「etching」を含む例文一覧(19972)
＜前へ 1 2 .... 6 7 8 9 10 11 12 13 14 .... 399 400 次へ＞- METHOD OF ETCHING SEMICONDUCTOR WAFER, AND ETCHING EQUIPMENT OF SEMICONDUCTOR WAFER
半導体ウエハのエッチング方法及びそのエッチング装置 - 特許庁 - To provide an etching apparatus capable of performing stable etching.
安定したエッチングが可能なエッチング装置を提供する。 - 特許庁 - SUCTION TYPE PLASMA ETCHING APPARATUS, AND PLASMA ETCHING METHOD
吸引型プラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法 - 特許庁 - PLASMA ETCHING METHOD, PLASMA ETCHING APPARATUS, AND STORAGE MEDIUM
プラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置および記憶媒体 - 特許庁 - ELECTRODE PLATE FOR PLASMA ETCHING AND PLASMA ETCHING APPARATUS
プラズマエッチング用の電極板及びプラズマエッチング処理装置 - 特許庁 - ETCHING SOLUTION AND ETCHING METHOD FOR INDIUM TIN OXIDE FILMS
酸化インジウム錫膜用エッチング液およびエッチング方法 - 特許庁 - To suppress the generation of side etching in dry etching.
ドライエッチングにおいて、サイドエッチングの発生を抑制する。 - 特許庁 - ETCHING METHOD FOR ELECTRONIC PART
電子部品のエッチング方法 - 特許庁 - ETCHING METHOD AND IMPRINT DEVICE
エッチング方法、インプリント装置 - 特許庁 - METHOD FOR ETCHING PRINTED CIRCUIT
プリント回路のエッチング方法 - 特許庁 - INSULATING FILM DRY ETCHING METHOD
絶縁膜ドライエッチング方法 - 特許庁 - ETCHING METHOD OF SILICON SUBSTRATE
シリコン基板のエッチング方法 - 特許庁 - IMPROVED OXIDE ETCHING
改善された酸化物エッチング - 特許庁 - HIGH SPEED ETCHING METHOD OF Si
Ｓｉ高速エッチング方法 - 特許庁 - PRODUCTION OF ETCHING PARTS
エッチング部品の製造方法 - 特許庁 - RADICAL-SUPPORTING DRY ETCHING DEVICE
ラジカル支援ドライエッチング装置 - 特許庁 - ETCHING METHOD FOR CONDUCTIVE LAYER
導電性層のエッチング法 - 特許庁 - BACKSIDE ETCHING IN SCRUBBER
スクラバにおける背面エッチング - 特許庁 - METHOD FOR ETCHING POLYTMIDE FILM
ポリイミドフィルムのエッチング方法 - 特許庁 - ELECTRODE FOR DRY ETCHING DEVICE
ドライエッチング装置用電極 - 特許庁 - METHOD FOR ETCHING SAMPLE
試料のエッチング処理方法 - 特許庁 - STRUCTURE FOR DETECTING ETCHING COMPLETION, ETCHING COMPLETION DETECTING METHOD, AND ETCHING METHOD
エッチング終了検出用構造体、エッチングの終了検出方法、およびエッチング方法 - 特許庁 - The check pattern for determining under-etching, just-etching and over-etching is formed of check patterns 4, 5.
アンダーエッチング、ジャストエッチング、オーバーエッチングを判定するチェックパターン４、５より構成される。 - 特許庁 - ETCHING AGENT FOR SYNTHETIC FIBER MATERIAL, ETCHING PROCESSING METHOD AND ETCHING PROCESSED SYNTHETIC FIBER MATERIAL
合成系繊維材料の抜蝕剤、抜蝕加工方法及び抜蝕加工合成系繊維材料 - 特許庁 - Next etching for the etching mask 4 is made until an upper part of the film 2 to be made etching is exposed.
