「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 23 24 25 26 27 28 29 30 31 .... 287 288 次へ＞- Thus, two kinds of the meso pores, that are, cylindrical pores arranged honeycomb-like and respectively having 2-4 nm pore diameter and ≥4 nm pore diameter are obtained.
２種類のメソ細孔、特に、蜂の巣状に配列し孔径２〜４ｎｍの範囲にあるシリンダー状の細孔と、４ｎｍ以上の孔径とを有するメソ多孔性シリカが得られる。 - 特許庁 - A preferable flaky tungsten oxide particle has the maximum width and the minimum width in the range of 10-10,000 nm, respectively, and a thickness in the range of 0.5-10 nm.
また、好ましい薄片状酸化タングステン粒子は、最長幅及び最短幅がそれぞれ１０〜１００００ｎｍの範囲にあり、厚みが０．５〜１０ｎｍの範囲にある。 - 特許庁 - The change quantity of the track pitch is specified to be ≤5 nm and ≤15 nm in a DVD+RW/DVD-R and a CD-R, respectively.
ＤＶＤ＋ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒの場合は、トラックピッチの変化量が５ｎｍ以下とされ、ＣＤ−Ｒの場合は、トラックピッチの変化量１５ｎｍ以下とされる。 - 特許庁 - This photoresponsive material is a rutile type titanium dioxide and is activated by the action of the light emitted from a light source having 520 nm peak wave length and 20 nm half-value width.
ルチル型酸化チタンであって、光源のピーク波長が５２０ｎｍであり、半値幅が２０ｎｍである光の作用により活性を有する光応答性材料。 - 特許庁 - The ceramic material of present invention has an average pore size of 0.1 nm-50 nm and a basic skeleton of repeated structure of Si-N bond (silazane skeleton).
上記課題を解決する本発明のセラミック材は、平均孔径が０．１ｎｍ〜５０ｎｍであり、Ｓｉ−Ｎ結合の繰返し構造（シラザン骨格）を基本骨格とする。 - 特許庁 - A light source in which a ratio of a radiation energy having a wavelength region of 400-450 nm to a radiation energy having a wavelength region of 400-800 nm is 0-10% is used as the light source 2.
光源２としては４００〜８００ｎｍの波長領域の放射エネルギのうち４００〜４５０ｎｍの波長領域の割合が０〜１０％であるものを用いる。 - 特許庁 - Erodable elements by the ozone solution are eluted in the ozone solution, and a pore or a clearance at nano (nm) level is produced between a hard-to-erode element and an easy-to-erode element.
オゾン溶液に浸食され易い成分がオゾン溶液中に溶出し、浸食されにくい成分との間にナノ(nm)レベルの細孔あるいは隙間が生じる。 - 特許庁 - Moreover, the filtering section 12 is equipped with a limiter operation determination section 122, which determines whether a basic torque command T^*[Nm] and a limited torque command T'[Nm] are different or not.
また、フィルタ処理部１２は、基本トルク指令値Ｔ^＊［Ｎｍ］と制限後トルク指令値Ｔ’［Ｎｍ］が異なるか否か判定するリミッタ作動判定部１２２を備える。 - 特許庁 - A printed board K is obliquely irradiated with violet light, which has a peak wavelength within a range exceeding 420 nm but less than 450 nm, from a lower ring light 13.
プリント基板Ｋに対し、下部リングライト１３より、斜め方向から４２０ｎｍを上回り４５０ｎｍを下回る範囲にピーク波長をもつ紫色光が照射される。 - 特許庁 - Furthermore, the printed board 30 is irradiated with red light having a peak wavelength within a range more than 600 nm and less than 680 nm at an incident angle of 0° by a third ring light 14.
さらに、入射角０度で、第３リングライト１４により、６００ｎｍを上回り６８０ｎｍを下回る範囲にピーク波長をもつ赤色光を照射する。 - 特許庁 - A reflection factor of the mirror 100 is very high, with a light wavelength of approximately 87% or more at 410 nm, and approximately 98% or more at 550 nm.
反射鏡１００の反射率は、光の波長が４１０ｎｍで約８７％以上、光の波長が５５０ｎｍで９８％程度以上となり、非常に高くなる。 - 特許庁 - An insulating film includes the periodic structure in which a cycle is 0.5 nm or more but not more than 50 nm, and has chlorine impurity concentration and sodium impurity concentration being not more than 10 ppm respectively.
周期が０．５ｎｍ以上、５０ｎｍ以下である周期構造を含む絶縁膜であって塩素不純物及びナトリウム不純物が夫々１０ｐｐｍ以下である薄膜。 - 特許庁 - The wavelength converting crystal 1 is a CLBO (cesium lithium borate) crystal and puts a basic wave of laser light of 1,547 nm in wavelength and a 7th harmonic together to generate an 8th harmonic of 193 nm in wavelength.
波長変換結晶１は、ＣＬＢＯ結晶であり、波長1547nmのレーザ光の基本波と７倍波を合成して波長193nmの８倍波を発生させるものである。 - 特許庁 - This method is provided for polishing the semiconductor wafer by abrasives made of colloidal silica having the distorted shape having the long diameter of 7 to 10000 nm and the short/long diameter of 0.3 to 0.8, and the abrasives are provided.
