「controlled process」を含む例文一覧(1033)

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  • The functional paper is manufacture by subjecting a raw material for paper obtained by compounding photocatalyst particles consisting of a porous material whose diameters of fine pores are controlled so that they have a fine pore diameter distribution in the range of 20-60 Å in terms of radius, and a powder or a sol to a paper making process.
    半径２０〜６０Åの細孔径分布を有する細孔径を制御した多孔質体および粉末またはゾルからなる光触媒粒子を配合した紙の原料を抄紙したことを特徴とする機能紙。 - 特許庁
  • A drive system coupled to the torque capstan is controlled by a control system in such a way that the torque capstan applies a certain amount of force to the optical cable in a direction substantially parallel to the direction in which the optical cable is being pulled during manufacturing process.
    トルク・キャプスタンに連結された駆動システムは、トルク・キャプスタンが光ケーブルに対して、製造工程中に光ケーブルが引っ張られる方向とほぼ平行な方向に一定の力を加えるように制御システムによって制御される。 - 特許庁
  • By this, even if there is malfunction in one of the combustion control device 4 or the safety control device 5, since a process for stopping combustion is carried out by the other device, combustion can be controlled more safely.
    これにより、燃焼制御装置４および安全制御装置５のうちの一方に異常が生じても、他方の装置より燃焼を停止するための処理が行われるので、より安全に燃焼を制御することができる。 - 特許庁
  • The pressure in the processing chamber is reduced, the flow of a process gas is started in the processing chamber, the impedance of an RF system including an electrode is controlled to match desired impedance, and uniformly dense plasma of ions is provided.
    処理チャンバ内の圧力は低減され、処理ガスのフローが処理チャンバに開始され、電極を含むＲＦシステムのインピーダンスを所望のインピーダンスに整合するよう制御され、イオンの均一な密度のプラズマが提供される。 - 特許庁
  • To provide a process for producing a surface-treated metal oxide powder by which agglomerated by-products originated from aminoalkylalkoxysilane is controlled in producing a surface-treated metal oxide surface-treated with aminoalkylalkoxysilane and hexamethyldisilazane.
    アミノアルキルアルコキシシラン及び、ヘキサメチルジシラザンで表面処理された表面処理金属酸化物の製造において、アミノアルキルアルコキシシラン由来の凝集物の副生が抑制された表面処理金属酸化物の製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a polycarbonate sheet having its retardation value controlled to a low arbitrary value, containing no residual solvent and improved in thermal dimensional stability, to provide an optical sheet, and a process for producing a noncrystalline polymer sheet.
    リタデーション値を小さくかつ任意の値に制御でき、残留溶剤が存在せず、さらに熱的寸法安定性が向上するポリカーボネートシート、光学シート及び非晶質ポリマーシートの製造方法の提供を目的とするものである。 - 特許庁
  • To provide a process for preparation of a protein mediated calcium hydroxyapatite (HAp) coating on a metal substrate, particularly on stainless steel (316L) by biomimetic route, enabling rapid and effective osteointegration with a host tissue following a controlled interfacial reaction.
    金属基材、特にステンレススチール(316 L)上に、バイオミメティック経路によって、制御された界面反応後に宿主組織と迅速かつ効率的な骨統合可能なタンパク質媒介カルシウムヒドロキシアパタイト(HAp)コーティングを作製する方法を提供する。 - 特許庁
  • When the profile related to the location exists, the microprocessor 20 retrieves the profile in a process 74a, the retrieved profile information is transmitted to a suspension element 18 capable of being controlled, and the suspension element executes the trajectory plan.
    その位置に関連したプロファイルがある場合には、工程７４ａでマイクロプロセッサ２０がプロファイルを検索し、検索されたプロファイル情報を制御可能なサスペンションエレメント１８に伝達し、サスペンションエレメントが軌道計画を実行する。 - 特許庁
  • In the process (1): a mixture aqueous solution comprising sulfates and an alkaline aqueous solution are simultaneously continuously put into a reaction bath controlled at 40-90°C while keeping pH at 9-11, and a nickel cobalt manganese composite hydroxide is precipitated.
