ANISOTROPIC ETCHING METHOD FOR SILICON ケイ素の異方性エッチング法 - 特許庁
PLASMA ETCHING SYSTEM AND PLASMA ETCHING METHOD FOR QUARTZ CRYSTAL PLATE 水晶板のプラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法 - 特許庁
ETCHING APPARATUS, ETCHING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE エッチング装置、エッチング方法、および電子装置の製造方法 - 特許庁
ETCHING LIQUID, ETCHING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC COMPONENT エッチング液、エッチング方法および電子部品の製造方法 - 特許庁
A chemical wet etching by alkali or acid and a physical dry etching such as a sputter etching are used as the etching method. エッチング法としてはアルカリや酸による化学的湿式エッチング、スパッタエッチングなどの物理的ドライエッチングが使用される。 - 特許庁
An alkali etching liquid can be used as the etching liquid. エッチング液としては、アルカリエッチング液を用いることができる。 - 特許庁
SILICON ELECTRODE FOR PLASMA ETCHING プラズマエッチング用シリコン電極 - 特許庁
ETCHING OR COATING DEVICE エッチングあるいはコーティング装置 - 特許庁
METHOD FOR ETCHING GLASS SURFACE ガラス表面のエッチング方法 - 特許庁
CLEANING METHOD FOR PLASMA ETCHING EQUIPMENT AND PLASMA ETCHING EQUIPMENT プラズマエッチング装置のクリーニング方法、およびプラズマエッチング装置 - 特許庁
ETCHANT AND ETCHING METHOD エッチング液、及びエッチング方法 - 特許庁
ETCHANT, AND ETCHING METHOD エッチング液及びエッチング方法 - 特許庁
PLASMA ETCHING METHOD, PLASMA ETCHING SYSTEM AND PLASMA PROCESSING SYSTEM プラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置及びプラズマ処理装置 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING ETCHING DEVICE エッチング装置の製造方法 - 特許庁
ETCHANT AND ETCHING METHOD エッチング剤及びエッチング方法 - 特許庁
WASHING PROCESSING METHOD AFTER ETCHING エッチング後の洗浄処理法 - 特許庁
Next, etching for the film 2 to be made etching is made by using the etching mask 4 and after that a punched pattern of the film 2 to be made etching is formed by eliminating the etching mask 4. 次にエッチングマスク4を用いて、被エッチング膜2をエッチングし、その後エッチングマスク4を除去して被エッチング膜2の抜きパターンを形成する。 - 特許庁
The selective etching step is performed by a two-step plasma etching method of first anisotropic etching and second isotropic etching having different etching conditions. 選択食刻工程は食刻条件が異なる第1の異方性食刻と第2の等方性食刻からなる二段階のプラズマ食刻方法で行なう。 - 特許庁
METHOD AND EQUIPMENT FOR DRY ETCHING ドライエッチング方法及び装置 - 特許庁
METHOD FOR ETCHING ORGANIC THIN FILM 有機薄膜のエッチング方法 - 特許庁
ETCHING METHOD FOR FLEXIBLE BOARD フレキシブル基板のエッチング方法 - 特許庁
METHOD OF DETECTING ETCHING DEPTH エッチング深さの検出方法 - 特許庁
HIGH SPEED ETCHING METHOD OF SILICON Siの高速エッチング方法 - 特許庁
ETCHING METHOD OF SILICON MATERIAL シリコン材料のエッチング方法 - 特許庁
PLASMA ETCHING METHOD AND DEVICE プラズマエッチング方法及び装置 - 特許庁
DRY ETCHING APPARATUS AND METHOD ドライエッチング装置および方法 - 特許庁
PHOTOLITHOGRAPHIC AND ETCHING METHOD フォトリソグラフィ及びエッチング方法 - 特許庁