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「etching」を含む例文一覧(19972)
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DRY
ETCHING
SYSTEM AND DRY
ETCHING
METHOD
ドライエッチング装置、及びドライエッチング方法
- 特許庁
ETCHING
ANALYSIS METHOD AND
ETCHING
METHOD
エッチング解析方法及びエッチング方法
- 特許庁
PLASMA
ETCHING
DEVICE AND
ETCHING
METHOD
プラズマエッチング装置およびエッチングの方法
- 特許庁
(viii)
etching
testing machine
八 腐食試験機
- 日本法令外国語訳データベースシステム
Si
ETCHING
METHOD
Siエッチング方法
- 特許庁
ETCHING
SOLUTION COMPOSITION
エッチング液組成物
- 特許庁
ETCHING
METHOD AND
ETCHING
PROCESS DEVICE
エッチング方法およびエッチング処理装置
- 特許庁
ETCHING
TREATMENT METHOD
エッチング処理方法
- 特許庁
DRY
ETCHING
METHOD
ドライエッチングの方法
- 特許庁
ETCHING
AGENT COMPOSITION
エッチング剤組成物
- 特許庁
ETCHING
MASK COMPOSITION
エッチングマスク組成物
- 特許庁
ETCHING
TREATMENT STRUCTURE AND
ETCHING
METHOD
エッチング加工構造及びエッチング方法
- 特許庁
The
etching
step is performed by dry
etching
in which an
etching
gas is used.
エッチング工程は、エッチングガスによるドライエッチングを用いる。
- 特許庁
COMPOSITION FOR
ETCHING
エッチング用組成物
- 特許庁
COMPOSITION FOR
ETCHING
AND
ETCHING
METHOD
エッチング用組成物及びエッチング方法
- 特許庁
ETCHING
LIQUID COMPOSITION
エッチング液組成物
- 特許庁
ETCHING
AGENT FOR GLASS
ガラス用エッチング剤
- 特許庁
MONITOR FOR DRY
ETCHING
ドライエッチングのモニター
- 特許庁
DRY
ETCHING
APPARATUS AND DRY
ETCHING
METHOD
ドライエッチング装置及びドライエッチング方法
- 特許庁
DRY
ETCHING
METHOD AND DRY
ETCHING
APPARATUS
ドライエッチング方法及びドライエッチング装置
- 特許庁
ETCHING
AMOUNT DETECTING METHOD,
ETCHING
METHOD, AND
ETCHING
APPARATUS
エッチング量検出方法,エッチング方法,およびエッチング装置
- 特許庁
SILICON
ETCHING
METHOD AND
ETCHING
SILICON OBJECT
シリコンエッチング方法及びエッチングシリコン体
- 特許庁
PLASMA
ETCHING
ELECTRODE
プラズマエッチング電極
- 特許庁
MONITORING DEVICE FOR
ETCHING
エッチング監視装置
- 特許庁
SPUTTER
ETCHING
APPARATUS, SPUTTER
ETCHING
SYSTEM, AND SPUTTER
ETCHING
METHOD
スパッタエッチング装置、スパッタエッチングシステム及びスパッタエッチング方法
- 特許庁
APPARATUS FOR
ETCHING
CIRCUIT
回路エッチング装置
- 特許庁
METAL
ETCHING
METHOD
金属エッチング方法
- 特許庁
METHOD FOR
ETCHING
COPPER
銅のエッチング方法
- 特許庁
WET
ETCHING
METHOD AND WET
ETCHING
APPARATUS
ウエットエッチング方法及びウエットエッチング装置
- 特許庁
WET
ETCHING
METHOD
湿式エッチング方法
- 特許庁
METHOD FOR
ETCHING
SUBSTRATE AND
ETCHING
DEVICE
基板のエッチング方法、およびエッチング装置
- 特許庁
DRY
ETCHING
DEVICE AND DRY
ETCHING
METHOD
ドライエッチング装置およびドライエッチング方法
- 特許庁
LABEL FOR LASER
ETCHING
レーザーエッチング用ラベル
- 特許庁
ETCHING
POST-TREATMENT METHOD AND
ETCHING
SYSTEM
エッチング後処理方法及びエッチング装置
- 特許庁
PLASMA
ETCHING
MEMBER
プラズマエッチング用部材
- 特許庁
METHOD OF
ETCHING
PROCESS
エッチング処理方法
- 特許庁
SELECTIVE
ETCHING
METHOD
選択エッチング方法
- 特許庁
SUBSTRATE
ETCHING
APPARATUS
基板のエッチング装置
- 特許庁
METHOD FOR
ETCHING
POLYIMIDE
ポリイミドエッチング方法
- 特許庁
ETCHING
DEVICE AND
ETCHING
SOLUTION MANAGEMENT METHOD
エッチング装置及びエッチング液管理方法
- 特許庁
BEVEL
ETCHING
APPARATUS AND BEVEL
ETCHING
METHOD
ベベルエッチング装置およびベベルエッチング方法
- 特許庁
METHOD FOR DRYING
ETCHING
AND DRY
ETCHING
APPARATUS
ドライエッチング方法およびドライエッチング装置
- 特許庁
COMPOSITION OF
ETCHING
SOLUTION
エッチング液組成物
- 特許庁
ETCHING
DEVICE AND
ETCHING
MONITORING METHOD
エッチング装置及びエッチングのモニタリング方法
- 特許庁
WET
ETCHING
METHOD AND WET
ETCHING
APPARATUS
ウェットエッチング方法及びウェットエッチング装置
- 特許庁
DRY
ETCHING
METHOD AND DRY
ETCHING
APPARATUS
ドライエッチング方法およびドライエッチング装置
- 特許庁
PLASMA
ETCHING
METHOD AND PLASMA
ETCHING
APPARATUS
プラズマエッチング方法、及びプラズマエッチング装置
- 特許庁
PLASMA
ETCHING
APPARATUS AND PLASMA
ETCHING
METHOD
プラズマエッチング装置及びプラズマエッチング方法
- 特許庁
PLASMA
ETCHING
METHOD AND PLASMA
ETCHING
APPARATUS
プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置
- 特許庁
POLYSILICON
ETCHING
METHOD
ポリシリコンエッチング方法
- 特許庁
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例文データの著作権について
特許庁
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※この記事は「
日本法令外国語訳データベースシステム
」の2010年9月現在の情報を転載しております。
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