    工程（イ）：４０〜９０℃の温度に制御した反応槽内へ、硫酸塩からなる混合水溶液とアルカリ水溶液とを、同時に連続的に投入しながら、ｐＨを９〜１１に保持し、ニッケルコバルトマンガン複合水酸化物を共沈させる。 - 特許庁
  • To provide a coating liquid for forming a porous film which can easily form a thin film having an arbitrarily controlled thickness by a method used in a usual semiconductor process and gives a porous film exhibiting excellent dielectric characteristics and mechanical characteristics.
    通常の半導体プロセスに用いられる方法によって、容易に、任意に制御された膜厚の薄膜が形成可能であり、優れた誘電特性及び機械的特性有する多孔質膜形成用塗布液を提供する。 - 特許庁
  • To obtain a polyacrylonitrile-based oxidized fiber spun yarn in which occurrences of end breakages and fluff in woven fabric processing and in the carbonization process of woven fabric are controlled and high-quality spun yarn woven fabric and carbon fiber spun yarn woven fabric are obtained.
    織物加工時や織物の炭素化工程における糸切れやケバ発生を抑制し、品位の高い紡績糸織物、炭素繊維紡績糸織物を得ることができるポリアクリロニトリル系酸化繊維紡績糸を提供する。 - 特許庁
  • In the process for producing the lightweight cellular concrete using a powdery siliceous raw material and the calcareous raw material as main components, the weight ratio of calcareous content to the siliceous content in the raw material is controlled to be in a range of 0.30-0.45.
    粉末状の珪酸質原料と石灰質原料を主原料とした軽量気泡コンクリートの製造方法において、原料中のカルシウム分／珪酸分の重量比を０．３０〜０．４５とすることを特徴とする。 - 特許庁
  • Thereby, it becomes possible to produce the artificial crystal material with a simple device, at a low cost, with a simple process not necessitating conditions to be controlled, energy and a complicated article, with a good reproducibility and in a short period of time.
    これにより、簡単な装置で、低コストで、制御する条件やエネルギーも必要とせず、複雑なものも必要としない簡便なプロセスで、かつ再現性よく高品質の人工結晶体を短時間で製造することが可能となる。 - 特許庁
  • The pump is controlled to maintain operation amount of the pump at a time of determination process execution (after time t11) smaller than operation amount supplying air to an exhaust passage at a time of normal operation (before time t11) (fig "c").
    判定処理の実行時におけるポンプの作動量が（時刻ｔ１１以降）、排気通路に空気を供給する通常運転時における作動量よりも（時刻ｔ１１以前）、少なくなるようにポンプを制御する（同図［ｃ］）。 - 特許庁
  • More concretely, at a nucleus formation stage, the W film formation is carried out by a CVD process using WF6-SiH4-based gas, at which time it is controlled that the film formation based on reduction of H2 gas is not carried.
    具体的には、核形成段階において、Ｗの成膜を、ＷＦ_6 （六フッ化タングステン）−ＳｉＨ_4 （シラン）系のガスを用いたＣＶＤ法により行なうが、このとき、Ｈ_2 ガスの還元による成膜が行なわれないようにする。 - 特許庁
  • To provide a silicon epitaxial wafer and a production method therefor, with which the defect level of haze or LPD of an expitaxial layer is reduced and oxygen deposition is controlled in a state before putting into the device process of low temperature and short time.
    低温・短時間化されたデバイスプロセスに投入する前の状態で、エピ層のヘイズ、ＬＰＤ等の欠陥レベルが低減され、かつ酸素析出が制御されたシリコンエピタキシャルウエーハならびにその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • Rice is stored in the rice washing part, bran-removing is performed by driving and rotating a blade members disposed inside the rice washing part with the driver 50 and the load containing the driver 50 is controlled in accordance with a specified process by using a controlling means 7.
    米とぎ部に米を収納しかつ内部に配設した羽根部材を駆動装置５０により駆動して回転させて除糠し、制御手段７により駆動装置５０を含む負荷を所定の工程に従い制御する。 - 特許庁
  • The generation amounts of hydrogen and oxygen can be controlled to be H_2:O_2=2:1 by positively utilizing the excess and deficiency of circulation substances, generated in a reaction device system, and mainly using the flow rate and the level of liquid which are easily treated as a chemical process.
