「etching」を含む例文一覧(19972)
＜前へ 1 2 .... 11 12 13 14 15 16 17 18 19 .... 399 400 次へ＞- An etching resistance layer 16 is formed on the selective etching possible layer.
耐侵食性層１６を、選択エッチング可能層上に形成する。 - 特許庁 - To provide an etching agent such that etching liquid is high in stability and fast in etching speed, side etching is small, and linearity of a pattern is excellent.
エッチング液の安定性が高く、エッチング速度が速く、サイドエッチングも少なく、パターンの直線性も良好なエッチング剤を提供する。 - 特許庁 - In the etching method, the etching of the glass plate is performed by spraying the etching liquid on the glass surface and removing the etching liquid thereafter.
エッチング方法としては、ガラス表面にエッチング液を吹き付け、その後エッチング液を除去することによってガラス板のエッチングを行う。 - 特許庁 - ETCHING METHOD AND PROCESSING METHOD
エッチング方法および加工方法 - 特許庁 - ETCHING LIQUID COMPOSITION OF METAL FILM
金属膜のエッチング液組成物 - 特許庁 - METHOD OF ETCHING METAL OXIDE FILM
金属酸化膜のエッチング方法 - 特許庁 - The etching object film is etched using the hard mask film as an etching mask.
ハードマスク膜をエッチングマスクとして、エッチング対象膜をエッチングする。 - 特許庁 - METHOD FOR PLASMA ETCHING PERFORMANCE ENHANCEMENT
プラズマエッチング性能強化方法 - 特許庁 - DETECTING METHOD FOR ETCHING TERMINATION POINT
エッチング終点の検出方法 - 特許庁 - INSPECTION METHOD FOR ETCHING STRIP
エッチング帯状体の検査方法 - 特許庁 - ETCHING METHOD FOR ORGANIC INSULATING FILM
有機絶縁膜のエッチング方法 - 特許庁 - DEVELOPING METHOD AND ETCHING METHOD
現像方法及びエッチング方法 - 特許庁 - CURABLE COMPOSITION FOR ETCHING RESIST
エッチングレジスト用硬化型組成物 - 特許庁 - To enhance etching uniformity.
エッチング均一性を向上させる。 - 特許庁 - ETCHING METHOD, ETCHING APPARATUS, COMPUTER PROGRAM, AND COMPUTER MEMORY MEDIUM
エッチング方法、エッチング装置、コンピュータプログラム及びコンピュータ記憶媒体 - 特許庁 - ETCHING SOLUTION FOR TITANIUM-CONTAINING LAYER AND ETCHING METHOD FOR TITANIUM-CONTAINING LAYER
チタン含有層用エッチング液及びチタン含有層のエッチング方法 - 特許庁 - ELECTRODE PLATE FOR PLASMA ETCHING DEVICE
プラズマエッチング装置用電極板 - 特許庁 - ETCHING GAS FLOW CONTROLLER AND CONTROL METHOD OF LOCAL DRY ETCHING DEVICE
局所ドライエッチング装置のエッチングガス流制御装置及び方法 - 特許庁 - METHOD FOR ADJUSTING CHARACTERISTIC OF ETCHING BY SWITCHING GASES DURING ETCHING
エッチング中にガスを切り替えてエッチングの特性を調節する方法 - 特許庁 - To provide a plasma etching method which ensures a higher etching rate and mask selection ratio of an etching object portion and also suppresses the etching stop.
エッチング対象部のエッチングレートおよび対マスク選択比が高く、かつ、エッチングストップを抑えたプラズマエッチング方法を提供すること。 - 特許庁 - METHOD FOR ANISOTROPIC ETCHING OF BASE MATERIAL AND APPARATUS FOR ETCHING BASE MATERIAL
基材の異方性食刻方法及び基材の食刻装置 - 特許庁 - RESIST RESIN COMPOSITION FOR GLASS ETCHING AND METHOD FOR ETCHING GLASS SUBSTRATE
ガラスエッチング用レジスト樹脂組成物及びガラス基板エッチング方法 - 特許庁 - To measure etching depth during etching or film thickness during film formation.
成膜中の膜厚またはエッチング中のエッチング深さを測定する。 - 特許庁 - ELECTROLYTIC ETCHING METHOD AND APPARATUS
電解エッチング方法および装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING METHOD, ETCHING METHOD, PLASMA PROCESSING DEVICE, AND ETCHING DEVICE
プラズマ処理方法、エッチング方法、プラズマ処理装置およびエッチング装置 - 特許庁 - FOCUS RING FOR PLASMA ETCHING SYSTEM, AND PLASMA ETCHING SYSTEM
プラズマエッチング装置用フォーカスリング及びこれを用いたプラズマエッチング装置 - 特許庁 - ETCHING METHOD, ETCHING APPARATUS AND COMPUTER READABLE STORAGE MEDIUM
エッチング方法、エッチング装置およびコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 - 特許庁 - To conduct etching highly accurately by enhancing reproducibility of etching depth.