次にエッチングマスク４を被エッチング膜２の上部が露出するまでエッチングする。 - 特許庁 - METHOD FOR CLEANING DRY ETCHING APPARATUS, METHOD FOR DECIDING DRY ETCHING TIME AND DRY ETCHING METHOD
ドライエッチング装置のクリーニング方法、ドライエッチング時間の決定方法、及びドライエッチング方法 - 特許庁 - To provide an etching liquid for spray etching for copper and a copper alloy which can obtain a high etching factor.
高いエッチングファクターが得られる銅および銅合金用のスプレーエッチング用エッチング液。 - 特許庁 - ETCHING OF QUARTZ VIBRATING FRAGMENT, ETCHING DEVICE AND STORING CONTAINER OF QUARTZ FRAGMENT FOR ETCHING
水晶振動片のエッチング方法とエッチング装置及びエッチング用の水晶片の収容器 - 特許庁 - DRY ETCHING SYSTEM AND METHOD FOR DETECTING END POINT OF DRY ETCHING
ドライエッチング装置およびドライエッチングの終点検出方法 - 特許庁 - The etching step is performed by wet etching in which an etchant is used.
エッチング工程は、エッチング液によるウエットエッチングを用いる。 - 特許庁 - ETCHING METHOD AND DEPOSITION FILM FORMATION DEVICE HAVING ETCHING FUNCTION
エッチング方法及びエッチング機能付き堆積膜形成装置 - 特許庁 - ETCHING LIQUID FOR LOW-K FILM AND METHOD OF ETCHING LOW-K FILM
Ｌｏｗ−ｋ膜用エッチング液及びエッチング方法 - 特許庁 - ETCHING OF POROUS BODY AND ETCHING EQUIPMENT THEREFOR
多孔質体のエッチング方法及び多孔質体のエッチング装置 - 特許庁 - Then, the additional etching time is calculated from the etching rate.
続いて、このエッチングレートから追加エッチング時間を割り出す。 - 特許庁 - HIGH-TEMPERATURE CATHODE FOR PLASMA ETCHING
プラズマエッチング用高温カソード - 特許庁 - END POINT DETECTING METHOD OF PLASMA ETCHING, AND PLASMA ETCHING DEVICE
プラズマエッチングの終点検出方法及びプラズマエッチング装置 - 特許庁 - DRY ETCHING METHOD OF METAL GATE
メタルゲートのドライエッチング方法 - 特許庁 - METHOD OF ETCHING SEMICONDUCTOR DEVICE
半導体装置のエッチング法 - 特許庁 - DRY ETCHING METHOD, MICROMACHINING METHOD AND MASK FOR DRY ETCHING
ドライエッチング方法、微細加工方法及びドライエッチング用マスク - 特許庁 - METHOD FOR MONITORING ETCHING PROCESS
エッチング工程のモニター方法 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR WET-ETCHING APPARATUS
半導体湿式エッチング装置 - 特許庁 - PRODUCTION EQUIPMENT FOR ETCHING PRODUCT
エッチング製品の製造設備 - 特許庁 - MEASURING METHOD FOR ETCHING ACCURACY
エッチング精度の測定方法 - 特許庁 - ETCHING END POINT DETERMINING METHOD
エッチング終点判定方法 - 特許庁 - REFILLING METHOD OF ETCHING SOLUTION IN SINGLE WAFER ETCHING
ウェーハの枚葉式エッチングにおけるエッチング液の補給方法 - 特許庁 - DRY ETCHING METHOD AND EQUIPMENT
ドライエッチング方法及び装置 - 特許庁 - DRY ETCHING APPARATUS, METHOD FO ETCHING, AND METHOD OF FORMING WIRING
ドライエッチング装置、エッチング方法、及び配線の形成方法 - 特許庁 - SUBSTRATE ETCHING APPARATUS, AND SUBSTRATE ETCHING METHOD USING SAME
基板エッチング装置及びそれを用いた基板エッチング方法 - 特許庁 - METAL WIRING ETCHING METHOD
金属配線のエッチング方法 - 特許庁 - PLASMA ETCHING DEVICE AND PLASMA ETCHING METHOD USING THE SAME
プラズマエッチング装置およびそれを用いたプラズマエッチング方法 - 特許庁
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