    反応装置系内に生じる循環物質の過不足を積極的に利用し、化学プロセスとして扱いが容易な流量、液位を主として用いて水素と酸索の発生量をH_2:O_2=2:1に制御可能にした。 - 特許庁
  • Since the land 2 is not pressed by the screw head 3a even if it is exposed to elevated temperature in a process for connecting the screw head 3a electrically with the land 2 by solder, lifting of the land 2 from the surface of the substrate 1 can be controlled.
    ネジ頭部３ａを半田にてランド２と電気的に接続する工程で高温化に曝されも、ネジ頭部３ａによってランド２が圧迫されることが無いので、ランド２が基板１の表面から浮き上がることが抑制できる。 - 特許庁
  • This process for producing a protein with reduction of an acidic sugar chain includes: controlling a gene participating in the addition of mannose phosphate to a sugar chain of a glycoprotein originating in a yeast belonging to the genus Pichia; and producing a protein with reduction of the acidic sugar chain by using the gene-controlled yeast strain belonging to the genus Pichia.
    ピキア属酵母に由来する糖蛋白質の糖鎖へのマンノースリン酸付加に携わる遺伝子を制御し、該遺伝子が制御されたピキア属酵母株を用いて酸性糖鎖減少蛋白質を製造する方法。 - 特許庁
  • To automatically detect a new target velocity and to apply it as a new target value to be controlled by making invalid a control process up to the moment when changing velocity, and storing the momentary velocity at the point of time as the new target velocity after the end of velocity change.
    ドライバに対し付加的なプログラミングの煩雑さを与えることなく制御装置により新たな目標速度を自動的に検出して、コントロールすべき新たな目標値としてまえもって与えることができるようにする。 - 特許庁
  • At the same time when the first locus is displayed in the process for a step S33, the display is controlled so that the first locus is superimposed to display the second locus on the area with the second space overlaying on the area with the first space.
    ステップＳ３３の処理において、第１の軌跡の表示と同時に、第１の大きさの領域と重複する第２の大きさの領域に、第１の軌跡に重ねて、第２の軌跡を表示するように表示が制御される。 - 特許庁
  • When the printing ratio in a prescribed main scanning width becomes equal to or exceeding a prescribed value, and also, when the estimation of the printing ratio and the accumulated number of pixels in a sub scanning direction becomes equal to or exceeding a prescribed value, the rotation of a developer carrier is controlled after finishing an image forming process.
    所定の主走査幅の印字比率が、所定値以上、かつ印字比率と副走査方向画素累積数の積算が所定値以上になった時、画像形成終了後に現像剤担持体の回転を制御する。 - 特許庁
  • According to this invention, the problems in an etching step performed in the existing top-down system thin film manufacturing process are remarkably reduced, and further, the pattern of the nanostructure can be freely controlled in the nano-thin film structure.
    本発明によると、既存のトップ-ダウン方式の薄膜製造工程で行われている蝕刻工程の問題点を著しく減少させ、さらにナノ薄膜構造においてナノ構造の模様を自由に制御することができる。 - 特許庁
  • To provide a thin film transistor including an oxide semiconductor with a controlled threshold voltage, high operation speed, a relatively easy manufacturing process, and sufficient reliability, and to provide a method of manufacturing the thin film transistor.
    閾値電圧が制御され、動作速度が速く、製造工程が比較的簡単であり、十分な信頼性を有する、酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタの作製方法を提供することを課題の一つとする。 - 特許庁
  • When cement clinker G2 is produced by feeding a mixture K of the waste tires T and the waste plastics P in a cement firing process, the mixing ratio of the waste tires T is controlled according to the measured value of the iron concentration in the cement clinker G2.
    廃タイヤＴと廃プラスチックＰの混合物Ｋをセメント焼成工程に投入してセメントクリンカＧ２を製造するに際し、セメントクリンカＧ２中の鉄分濃度の測定値に応じて廃タイヤＴの混合率を調整する。 - 特許庁
  • Bunan no Koji Sodo was an incident in which Kitano koji za (a guild in Kitano for producers of koji malt, a kind of mold grown on produce such as boiled rice), who controlled production of koji malt (which is part of the sake brewing process) in Kyoto, was attacked by the Muromachi bakufu (Japanese feudal government headed by a shogun) causing its decline during the Muromachi Period.