エッチング深さの再現性を向上して高精度にエッチングを行う。 - 特許庁 - SILICON ELECTRODE PLATE FOR PLASMA ETCHING
プラズマエッチング用シリコン電極板 - 特許庁 - Next, wet etching is performed as postprocessing of the dry etching to remove etching residuals of the dry etching and roughness of a surface.
次に、ドライエッチングに対する後処理としてのウエットエッチングを行い、ドライエッチングのエッチング残滓の残存や表面の荒れを除去する。 - 特許庁 - COPPER ETCHANT AND ETCHING METHOD
銅エッチング液及びエッチング方法 - 特許庁 - PLASMA ETCHING METHOD OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND SEMICONDCUTOR ETCHING SUBSTRATE
半導体基板のプラズマエッチング方法および半導体エッチング基板 - 特許庁 - MASKING MATERIAL FOR REACTIVE ION ETCHING, MASK AND DRY ETCHING METHOD
反応性イオンエッチング用のマスク材料、マスク及びドライエッチング方法 - 特許庁 - MASK FOR QUARTZ GLASS ETCHING AND METHOD FOR QUARTZ GLASS ETCHING
石英ガラスエッチング加工用マスクおよび石英ガラスエッチング加工方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR ETCHING METAL TITANIUM AND ETCHING METHOD USING IT
金属チタンのエッチング用組成物及びそれを用いたエッチング方法 - 特許庁 - MASK ETCHING PLASMA REACTOR WITH CATHODE OF UNIFORM ETCHING RATE DISTRIBUTION
均一なエッチング速度分布の陰極を備えたマスクエッチングプラズマリアクタ - 特許庁 - METHOD OF ETCHING CARBONIC MATERIAL
炭素系材料のエッチング方法 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR ETCHING
エッチング装置およびエッチング方法 - 特許庁 - To provide a dry etching device by which etching residue of a substrate is prevented.
基板のエッチング残りを防止したドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁 - SELECTIVE ELECTROCHEMICAL ETCHING METHOD AND ETCHING SOLUTION USED THEREFOR
選択的電気化学エッチング方法およびそれに用いるエッチング液 - 特許庁 - METHOD FOR ETCHING SILICON NITRIDE FILM
シリコンナイトライド膜のエッチング方法 - 特許庁 - ETCHING METHOD AND ETCHING SHAPED ARTICLE THEREBY
エッチング方法及びその方法によって成形されたエッチング成形品 - 特許庁 - CURING COMPOSITION FOR ETCHING RESIST
エッチングレジスト用硬化型組成物 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR DETECTING ETCHING END POINT, ETCHING DEVICE AND ETCHING END POINT DETECTION PROGRAM
エッチング終点検出方法、エッチング終点検出システム、エッチング装置、およびエッチング終点検出プログラム - 特許庁 - Combination etching of wet etching and dry etching using the resist film 115 as a mask is further performed in turn.
さらに、このレジスト膜１１５をマスクとしたウェットエッチングとドライエッチングとの併用エッチングを順番に行う。 - 特許庁 - ETCHING METHOD, QUANTITATIVE ANALYSIS METHOD FOR ETCHING SOLUTION AND METHOD FOR RECOVERING PHOSPHORIC ACID FROM ETCHING SOLUTION
エッチング方法およびエッチング液の定量分析方法ならびにエッチング液からリン酸を回収する方法 - 特許庁 - To provide a parallel flat plate-plasma etching method excellent in etching performance and etching uniformity.
エッチング能力およびエッチング均一性に優れた平行平板型プラズマエッチング方法を提供すること。 - 特許庁 - ION GUN, ION BEAM ETCHING DEVICE, ION BEAM ETCHING EQUIPMENT, ETCHING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF MAGNETIC RECORDING MEDIUM
イオンガン、イオンビームエッチング装置、イオンビームエッチング設備、エッチング方法及び磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁 - The buffer layers and the etching stop layers have the selective etching rates capable of selectively etching them, respectively.
バッファ層とエッチング停止層はそれぞれについて選択的にエッチング可能な選択エッチングレートを有する。 - 特許庁 - The target shape of the structure is formed by etching the silicon substrate 100 with the etching mask by anisotropic etching.
異方性エッチングにより、エッチングマスクの施されたシリコン基板100をエッチングして目標形状を形成する。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
