provided between these reaction gas process areas, and a flow rate of the gas evacuated through each evacuation channel and a pressure in the vacuum chamber are controlled so that a gas flow rate to a substrate is kept constant.
夫々の反応ガスの処理領域から各々の反応ガスを排気する排気路を個別に設けると共にこれらの処理領域の間に分離領域を設けて、基板へのガス流が一定化するように、これらの排気路から排気するガス流量比及び真空容器内の圧力を調整する。 - 特許庁 - The heating of this apparatus is controlled by finely adjusting the supply of steam from the steam supply pipe and the discharge of steam from the bypass pipe even in an additional heating process after a double-side heating process for finely adjusting supplied steam so as to follow the change rate of the optimum foaming pressure regulated in advance.
そして、装置の加熱制御方法を、予め規定した最適発泡圧の変化率を倣うように供給蒸気を微調節して発泡させる両面加熱工程を経た後、追加熱工程においても蒸気供給管からの蒸気供給及びバイパス管からの蒸気排気の微調整により行う。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a substrate with a particulate-single-layer-membrane which consists of only relatively simple processes of treatment by not only an atmosphere plasma process but also a precisely controlled process, and in which enlargement of the area and the high through-put production can be carried out, and to provide a substrate with a particulate-single-layer-membrane manufactured by the method.
大気圧プラズマプロセスによる処理を始め、正確に制御可能な比較的簡単な工程のみからなり、大面積化や高スループット製造が可能な微粒子単層膜付き基板の製造方法を提供し、またそれにより製造された微粒子単層膜付き基板を提供する。 - 特許庁 - This method for producing the sugar, having a crystallization process for growing sucrose crystals from the supersaturated solution of the sucrose, is characterized in that the sucrose crystals comprise three or more crystal forms having different melting points and that the crystal forms and the melting points of the sugar are controlled by adjusting the crystallization conditions of the crystallization process.
スクロース体の過飽和溶液からスクロース結晶を成長させる結晶化工程を有する砂糖の製造方法であって、スクロース結晶は、融点の異なる３種以上の結晶形からなり、結晶化工程の結晶化条件を調整することにより、結晶形を制御し、得られる砂糖の融点を制御する。 - 特許庁 - To provide a device and a method for controlling a treating apparatus by which a mean value within a certain definite period of time can be controlled below a prescribed value even when the process value temporarily deviates from a set value because of sudden change of the process value or the like and the consumption of a reducing agent such as ammonia can be suppressed to the minimum.
プロセス値の突変等により、プロセス値が一時的に設定値から逸脱しても、ある一定時間内の平均値を所定の規定値以下に制御することができ、かつアンモニア等の還元剤の消費を最小限に抑えることができる処理装置の制御装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - When the concentration of the dissolved oxygen drops below a preset lower control limit, the concentration of the dissolved oxygen is increased through an oxidation process; when the concentration rises above a preset upper control limit, the concentration of the dissolved oxygen is reduced through a reduction process, whereby the concentration of the oxygen dissolved in the liquid metal is controlled.
そして、この溶解酸素濃度が予め設定された管理下限以下になった時、酸化処理により溶解酸素濃度を増加させ、予め設定された管理上限以上になった時、還元処理により溶解酸素濃度を減少させることにより液体金属中の溶解酸素濃度を制御する。 - 特許庁 - In the continuous manufacture of propylene oxide by reacting the organic peroxide with propylene, near infrared spectra in the epoxidation process below are continuously measured to analyze properties based on the obtained spectra and the reaction conditions of the epoxidation process are controlled based on the analyzed properties.
有機過酸化物とプロピレンを反応させてプロピレンオキサイドを連続的に製造するに際し、下記のエポキシ化工程の近赤外分光スペクトルを連続的に測定し、得られた分光スペクトルから物性を解析し、解析された物性に基づいてエポキシ化工程の反応条件を制御することを特徴とするプロピレンオキサイドの製造方法。 - 特許庁 - To provide a process for production of a coating liquid which is forming a porous (mesoporous) silica coated film and powder (including powder precursor) having a peak pore diameter over 5 nm and 10 nm or less and controlled to have a specific pore diameter, without using a specific template substance, and thus does not require a removal process of a template by calcination or extraction.