    文安の麹騒動（ぶんあんのこうじそうどう）とは、室町時代、京都において酒造工程の一つである麹造りを支配していた座（北野麹座）が室町幕府の攻撃を受けて没落した事件。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • To provide a barium titanate fine particle which is free from agglomeration, excellent in dispersibility, and has a controlled particle size, a uniform particle shape, reduced amounts of residual hydroxyl groups or absorbed water, and a manufacturing process thereof.
    粒子径の制御が可能であり、凝集がなく分散性に優れ、粒子形態が均一であり、残存水酸基又は吸着水を低減した、高い結晶性を有するチタン酸バリウム微粒子及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • Target consumption torque Tareq is delayed to the target correction torque of the engine by prescribed delay time, and consumption torque of the alternator 36 is controlled based on target consumption torque Talpd of the alternator 36 after delay process (blocks 126, 128).
    目標消費トルクＴareqがエンジンの目標修正トルクに対し所定の遅延時間遅延され、遅延処理後のオルタネータ３６の目標消費トルクＴalpdに基づいてオルタネータ３６の消費トルクが制御される（ブロック１２６、１２８）。 - 特許庁
  • To provide a new process to manufacture quartz glass formed articles having an excellent ultraviolet transmitting property with a high production efficiency and a new quartz glass with controlled ultraviolet-absorption edges and oxygen-deficient defects.
    優れた紫外線透過特性を有する石英ガラス成形品を、高い生産効率で製造することができる新規な方法、及び、紫外吸収端と酸素欠乏欠陥が制御された新規な石英ガラスを提供する。 - 特許庁
  • A silicon premelting furnace chamber controlled under different standard provides a continuous supply source of molten silicon to the growth crucible while advantageously eliminating necessity of vertical movement and crucible pull-up system during crystal pull-up process.
    異なる基準で制御されたシリコンプレ溶融炉チャンバは、結晶引上処理中の垂直移動及び坩堝引上システムの必要性を有利に除去した、成長坩堝への溶融シリコンの連続的な供給源を提供する。 - 特許庁
  • The amount of the mol of the alkali metal hydroxide in the water phase in the reaction mixture formed by the process (2) is 2-3 times the amount of the mol of the starting compound and the concentration of the alkali metal hydroxide is controlled in 35-55 mass %.
    このとき工程（２）により生成する反応混合物中の水相中のアルカリ金属水酸化物のモル量を、出発化合物の２〜３倍モル量とし、かつ、その濃度を、３５〜５５質量％にコントロールする。 - 特許庁
  • The mildew cheese is obtained by pouring a flavoring substance into mildew cheese in a maturing process with a physical method so as to add a controlled fixed amount of the flavoring substance to a decided position without giving influence of the flavoring substance to whey.
    熟成過程の白カビチーズに風味物質を物理的方法にて注入することにより、ホエイに風味物質の影響を与えることなく、風味物質を一定量コントロールして決められた位置に添加することができる。 - 特許庁
  • In the aluminizing process, the amount of unreactive aluminum in the coating chamber can be controlled by changing the flow velocity of the gas flowing through the coating chamber so that a part of unreacted aluminum can be swept away from the coating chamber by the gas.
    アルミナイジングプロセス中、コーティングチャンバ内の非反応アルミニウムの量は、未反応アルミニウムの一部が上記ガスによってコーティングチャンバから掃去されるようにコーティングチャンバ内を流れるガス流速を変えることによって制御される。 - 特許庁
  • The method for manufacturing the resist stripper having stable pH is characterized in that the pH is controlled by using an aqueous solution of the hydroxycarboxylic acid having ≤1/9 ratio of the condensed product to the monomers in the aqueous solution in the process of manufacturing the resist stripper.
    また、レジスト剥離剤の製造に際し、ヒドロキシカルボン酸水溶液中の縮合体／単量体が１／９以下であるヒドロキシカルボン酸水溶液を用いてｐＨ調整を行うｐＨの安定したレジスト剥離剤の製造方法。 - 特許庁
  • To provide a voltage controlled variable capacitor that can be its manufactured without changing the conventional manufacture process, or adding any new process, preventing the circuit from being largely scaled or integrated into a high voltage, preventing the maximum value and minimum value of the capacitance per the unit area of an electrode from being fluctuated, and arbitrarily selecting high frequency C-V characteristics.
