「etching」を含む例文一覧(19972)
＜前へ 1 2 .... 13 14 15 16 17 18 19 20 21 .... 399 400 次へ＞- ETCHING COMPOSITION FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENTS AND ETCHING METHOD USING SAME
半導体素子製造用蝕刻組成物及びこれを用いた蝕刻方法 - 特許庁 - ETCHING AMOUNT CALCULATING METHOD, STORAGE MEDIUM, AND ETCHING AMOUNT CALCULATING APPARATUS
エッチング量算出方法、記憶媒体及びエッチング量算出装置 - 特許庁 - As the shape treatment, dry etching such as plasma etching is adopted.
形状処理としてはプラズマエッチング等のドライエッチング処理を採用できる。 - 特許庁 - DRY ETCHING CHARACTERISTIC EVALUATING APPARATUS AND DRY ETCHING APPARATUS EQUIPPED WITH THE SAME
ドライエッチング特性評価装置およびこれを備えたドライエッチング装置 - 特許庁 - ETCHING METHOD OF FERROELECTRIC FILM
強誘電体膜のエッチング方法 - 特許庁 - METAL ETCHING WASTEWATER TREATMENT METHOD
金属エッチング排水の処理方法 - 特許庁 - A dry etching means 1 is prepared.
ドライエッチング手段１を用意する。 - 特許庁 - LAMINATED ELECTRODE AND ETCHING METHOD
積層電極およびエッチング方法 - 特許庁 - DEPTH MEASURING METHOD, DEPTH MEASURING DEVICE, ETCHING METHOD AND ETCHING DEVICE
深さ測定方法、深さ測定装置、エッチング方法及びエッチング装置 - 特許庁 - SILICON ANISOTROPIC ETCHING LIQUID COMPOSITION
シリコン異方性エッチング液組成物 - 特許庁 - CLEANING APPARATUS, ETCHING APPARATUS, CLEANING METHOD, AND ETCHING METHOD
洗浄装置及びエッチング装置並びに洗浄方法及びエッチング方法 - 特許庁 - DRY ETCHING METHOD AND ITS DEVICE
ドライエッチング方法およびその装置 - 特許庁 - FLEXIBLE BOARD AND ITS ETCHING METHOD
フレキシブル基板とそのエッチング方法 - 特許庁 - To provide an etching method where, in etching for a printed circuit board, fine control is possible even in etching of fine pitches, and high precision etching is possible.
プリント配線板のエッチングにおいて、ファインピッチのエッチングでも細かい制御ができ、高精度のエッチングが可能なエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - PLASMA ETCHING METHOD AND APPARATUS THEREFOR
プラズマエッチング方法及びその装置 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR DEVICE AND ETCHING METHOD
半導体装置及びエッチング方法 - 特許庁 - USED ETCHING GAS TREATING METHOD AND USED ETCHING GAS TREATMENT APPARATUS
使用済みエッチングガス処理方法および使用済みエッチングガス処理装置 - 特許庁 - ETCHING APPARATUS USING NEUTRAL BEAM
中性ビームを用いるエッチング装置 - 特許庁 - The sputter etching is continuously performed until side etching is stopped.
スパッタエッチング法によるエッチングはサイドエッチングが停止するまで継続する。 - 特許庁 - (d) The first etching mask layer 12 is removed by wet etching processing.
第１エッチングマスク層１２をウェットエッチング処理により除去する（ｄ）。 - 特許庁 - DRY ETCHING METHOD OF Al2O3 FILM
Ａｌ２Ｏ３膜のドライエッチング方法 - 特許庁 - ETCHING METHOD FOR COMPOUND SEMICONDUCTOR
化合物半導体のエッチング方法 - 特許庁 - METHOD FOR DRY ETCHING IRIDIUM ELECTRODE
イリジウム電極のドライエッチング方法 - 特許庁 - CHEMICAL VAPOR ETCHING METHOD FOR SUBSTRATE
基板の気相化学エッチング方法 - 特許庁 - METHOD FOR REGENERATING COPPER-ETCHING WASTE LIQUID
銅エッチング廃液の再生方法 - 特許庁 - ETCHING AGENT FOR TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE FILM
透明導電膜用のエッチング剤 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF ETCHING MACHINING COMPONENT
エッチング加工部品の製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR TREATMENT OF COPPER ETCHING WASTE LIQUID
銅エッチング廃液の処理方法 - 特許庁 - METHOD FOR ETCHING AND RIE SYSTEM
エッチング方法及びＲＩＥ装置 - 特許庁 - BACK ETCHING METHOD OF X-RAY MASK AND BACK ETCHING DEVICE FOR X-RAY MASK
Ｘ線マスクのバックエッチ方法、及びＸ線マスクのバックエッチ装置 - 特許庁 - VIA LINE BARRIER, AND ETCHING STOP STRUCTURE
ビアラインバリアおよびエッチストップ構造 - 特許庁 - To provide an etching device which has high etching rate and perpendicular processability.