特定の鋳型物質を使用しないで、焼成および抽出に依る鋳型の除去工程が不要であり、ピーク細孔径が５ｎｍを超え１０ｎｍ以下の範囲で特定の細孔径に制御された多孔質（メソポーラス）シリカ被膜及び粉末（粉末前駆体を含む）を形成できる塗布液の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the substrate for a magnetic recording medium comprises: a slurry selection process 40 for selecting slurry whose surface tension is controlled so as to make a contact angle with the surface of a substrate to be subjected to texture processing have a value within a specific range; and a texture processing process 50 for applying texture processing the surface of the substrate by using the selected slurry.
テクスチャ加工を施すべき基板の表面に対する接触角が所定範囲内の値をとるように表面張力を制御したスラリーを選定するスラリー選定工程４０と、この選定されたスラリーを用いて基板の表面にテクスチャ加工を施すテクスチャ加工工程５０とを備える。 - 特許庁 - Consequently, the time of a cooling process after the boiling process of the liquid seasoning is shortened and the total boiling time is shortened so that the aminocarbonyl reaction is controlled and quality stability and microbiological safety of the product are secured.
これらの工程により、液体調味料炊き上げ工程後の冷却工程時間を短くし、総炊き上げ時間を短縮することでアミノカルボニル反応が抑制され、さらには製品の品質安定性及び微生物的安全性が確保された液体調味料及び液体調味料の製造方法を得る。 - 特許庁 - The method may include steps of producing the substrate having a bearing portion from a first material, spraying the particles of a second material onto the bearing portion in accordance with a predetermined spraying technique to provide a coating thereon, and subjecting the coated bearing portion to a hot isostatic compression molding process, a vacuum sintering process, or a controlled atmospheric sintering process.
本方法は、第１の材料から、ベアリング部分を有する基質を形成するステップと、所定の溶射技術にしたがって第２の材料からなる粒子を基質のベアリング部分に対して吹き付けて、前記ベアリング部分上にコーティングを設けるステップと、コーティングされたベアリング部分を熱間等静圧圧縮成形プロセス、真空焼結プロセス、又は、大気を制御した焼結プロセスに晒すステップとを含んでもよい。 - 特許庁 - The method may include the steps of producing a substrate having a bearing portion from a first material, spraying particles of a second material onto the bearing portion of the substrate in accordance with a predetermined spraying technique to provide a coating thereon, and subjecting the coated bearing portion to a hot isostatic press molding process, a vacuum sintering process, or a controlled atmospheric sintering process.
本方法は、第１の材料から、ベアリング部分を有する基質を形成するステップと、所定の溶射技術にしたがって第２の材料からなる粒子を前記基質の前記ベアリング部分に対して吹き付けて、前記ベアリング部分上にコーティングを設けるステップと、前記コーティングされた前記ベアリング部分を熱間等静圧圧縮成形プロセス、真空焼結プロセス、又は制御大気焼結プロセスに晒すステップとを含んでもよい。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device equipped with semiconductor elements in which stress of a region where the semiconductor elements are formed is controlled to improve mobility of electric charges, to provide its fabricating process and further to provide a semiconductor device fabricating process in which less crystal defect and less crystal transition are generated in a semiconductor element forming region even if a SOI structure is partially formed, and furthermore to provide the semiconductor device fabricated by the process.