    従来の製造プロセスを変更したり、新たなプロセスを追加したりすることなく製造でき、回路が大型化及び高電圧化することがなく、電極の単位面積あたりの容量の最大値及び最小値が変動することがなく、高周波Ｃ−Ｖ特性を任意に選択できる電圧制御可変容量素子を提供する。 - 特許庁
  • As for the method for manufacturing the electrophotographic photoreceptor supporting body with the anodic oxide film formed on the electrophotographic photoreceptor supporting body by applying anodic oxidation processing, copper ion density in a processing tank is controlled to be ≤20 ppm at a process up to a sealing process after the anodic oxidation processing.
    陽極酸化処理を施して電子写真感光体用支持体上に陽極酸化被膜を形成する電子写真感光体用支持体の製造方法において、陽極酸化処理以降、封孔までの工程の処理槽中の銅イオン濃度が、２０ｐｐｍ以下であることを特徴とする電子写真感光体用支持体の製造方法。 - 特許庁
  • In the consulting company supporting the certification acquisition, a work schedule requiring the shortest time to complete the whole processes for certification acquisition are automatically created on the basis of external process information on processes of an external certification institute in which control orders and contents of the processes cannot be controlled and internal process information being controllable.
    認証取得を支援するコンサルティング会社において、その工程の順序や内容を制御することができない外部の認証機関における工程である外部工程情報と、制御することができる内部工程情報を基に、認証取得に係る全ての工程を終えるのに要する時間が最短である工程表を自動作成する。 - 特許庁
  • A mark for controlling a manufacturing process is given to a region where no laser beams for laser scribing for each layer are applied of a peripheral region of a surface opposite to a surface where a light transmission substrate is formed, or a side surface, the mark is read in succeeding manufacturing processes, the read mark is utilized, and each manufacturing process is controlled.
    透光性基板の成膜される面とは反対側の面の周縁領域または側面の、各層に対するレーザースクライブのためのレーザー光が照射されない領域に、製造工程の管理のためのマークを付し、以後の各製造工程において、前記マークを読取り、読取られたマークを利用して各製造工程の管理を行うことを特徴とする。 - 特許庁
  • To provide a fluid temperature control device capable of quickly and precisely performing temperature control to a temperature-controlled fluid, and minimizing a device as small as possible, with respect to the fluid temperature control device suitably used for management of the temperature of process liquid, in particular, in a manufacturing process of a semiconductor device.
    本発明は、特に半導体装置の製造プロセスにおける処理液の温度管理に適用して好適な流体温調装置を対象とし、その目的は、被温調流体に対する温度調節を迅速かつ精密に実施することができ、併せて装置の可及的なコンパクト化をも達成し得る流体温調装置を提供することにある。 - 特許庁
  • The production method for the silicone resin contains a process to form a silica hydrosol by almost continuously polymerization of sodium silicate in the presence of an acid in an aqueous medium, a process to almost continuously control the silica hydrosol using an alcohol, and a process to almost continuously seal the controlled silica hydrosol in a reaction mixture consisting of water and an organic solvent and/or a siloxane fluid by using an organosilicone sealing compound.
    シリコーン樹脂の製造方法は、ケイ酸ナトリウムを水性媒体中酸の存在下でほぼ連続的に重合してシリカヒドロゾルを形成する工程と、このシリカヒドルゾルをアルコールでほぼ連続的に抑制する工程と、水と有機溶剤および／またはシロキサン流体とからなる反応混合物中の抑制済みシリカヒドロゾルをオルガノシリコン封止化合物でほぼ連続的に封止してシリコーン樹脂を形成する工程とを含む。 - 特許庁
  • The process for controlling the production process such as the isocyanate production process conducted with a production facility having (a) at least two incoming streams, (b) at least one exit stream and (c) at least one inner recycling stream is controlled by adjusting at least one inner recycling stream amount by means of regulating control to control the exit stream concentration and/or amount.