エッチングレート及び垂直加工性が高いエッチング装置を提供する。 - 特許庁 - MANUFACTURE OF PLASMA ETCHING ELECTRODE
プラズマエッチング電極の製造方法 - 特許庁 - A third etching step employs an etching method in which an etching rate to the first to third films is higher than that in the second etching step.
第３のエッチング工程には、第１乃至第３の膜に対するエッチングレートが第２のエッチング工程よりも高いエッチング方法を採用する。 - 特許庁 - DETECTION METHOD OF ETCHING END POINT IN DRY SEMICONDUCTOR ETCHING STEP
半導体乾式エッチング工程でのエッチング終了点の検出方法 - 特許庁 - ETCHING SOLUTION FOR COPPER AND COPPER ALLOY
銅および銅合金のエッチング液 - 特許庁 - DRY ETCHING METHOD, MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND DRY ETCHING DEVICE
ドライエッチング方法、半導体装置の製造方法及びドライエッチング装置 - 特許庁 - It is also possible that a plurality of etching stations for performing the etching treatment are provided and different etching treatments to respond to purposes are performed at each etching station.
エッチング処理するエッチングステ−ションを複数設けて、各エチングステ−ションで目的に応じた異なるエッチング処理を行うこともできる。 - 特許庁 - COPPER-LAYER ETCHING METHOD, ETCHING TREATMENT LIQUID, AND COPPER-WIRING MANUFACTURING METHOD
銅層エッチング方法、エッチング処理液及び銅配線の製造方法 - 特許庁 - METHOD OF REDUCING REACTIVE ION ETCHING LAG IN DEEP- TRENCH SILICON ETCHING
ディープ・トレンチ・シリコン・エッチングの反応性イオン・エッチング・ラグを低減する方法 - 特許庁 - SILICON ETCHANT AND ETCHING METHOD
シリコンエッチング液およびエッチング方法 - 特許庁 - OPTIMAL ETCHING PARAMETER AUTOMATIC SETTING SYSTEM AND ETCHING RESULT EVALUATION SYSTEM
最適エッチングパラメタ自動設定システムおよびエッチング出来ばえ評価システム - 特許庁 - ETCHING METHOD AND ETCHING APPARATUS FOR CATHODE ELECTRODE DEVICE IN PLATING EQUIPMENT
めっき装置のカソード電極装置のエッチング方法およびエッチング装置 - 特許庁 - ETCHING SOLUTION FOR COPPER OR COPPER ALLOY
銅又は銅合金用エッチング液 - 特許庁 - WET ETCHING DEVICE FOR PIEZOELECTRIC WAFER
圧電体ウェハーのウェットエッチング装置 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING ETCHING FOIL FOR ELECTROLYTIC CAPACITOR AND APPARATUS FOR MANUFACTURING THE ETCHING FOIL
電解コンデンサ用エッチング箔の製造方法、およびその製造装置 - 特許庁 - ALKALI ETCHING LIQUID FOR SILICON WAFER AND ETCHING METHOD USING THE SAME
シリコンウェーハ用のアルカリエッチング液及び該エッチング液を用いたエッチング方法 - 特許庁 - ETCHING AGENT FOR COPPER OR COPPER ALLOY
銅または銅合金のエッチング剤 - 特許庁 - a process of a copperplate etching called aquatint
アクワチントという,銅版画の技法 - EDR日英対訳辞書 - To provide a method for etching a PZT film capable of preventing side etching.
サイドエッチングを防止できるＰＺＴ膜のエッチング方法を提供する。 - 特許庁
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