半導体素子を形成する領域の応力を制御して、電荷の移動度を向上させた半導体素子を備えた半導体装置およびその製造方法、並びに、部分的にＳＯＩ構造を形成しても半導体素子を形成する領域に結晶欠陥や結晶転位がより少ない半導体装置の製造方法およびその方法により製造された半導体装置を提供することである。 - 特許庁 - To provide a silicon epitaxial layer where the haze of an epitaxial layer and the defect level of LPD, etc., are reduced and also oxygen precipitation is controlled under the condition that it be put into a temperature-lowered and time-shortened device process, and to provide its manufacturing method.
低温・短時間化されたデバイスプロセスに投入する前の状態で、エピ層のヘイズ、ＬＰＤ等の欠陥レベルが低減され、かつ酸素析出が制御されたシリコンエピタキシャルウエーハならびにその製造方法を提供する。 - 特許庁 - At the time of reproducing this optical disk, the linking sector in the ECC block is obtained based on the linking space of the control data area, and various kinds of the responsiveness for the signal process are adaptibly controlled in the signal section of the linking sector.
この光ディスクの再生時には管理データ領域のリンキング間隔に基づいて、ＥＣＣブロック内のリンキングセクタを求め、そのリンキングセクタの信号区間では信号処理のための各種応答特性を適応的に制御する。 - 特許庁 - To provide a distributed information control system capable of acquiring information to be controlled by each process controller under a distributed environment in a satisfactory timing, and reducing a network load and the calculation load of a distributed information controller.
分散環境下の各工程管理装置が管理する情報をタイミング良く取得し、ネットワーク負荷の低減、分散情報管理装置の計算負荷の低減を図ることができる分散情報管理システムなどを提供する。 - 特許庁 - In the production of an optical recording medium having a recording layer containing an organic dye and a metal layer on a substrate, after the metal layer is formed, the atmosphere of the carrying passage to carry the medium to the next process is controlled to ≤40% relative humidity.
基板上に有機色素を含有する記録層と金属層とを有する光記録媒体を製造するに際し、金属層を成膜した後、次工程に搬送する搬送路の雰囲気を相対湿度４０％以下とする。 - 特許庁 - In the down-shift, a clutch of a gear stage before a shift is opened, and is put in a neutral state (S1), and engine torque is controlled by making a feedback process so that an engine speed synchronizes with a transmission input side engine speed after the shift (S2 and S3).
ダウンシフト時に、変速前のギア段のクラッチを開放してニュートラル状態にする（Ｓ１）と共に、エンジン回転数が変速後の変速機入力側の回転数と同期するようにエンジントルクをフィードバック制御する（Ｓ２、Ｓ３）。 - 特許庁 - To provide a method for producing a support for a lithographic printing plate in which injury is not generated even in continuous operation, smut and an intermetallic compound are removed, a width for selecting a material is not narrowed, and a production process is not controlled severely.
連続運転でもキズを発生させず、スマットや金属間化合物が除去され、材料の選択の幅を狭めたり、製造工程を厳密に管理することなく、平版印刷版用支持体を製造する方法を提供する。 - 特許庁 - With a process of making a mixture paste for a positive electrode, fine hole volume per active material of a positive mix layer is controlled within 0.085 to 0.125 ml/g, mixing active material after kneading together and diluting a conductive agent beforehand.
正極の合剤ペースト作製工程において、予め導電剤を練合・希釈の後活物質を混合することにより、正極合剤層の活物質重量当り細孔容積を０．０８５〜０．１２５ｍl／ｇに制御する。 - 特許庁 - To efficiently obtain polyarylene sulfide (PAS) in which a volatile component is reduced and a chlorine content in recovery by a quench method is ≤1,000 ppm, and that in recovery by a flash process is ≤2,000 ppm, while a molecular weight is controlled.
分子量を制御しながら、揮発性成分を低減しかつクエンチ法での回収では塩素含有量１０００ｐｐｍ以下、フラッシュ法での回収では２０００ｐｐｍ以下のＰＡＳを効率的に得ることを課題とする。 - 特許庁 - In spite of process by the first control section, the drive shaft is controlled exclusively by the second control section, and by increasing the processing speed of the hardware of the second control section, the drive shaft can be operated exactly and quickly.