    製造設備を用いて行うイソシアネート製造プロセス等の製造プロセスを制御する方法であって、製造設備が（ａ）少なくとも２つの流入ストリーム、（ｂ）少なくとも１つの出口ストリームおよび（ｃ）少なくとも１つの内部リサイクル・ストリームを有して成り、製造プロセスにおいて、出口ストリームの濃度および／または量が制御されるように、少なくとも１つの内部リサイクル・ストリームの量を調整制御によって調整する方法。 - 特許庁
  • To provide a digital controlled oscillator which can be configured on a semiconductor chip by a simple production process without external component, has a low phase jitter, improved absolute accuracy of a self-running frequency and has reduced temperature dependency and power supply voltage dependency of an oscillation frequency.
    簡単な製造工程で、外付け部品なしに半導体チップ上に構成でき、位相ジッタも低く、自走周波数の絶対精度が高く、発振周波数の温度依存性と電源電圧依存性が小さいデジタル制御発振器を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for producing a polyimide polymer by which the rise in the viscosity of the polymer liquid is controlled to prevent the polymer liquid from winding around a stirrer on the production of the polyimidosiloxane and which does not need a special operation for lowering the viscosity during the process.
    ポリイミドシロキサンの製造における、重合液の粘度上昇を押さえて攪拌機への重合液の巻き付けを防止し、工程中に粘度を低下させるための特別な操作を必要としないポリイミド重合体の製造法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a process for producing a mutilayer printed wiring board in which a recess above the through hole of an insulating layer to be formed is controlled in a method for forming the insulating layer by filling the through hole with an adhesive film and, at the same time, laminating the surface of a substrate.
    接着フィルムにより、スルーホールの穴埋めと基板表面のラミネートを同時に行うことにより絶縁層を形成する方法において、形成される絶縁層のスルーホール上の凹みを抑制する、プリント配線板の製造方法の提供。 - 特許庁
  • The semiconductor device also comprises a polycrystal semiconductor film of a high quality in which a grain boundary, a grain size, a crystal orientation can be controlled and a roughness of a film and a crystal defect generated in a process of crystallization are reduced, on the insulating board.
    本願発明によれば、絶縁体基板上に、粒界、粒径、結晶方位を制御でき、結晶化の仮定で生じる膜のラフネスと結晶欠陥を低減した高品質の多結晶半導体膜を有する半導体装置を得ることが出来る。 - 特許庁
  • To provide a process for easily combining a polymer latex and a swellable layered silicate, and to provide a polymer blend of which dispersity of the layered silicate is improved and lowering of impact resistance is controlled by melt-kneading the composite material with a polymer.
    高分子ラテックスと膨潤性層状ケイ酸塩を容易に複合化する方法、該複合材料をポリマーと溶融混練することにより層状ケイ酸塩の分散性の向上、耐衝撃性の低下を抑制したポリマーブレンドを提供すること。 - 特許庁
  • In the case when at least one rare earth element and the Cu-based oxide are added to BaTiO3 and the process for sintering the resulting mixture is controlled under an oxygen atmosphere, the high density, superfine particulate BaTiO3 dielectric ceramic can be obtained at a low temperature.
    本発明によると、ＢａＴｉＯ_３に稀土類元素及びＣｕ系酸化物を添加し焼結工程を酸素雰囲気で制御することにより低温にて高密度で超微粒のＢａＴｉＯ_３系誘電体セラミックスを得ることが出来る。 - 特許庁
  • A high voltage power source unit 18 including an electrifying power source for electrifying a photoreceptor drum and a developing power source for development is controlled by an image forming control circuit 12, and the output condition of the electrifying power source is monitored by a CPU 13 in electrophotographic process.
    電子写真プロセスで感光ドラムを帯電する帯電電源と現像用の現像電源を含む高圧電源ユニット１８を画像形成制御回路１２により制御し、また帯電電源の出力状態をＣＰＵ１３により監視する。 - 特許庁
  • In a continuous casting process for continuously casting molten steel at casting speed in the range of 1.0-3.0 m/min, the tapered degree of the short side of a mold 1 for continuous casting, is controlled according to the casting speed of the molten steel to be cast and a super-heat quantity.
    鋳造速度を１．０〜３．０ｍ／ｍｉｎの範囲内で溶鋼を連続鋳造する連続鋳造工程において、前記鋳造する溶鋼の鋳造速度、スーパーヒート量に応じて、連続鋳造用鋳型１の短辺のテーパー量を制御する。 - 特許庁
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