「etching method」を含む例文一覧(6852)
＜前へ 1 2 .... 29 30 31 32 33 34 35 36 37 .... 137 138 次へ＞- METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT, METHOD FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND DRY ETCHING APPARATUS
半導体素子の製造方法、半導体基板の加工方法及びドライエッチング装置 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR END POINT DETECTION OF PLASMA ETCHING, METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA ETCHING, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROOPTIC SUBSTRATE, ELECTRO-OPTICAL APPARATUS, AND ELECTRONIC APPARATUS
プラズマエッチングの終点検出方法及び装置、プラズマエッチング方法及び装置、並びに電気光学基板の製造方法、電気光学装置、電子機器 - 特許庁 - WET ETCHING METHOD, DAMAGED LAYER REMOVING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD
ウェットエッチング方法、ダメージ層除去方法、半導体装置の製造方法、および半導体基板の製造方法 - 特許庁 - To provide an etching method of a zinc oxide-based material, which can evenly etch the zinc oxide-based material without generating etching residues.
エッチング残渣を発生させず平坦にエッチングできる酸化亜鉛系材料のエッチング方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an etching method which can perform etching of an optical fiber while controlling the diameter dimension of the optical fiber.
光ファイバの直径寸法を制御しながらのエッチングが可能となる、光ファイバのエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an etching method capable of processing materializing a wiring according to its design without causing side etching.
サイドエッチを発生させずに、設計通りの配線幅を有する加工が可能なエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an etching method for obtaining a highly precise and minute pattern by reducing remaining of an etching residue.
エッチング残渣の残留を低減し、高精度でかつ微細なパターンを得ることができるエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a surface treatment method of an aluminum material where, upon the etching of aluminum foil for electrolytic capacitor, satisfactory etching properties are secured by pretreatment.
電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッチングに際し、前処理によって良好なエッチング性を確保する。 - 特許庁 - In the dry etching method, a high frequency voltage is modulated in an amplitude modulation(AM) manner and then applied as a bias voltage in a plasma etching apparatus.
プラズマエッチング装置において、高周波電圧をＡＭ変調したものをバイアス電圧として印加する。 - 特許庁 - ETCHING TREATMENT EQUIPMENT OF SUBSTRATE FOR PRINTED WIRING BOARD AND ETCHING TREATMENT METHOD USING THE EQUIPMENT
プリント配線板用基板のエッチング処理装置とその装置を用いたプリント配線板用基板のエッチング処理方法 - 特許庁 - To provide a metallic pattern forming method capable of suppressing both the side etching and the over-etching.
サイドエッチングおよびオーバーエッチングの双方を抑制することができる金属パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - A photochemical etching silicon 1 produced by a photochemical etching method has characteristics of maintaining the polarized state of light.
フォトケミカルエッチング法で作成したフォトケミカルエッチングシリコン１は、光の偏光状態を保存するという特性を持つ。 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF METAL ETCHING PRODUCT WITH INSULATING TREATMENT APPLIED AND METAL ETCHING PRODUCT WITH INSULATING TREATMENT APPLIED
絶縁処理を施した金属エッチング製品の製造方法および絶縁処理を施した金属エッチング製品 - 特許庁 - To provide an etching solution for removing molybdenum residues from a copper molybdenum film and an etching method therefore.
本発明は銅モリブデン膜でモリブデンの残渣を除去するエッチング溶液及びそのエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an etching method allowing microfabrication, and capable of stably and excellently etching an object.
微細化を可能にすると共に、安定して良好な腐刻を行うことを可能にする腐刻方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an etching method capable of widening the frontage of a pattern of an etching mask even in a dry process.
ドライプロセスにおいてもエッチングマスクのパターンの間口を広くすることができるエッチング方法を提供すること。 - 特許庁 - PLASMA ETCHING METHOD, PLASMA ETCHING APPARATUS, CONTROL PROGRAM, COMPUTER RECORDING MEDIUM, AND RECORDING MEDIUM RECORDED WITH TREATMENT RECIPE
プラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置、制御プログラム、コンピュータ記録媒体及び処理レシピが記録された記録媒体 - 特許庁 - To provide a plasma-processing device or a dry-etching method for etching a film structure having steps with high accuracy.
段差を有する膜構造を高精度にエッチングするプラズマ処理装置またはドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - In the method for manufacturing anisotropic etching is carried out on a substrate, isotropic etching is performed.
本発明は、マスクを形成し、基板に異方性エッチングを行った後、等方性エッチングを行うことを特徴とする。 - 特許庁 - INDIRECT ENERGIZING TYPE CONTINUOUS ELECTROLYTIC ETCHING METHOD AND INDIRECT ENERGIZING TYPE CONTINUOUS ELECTROLYTIC ETCHING APPARATUS FOR METALLIC STRIP
金属帯の間接通電式連続電解エッチング方法および間接通電式連続電解エッチング装置 - 特許庁 - A hybrid porous tube body 100 is obtained by putting the base material 3 under an etching removal process by a wet etching method (d).
基材３をウエットエッチング法によりエッチング除去して混成型多孔質管体１００を得る〔（ｄ）〕。 - 特許庁 - The high accurate pixel electrode pattern is formed when the etching of the pixel electrodes 6 is carried out by a dry etching method.
画素電極６のエッチングをドライエッチングによって行えば、高精度な画素電極パターンを形成できる。 - 特許庁 - The method remarkably improves etching homogeneity of the wet etching process which selectively eliminates the oxidized film.