これにより、第１制御部での処理にかかわらず、駆動軸を第２制御部で専用に制御でき、また、第２制御部のハードウェアの処理速度を上昇させることで、正確で、かつ迅速に駆動軸を作動させることができる。 - 特許庁 - In a substrate cleaning process, clean air the relative humidity and temperature of which are controlled is supplied vertically downward toward the surface of the cleaning solution in the cleaning tank, and air in the draft is discharged in a displacement within a prescribed range.
基板洗浄装工程では、相対湿度・温度を制御したクリーンエアーを、洗浄槽の洗浄液液面に向けて鉛直方向下向きに供給するとともに、洗浄ドラフト内の空気を所定範囲内の排気量で排気する。 - 特許庁 - In this process, in the embodiment, by controlling the film thickness of the thin organic film 104, the number of layers of the graphene in the thin carbon film 104 growing on the surface of the metal layer 103 described later is controlled.
この工程において、本実施の形態では、有機薄膜１０４の膜厚を制御することで、後述する金属層１０３の表面に成長する炭素薄膜１０４におけるグラフェンの層数を制御するところに特徴がある。 - 特許庁 - To provide a voltage controlled oscillation circuit in which manufacturing process variation of an oscillation frequency (bias current) offset which occurs when using a depression type MOS transistor for control voltage input of a voltage/current converting part is corrected.
電圧電流変換部の制御電圧入力用ＭＯＳトランジスタにデプレッション型を使用した際に発生する発振周波数（バイアス電流）オフセットの製造プロセスばらつきが補正された電圧制御発振回路を提供する。 - 特許庁 - In the method for manufacturing the metal oxides, smoke produced in the vaporizing process of metal salts which vaporize at high temperature is introduced into a reaction field with a controlled atmosphere so as to allow an oxidation reaction to proceed to produce crystal grains of oxides.
高温で蒸発する金属塩の蒸発過程に発生したスモークを雰囲気制御した反応場に導入して酸化反応を進行させて酸化物結晶粒子を生成させる金属酸化物の製造法。 - 特許庁 - To provide a thin film transistor including an oxide semiconductor whose threshold voltage is controlled, operation speed is high, manufacturing process is relatively easy, and reliability is sufficient, and provide a manufacturing method for the same.
閾値電圧が制御され、動作速度が速く、製造工程が比較的簡単であり、十分な信頼性を有する、酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタの作製方法を提供することを課題の一つとする。 - 特許庁 - According to this process, a high degree of dechlorination can be attained by adjusting the residence time of the PVC, and besides the degree of dechlorination can be freely controlled, and dechlorination products can be obtained in high yields because the PET can remain undecomposed.
これにより、ＰＶＣ滞留時間を調整することで高い脱塩素率を達成できるばかりでなく、自在な脱塩素率に調節可能であり、ＰＥＴが分解しない分、脱塩素製品を高収率にて得ることができる。 - 特許庁 - The method for producing seaweed-containing rice-bran paste comprises utilizing viscosity of edible seaweed for rice-bran paste for pickles to facilitate increase of lactobacillus and accumulation of lactic acid to decrease accompanying respective pH so that the toxic microorganisms are controlled from an early stage of an aging process.
食用海藻が有する粘性を漬物用糠床に利用することで、乳酸菌の増殖や乳酸の蓄積が促進され、付随するｐＨの低下により熟成初期から有害微生物の制御が可能となる。 - 特許庁 - When performing this intermittent closing control, the closing timing TVID (and/or a closing period) of the intake opening-closing valve 18 is controlled by making a feedback process so as to reduce the intake pulsation detected from output of the air flowmeter 14.
そして、この間欠閉止制御の実行中に、エアフローメータ１４の出力から検出される吸気脈動が小さくなるように吸気開閉弁１８の閉止タイミングＴＶＩＤ（及び／又は閉止期間）をフィードバック制御する。 - 特許庁
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