「etching」を含む例文一覧(19972)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 399 400 次へ＞- CALCULATION METHOD OF ETCHING AMOUNT IN WET-ETCHING
ウェットエッチングにおけるエッチング量の算出方法 - 特許庁 - ETCHING EQUIPMENT AND ETCHING METHOD USING THE SAME
エッチング装置およびこれを用いたエッチング方法 - 特許庁 - UNDERWATER ETCHING METHOD, AND UNDERWATER ETCHING DEVICE
水中エッチング方法および水中エッチング装置 - 特許庁 - PLASMA ETCHING DEVICE, AND PLASMA ETCHING TREATMENT METHOD
プラズマエッチング装置およびプラズマエッチング処理方法 - 特許庁 - ETCHING METHOD AND ETCHING DEVICE FOR CARBON THIN FILM
炭素薄膜のエッチング方法及びエッチング装置 - 特許庁 - ETCHING LIQUID AND ETCHING METHOD FOR METALLIC MATERIAL
金属材料のエッチング液およびエッチング方法 - 特許庁 - ETCHING METHOD FOR PRINTED CIRCUIT BOARD AND ETCHING LIQUID
プリント配線板のエッチング方法及びエッチング液 - 特許庁 - ETCHING DEVICE AND MEMBER FOR ETCHING CHAMBER
エッチング処理装置及びエッチング処理室用部材 - 特許庁 - PLASMA ETCHING DEVICE FOR PHOTOMASK, AND ETCHING METHOD
フォトマスク用プラズマエッチング装置およびエッチング方法 - 特許庁 - APPARATUS FOR PLASMA-ETCHING TREATMENT
プラズマエッチング処理装置 - 特許庁 - METHOD OF ETCHING DEPOSITION FILM
付着膜のエッチング法 - 特許庁 - PLASMA ETCHING TREATMENT METHOD
プラズマエッチング処理方法 - 特許庁 - METHOD OF ETCHING OXIDE FILM
酸化膜エッチング方法 - 特許庁 - PLASMA ETCHING PROCESSING METHOD
プラズマエッチング加工方法 - 特許庁 - ETCHING-DEPTH MEASURING SENSOR
エッチング深さ測定センサ - 特許庁 - NORMAL PRESSURE PLASMA ETCHING METHOD
常圧プラズマエッチング方法 - 特許庁 - MAGNETRON PLASMA ETCHING APPARATUS
マグネトロンプラズマエッチング装置 - 特許庁 - COMPOSITION FOR SILICON ETCHING
シリコンエッチング用組成物 - 特許庁 - COMPOSITION FOR ETCHING
エッチング処理用組成物 - 特許庁 - METHOD FOR ETCHING THIN FILM
薄膜のエッチング方法 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF ETCHING ARTICLE
エッチング品の製造法。 - 特許庁 - METHOD OF PLASMA ETCHING
プラズマエッチング処理方法 - 特許庁 - DEFECTIVE ETCHING OF GERMANIUM
ゲルマニウムの欠陥エッチング - 特許庁 - METHOD FOR ETCHING DIAMOND
ダイヤモンドのエッチング方法 - 特許庁 - In etching steps, a first etching step is performed by wet etching in which an etchant is used, and a second etching step is performed by dry etching in which an etching gas is used.
エッチング工程において、第１のエッチング工程は、エッチング液によるウエットエッチングを用い、第２のエッチング工程はエッチングガスによるドライエッチングを用いる。 - 特許庁 - As the anisotropic etching, dry etching and PEC etching can be cited.
この異方性エッチングとしては、乾式エッチング、ＰＥＣエッチングが挙げられ得る。 - 特許庁 - The etching includes two steps of a first etching step and a second etching step.
エッチングは第１エッチング工程と第２エッチング工程の２段階に分ける。 - 特許庁 - SUBSTRATE TRAY USED IN PLASMA ETCHING EQUIPMENT, ETCHING EQUIPMENT, AND ETCHING METHOD
プラズマエッチング装置において用いる基板トレイ、エッチング装置及びエッチング方法 - 特許庁 - In this method of dry etching, CH2F2 is used as an etching gas at the time of dry etching.
ドライエッチング時に、エッチングガスとしてCH_2F_2を用いることを特徴としている。 - 特許庁 - ETCHING EQUIPMENT AND METHOD
エッチング装置及び方法 - 特許庁 - ETCHING METHOD AND DEVICE
エッチング方法及び装置 - 特許庁 - ETCHING METHOD, ETCHING APPARATUS AND METHOD FOR FORMING LAYER
エッチング方法、エッチング装置及び層形成方法 - 特許庁 - ETCHING METHOD OF OXIDE
酸化物のエッチング方法 - 特許庁 - METHOD FOR ETCHING METAL THIN PLATE AND ETCHING DEVICE
金属薄板のエッチング方法およびエッチング装置 - 特許庁 - HIGH RESOLUTION PLASMA ETCHING
高解像度プラズマ・エッチング - 特許庁 - PHOTON INDUCED ETCHING OF COPPER
銅の光子誘起除去 - 特許庁 - ETCHING APPARATUS AND METHOD OF DETECTING FINISH OF ETCHING
エッチング装置およびエッチング終了検出方法 - 特許庁 - ETCHING RESIDUE REMOVAL METHOD
エッチング残渣除去方法 - 特許庁 - WET-ETCHING APPARATUS AND METHOD OF WET-ETCHING SUBSTRATE
ウェットエッチング装置及び基板のウェットエッチング方法 - 特許庁 - ETCHING SOLUTION AND METHOD FOR CONTROLLING CONCENTRATION OF ETCHING SOLUTION
エッチング液およびエッチング液の濃度制御方法 - 特許庁 - ETCHING APPARATUS AND METHOD
エッチング装置及び方法 - 特許庁 - ETCHING METHOD AND APPARATUS
エッチング方法及び装置 - 特許庁 - SILICON WAFER ETCHING METHOD
シリコンウェハのエッチング方法 - 特許庁 - POST-ETCHING PROCESSING METHOD FOR DIELECTRIC ETCHING PROCESS
誘電エッチングプロセスのためのエッチング後処理方法 - 特許庁 - ETCHING SIMULATION METHOD AND ETCHING SIMULATION DEVICE
エッチング・シミュレーション方法及びエッチング・シミュレーション装置 - 特許庁 - ETCHING DEVICE FOR SILICON WAFER
シリコンウエハのエッチング装置 - 特許庁 - ETCHING LIQUID FOR SPRAY ETCHING FOR COPPER AND COPPER ALLOY
銅および銅合金のスプレーエッチング用エッチング液 - 特許庁 - ELECTRODE PLATE FOR PLASMA ETCHING AND PLASMA ETCHING APPARATUS
プラズマエッチング用電極板及びプラズマエッチング装置 - 特許庁 - DRY ETCHING RESIDUE REMOVER
ドライエッチング残渣除去剤 - 特許庁 - LOCAL DRY ETCHING METHOD
局所ドライエッチング方法 - 特許庁
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