「etching」を含む例文一覧(19972)
＜前へ 1 2 .... 4 5 6 7 8 9 10 11 12 .... 399 400 次へ＞- PARTIAL DRY ETCHING METHOD
局所ドライエッチング方法 - 特許庁 - ETCHING OF NANO-IMPRINT TEMPLATE USING ETCHING REACTOR
エッチングリアクタを用いたナノ−インプリントテンプレートのエッチング - 特許庁 - ETCHING METHOD FOR SILVER ALLOY FILM, AND ETCHING SOLUTION
銀合金膜のエッチング方法およびエッチング溶液 - 特許庁 - REACTIVE ION ETCHING DEVICE, AND METHOD OF ETCHING SUBSTRATE
反応性イオンエッチング装置と基板のエッチング方法 - 特許庁 - An etching mask stack is formed on an etching layer.
エッチングマスクスタックが、エッチング層の上に形成される。 - 特許庁 - ETCHING METHOD AND ETCHING DEVICE FOR SEMICONDUCTOR WAFER
半導体ウェーハのエッチング方法及びエッチング装置 - 特許庁 - METHOD OF ETCHING INORGANIC MATERIAL
無機物のエッチング方法 - 特許庁 - To provide a dry etching method for etching an InP substrate by means of dry etching at a low temperature and a high speed.
低温でＩｎＰ基板をドライエッチング法により高速でエッチングする。 - 特許庁 - ETCHING METHOD AND DEVICE
エッチング方法および装置 - 特許庁 - ETCHING DEVICE AND METHOD
エッチング装置および方法 - 特許庁 - METHOD FOR LOCAL DRY ETCHING
局所ドライエッチング方法 - 特許庁 - ANISOTROPIC DRY ETCHING METHOD
異方性ドライエッチング方法 - 特許庁 - LOCAL PLASMA ETCHING METHOD
局所プラズマエッチング方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR ETCHING
エッチング方法及び装置 - 特許庁 - ETCHING-DEPTH MEASURING METHOD AND APPARATUS, AND ETCHING METHOD
エッチング深さ測定方法および装置、エッチング方法 - 特許庁 - ETCHING TREATMENT METHOD AND ETCHING TREATMENT DEVICE FOR SUBSTRATE
基板のエッチング処理方法およびエッチング処理装置 - 特許庁 - ETCHING AMOUNT DETECTION METHOD
エッチング量検出方法 - 特許庁 - CHECK PATTERN FOR WET ETCHING
ウェットエッチング用チェックパターン - 特許庁 - ETCHING METHOD OF SILICON WAFER
シリコンウエハのエッチング方法 - 特許庁 - METHOD OF ETCHING CARBON FILM
炭素膜のエッチング方法 - 特許庁 - SILICON ELECTRODE BOARD COATED WITH ETCHING-RESISTANCE FILM FOR PLASMA ETCHING
プラズマエッチング用耐エッチング膜被覆シリコン電極板 - 特許庁 - ETCHING METHOD FOR SEMICONDUCTOR
半導体のエッチング方法 - 特許庁 - METHOD FOR ETCHING MAGNETIC MATERIAL AND PLASMA ETCHING DEVICE
磁性材料のエッチング方法及びプラズマエッチング装置 - 特許庁 - SOLUTION FOR ETCHING IRON BASED METAL, AND ETCHING METHOD
鉄系金属のエッチング用溶液及びエッチング方法 - 特許庁 - An ICP etching device is used for etching the wiring.
ＩＣＰエッチング装置を用いて配線をエッチングする。 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD FOR LASER ETCHING LABEL AND LABEL FOR LASER ETCHING
レーザーエッチングラベルの製造方法、レーザーエッチング用ラベル - 特許庁 - METALLIC FILM ETCHING METHOD
金属膜のエッチング方法 - 特許庁 - SUBSTRATE PENETRATION ETCHING METHOD
基板貫通エッチング方法 - 特許庁 - ETCHING METHOD OF ORGANIC FILM
有機膜のエッチング方法 - 特許庁 - ETCHING DEVICE OF GLASS SUBSTRATE
ガラス基板のエッチング装置 - 特許庁 - ETCHING METHOD OF Si FILM
Ｓｉ膜のエッチング方法 - 特許庁 - METHOD OF ETCHING RESIN FILM
樹脂膜のエッチング方法 - 特許庁 - ETCHING METHOD AND ETCHING PROTECTIVE LAYER FORMING COMPOSITION
エッチング方法及びエッチング保護層形成用組成物 - 特許庁 - PLASMA ETCHING METHOD, AND PLASMA ETCHING APPARATUS
プラズマエッチング処理方法およびプラズマエッチング処理装置 - 特許庁 - ETCHING METHOD OF SILICON NITRIDE
窒化ケイ素のエッチング方法 - 特許庁 - CLEANING GAS AND ETCHING GAS
クリーニングガス及びエッチングガス - 特許庁 - ITO DRY ETCHING METHOD
ＩＴＯドライエッチング方法 - 特許庁 - ETCHING APPARATUS AND ETCHING METHOD USING THE SAME
エッチング装置およびその装置を用いたエッチング方法 - 特許庁 - COPPER ETCHING REPLENISHMENT LIQUID AND ETCHING METHOD FOR COPPER FOIL FILM
銅エッチング補給液及び銅箔膜エッチング方法 - 特許庁 - SILICON OXIDE ETCHING METHOD AND SILICON OXIDE ETCHING EQUIPMENT
酸化シリコンエッチング方法及び酸化シリコンエッチング装置 - 特許庁 - ETCHING METHOD FOR MULTILAYER FILM
多層膜のエッチング方法 - 特許庁 - REACTIVE ION ETCHING APPARATUS
反応性イオンエッチング装置 - 特許庁 - METHOD OF ETCHING OXIDE FILM
酸化膜のエッチング方法 - 特許庁 - METHOD OF ETCHING Au FILM
Ａｕ膜のエッチング方法 - 特許庁 - METHOD OF DRY-ETCHING SUBSTRATE
基板のドライエッチング方法 - 特許庁 - To provide an etching solution excellent in selectively etching a compound semiconductor film, an etching method using the etching solution, and a method for recovering iodine from the etching waste solution of the etching solution.
選択性に優れた化合物半導体膜のエッチング液とそれを用いたエッチング方法、及びそのエッチング廃液のヨウ素の回収方法を提供する。 - 特許庁 - Acid etching is carried out following to alkaline etching in the etching process while setting a larger etching margin for the alkaline etching than for the acid etching thus obtaining an improved chemically etched wafer.
改良ケミカルエッチウェーハ：エッチング工程において、アルカリエッチングのあと酸エッチングを行い、その際、アルカリエッチングのエッチング代を酸エッチングのエッチング代よりも大きくしたウェーハ。 - 特許庁 - METAL SELECTIVE ETCHING SOLUTION
金属選択性エッチング液 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING ETCHING SOLUTION
エッチング液の製造方法 - 特許庁 - METHOD OF ETCHING SILICON WAFER
シリコンウェーハのエッチング方法 - 特許庁
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