又、酸化膜を選択的に除去するウエットエッチング工程のエッチング均一性を大きく向上させることができる。 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING MULTILAYER FILM UTILIZING PRODUCTION PROCESS USING ETCHING TECHNIQUE AND ETCHING FILM PRODUCTION DEVICE THEREFOR
エッチング技術を使った製造工程を利用した多層膜の製造方法及びそのエッチング膜製造装置 - 特許庁 - DIRECT ENERGIZING TYPE CONTINUOUS ELECTROLYTIC ETCHING METHOD AND DIRECT ENERGIZING TYPE CONTINUOUS ELECTROLYTIC ETCHING APPARATUS FOR METALLIC STRIP
金属帯の直接通電式連続電解エッチング方法および直接通電式連続電解エッチング装置 - 特許庁 - To provide a method of selectively etching only the prescribed part of a resin film in an etching of the resin film.
樹脂膜のエッチングにおいて所定の部分のみを選択的にエッチングする方法を提供するものである。 - 特許庁 - To provide an etching method by which etch pits can be produced easily and safely, a crystallinity evaluating method using the etching method, and a semiconductor device manufacturing method using the crystallinity evaluating method.
簡単かつ安全にエッチピットを出すことができるエッチング方法およびそれを用いた結晶評価方法並びにそれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method that improves etching pattern precision.
エッチングのパターン精度を良くするパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - ETCHING METHOD OF CONDUCTOR LAYER AND MANUFACTURE OF PRINTED WIRING BOARD
導体層のエッチング方法およびプリント配線板の製造方法 - 特許庁 - To provide a method and a device for end point detection which can accurately detect an etching end point for a gas-switching etching method.
ガススイッチングエッチング法において、正確にエッチング終点を検出することができる終点検出方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR ETCHING SURFACE OF WIRING BOARD
配線基板の表面エッチング方法及びこれに用いるエッチング装置 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD FOR ETCHING LEAD FRAME, AND CUTTING APPARATUS USING SAME
エッチングリードフレームの製造方法およびこれに用いる切断装置 - 特許庁 - CONTROL METHOD OF PENETRATING HOLE DIAMETER IN THE CASE OF ETCHING POLYIMIDE FILM BASE SUBSTANCE
ポリイミドフィルム基材のエッチングにおける貫通孔径制御方法 - 特許庁 - FORMING METHOD OF ETCHING MASK, CONTROL PROGRAM, AND PROGRAM STORAGE MEDIUM
エッチングマスクの形成方法、制御プログラム及びプログラム記憶媒体 - 特許庁 - To provide an etching method which enables a semiconductor to be etched stably.
半導体を安定してエッチングし得るエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - The method for etching a surface to be processed is provided by using the photoresist solution.
前記フォトレジスト液を使用する被加工表面のエッチング方法。 - 特許庁 - To provide a method for ensuring improved etching control in terms of semiconductor fabrication method containing an insulating film dry etching process.
絶縁膜のドライエッチング工程を含む半導体装置の製造方法において、エッチング加工制御性を向上する手段を提供する。 - 特許庁 - ETCHING METHOD, PRODUCTION OF PATTERN FORMING SUBSTRATE AND ACTIVE MATRIX SUBSTRATE
エッチング方法、パタ—ン形成基板の製造方法、アクティブマトリクス基板 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR ETCHING LASER MARKED DISK-LIKE MEMBER
レーザマークがされた円板状部材のエッチング方法及びその装置 - 特許庁 - ETCHING METHOD FOR GALLIUM ARSENIDE LAYER AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR ELEMENT
ＧａＡｓ層のエッチング方法および半導体素子の製造方法 - 特許庁 - ETCHING METHOD, MICRO-LENS SUBSTRATE, TRANSPARENT TYPE SCREEN AND REAR TYPE PROJECTOR
エッチング方法、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタ - 特許庁 - PLASMA ETCHING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURED USING THE SAME
プラズマエッチング方法およびこれを用いて製造された半導体装置 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING LOW-TEMPERATURE EXPANSION ALLOY SHEET SUPERIOR IN ETCHING PROPERTY
エッチング性に優れた低熱膨張合金薄板の製造方法 - 特許庁 - TRANSFER MATERIAL FOR LASER ETCHING, AND METHOD FOR MANUFACTURING MULTICOLOR MOLDED ARTICLE
レーザエッチング用転写材および多色成形品の製造方法 - 特許庁 - FINELY-PROCESSED METALLIC PRODUCT BY SPRAY ETCHING, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
スプレーエッチングによる金属微細加工製品及びその製造方法 - 特許庁 - ETCHING SOLUTION FOR MASK FOR DISPLAY, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK FOR DISPLAY
ディスプレイ用マスクエッチング液およびディスプレイ用マスクの製造方法 - 特許庁 - To provide the manufacturing method of a semiconductor element without etching irregularities.
エッチングむらの無い半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing semiconductor devices which constitutes a method of etching that replaces selective etching of SiN film that uses phosphoric acid.
ＳｉＮ膜の燐酸を用いた選択的エッチングに代替するエッチング方法を有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD FOR COLD ROLLED SHEET OF Fe-Ni BASED ALLOY FOR ETCHING
エッチング素材用Ｆｅ−Ｎｉ系合金冷延板の製造方法 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING SIDE ETCHING AMOUNT OF SEMICONDUCTOR DEVICE
半導体装置のサイドエッチング量の測定方法及び測定装置 - 特許庁
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