７〜1000 nm の長径と0.3〜0.8 の短径／長径を有する歪な形状を有するコロイダルシリカからなる研磨剤で半導体ウェーハーを研磨する方法、及びその研磨剤。 - 特許庁 - Furthermore, an ultraviolet emitting phosphor 18 having peak conversion efficiency between the wavelengths of 300 nm to 340 nm is coated on an inside surface of the arc tube 11.
そして、発光管１１の内側の表面には、波長３００ｎｍ〜３４０ｎｍの間に変換効率のピークを持つ紫外線発光型蛍光体１８を塗布する。 - 特許庁 - In the high-temperature heat treatment type pencil lead having pores, the pores hold the microcapsules of ultra fine particles whose d50 value of the particle size is ≥20 nm and ≤100 nm.
気孔を有する高温熱処理型鉛筆芯において、該気孔に粒径のｄ５０値が２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の超微粒マイクロカプセルを配置してなる鉛筆芯。 - 特許庁 - To provide elements for use in laser systems operating at wavelength of smaller 200 nm wherein high reflectance is achieved in 193 nm, without increasing roughness and nonuniformity of a surface/an interface.
２００ｎｍ未満のレーザシステムに用いられる素子において、表面／界面の粗さおよび不均一性を増加させずに、１９３ｎｍで高反射率を達成する。 - 特許庁 - A substrate for organic electroluminescence includes at least a barrier layer having a thickness unevenness of 10 nm or more and 1,000 nm or less, and a fine particle layer containing fine particles.
厚みむらが１０ｎｍ以上１，０００ｎｍ以下であるバリア層と、微粒子を含有する微粒子層とを少なくとも有する有機電界発光用基板である。 - 特許庁 - The medical tube 1 is constituted using the composite material 2 obtained by dispersing CNT 2B having a diameter ϕ of 30 nm to 200 nm in a base matrix 2A.
直径φが３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下のＣＮＴ２Ｂをベースマトリックス２Ａ中に分散させてなる複合材料２を用いて、医療用チューブ１を構成する。 - 特許庁 - Preferably, the titania nanotube has 1 to 20 nm pore diameter and 10 to 500 nm length and the ratio by mass of the noble metal/the titania nanotube is 1/10 to 1/1,000.
好ましくは、前記チタニアナノチューブが、１〜２０ｎｍの細孔径と１０〜５００ｎｍの長さを有し、貴金属／チタニアナノチューブの質量比が１／１０〜１／１０００である。 - 特許庁 - A wavelength filter 103 to transmit 1,545 nm wavelength light and to prevent 1,555 nm wavelength light is inserted between the semiconductor optical amplifier 101 and the wavelength couplers 9-12.
半導体光増幅器１０１と波長カプラ９〜１２との間には、波長１５４５ｎｍを透過し、波長１５５５ｎｍを阻止する波長フィルタ１０３が挿入されている。 - 特許庁 - A third phosphor is excited by the ultraviolet light or the short-wavelength visible light and emits light having a peak wavelength in a wavelength region of 600 nm to 800 nm.
第３の蛍光体は、紫外線又は短波長可視光により励起され、６００ｎｍ〜８００ｎｍの波長域にピーク波長を有する可視光を発光する。 - 特許庁 - A second phosphor is excited by the ultraviolet light or the short-wavelength visible light and emits light having a peak wavelength in a wavelength region of 400 nm to 500 nm.
第２の蛍光体は、紫外線又は短波長可視光により励起され、４００ｎｍ〜５００ｎｍの波長域にピーク波長を有する可視光を発光する。 - 特許庁 - A first phosphor is excited by the ultraviolet light or the short-wavelength visible light and emits light having a peak wavelength in a wavelength region of 550 nm to 600 nm.
第１の蛍光体は、紫外線又は短波長可視光により励起され、５５０ｎｍ〜６００ｎｍの波長域にピーク波長を有する可視光を発光する。 - 特許庁 - Absorption rarely happens to the wavelength around 1550 nm of the oscillation wavelength by forming a diffraction grating with GaInAsP whose λg is about 1510 nm.
λ_g が約１５１０ｎｍのＧａＩｎＡｓＰで回折格子を形成することにより、発振波長の１５５０ｎｍ付近の波長に対しては、殆ど吸収が起らない。 - 特許庁 - Toner contains carbonate particles of a Group II element each having a particle diameter of 30 to 300 nm and layered double hydroxide particles each having a particle diameter of 50 to 500 nm.
粒子径３０乃至３００ｎｍの第２族元素炭酸塩粒子と粒子径５０乃至５００ｎｍの層状複水酸化物粒子をトナーに含有させる。 - 特許庁 - The polypeptide may exhibit a positive Cotton effect at wavelengths of 220 to 230 nm and a negative Cotton effect in wavelengths of 195 to 205 nm in a circular dichroism spectrum.
前記ポリペプチドは、円二色性スペクトルにおいて、波長２２０〜２３０ｎｍに正のコットン効果を示し、波長１９５〜２０５ｎｍに負のコットン効果を示していてもよい。 - 特許庁 - The chlorogalium phthalocyanine pigment has a longest wavelength absorption maximum in the range of 740 to 770 nm in a spectral absorption spectrum in the wavelength region of 700 to 900 nm.
７００〜９００ｎｍの波長域での分光吸収スペクトルにおいて、７４０〜７７０ｎｍの範囲に最大吸収極大波長を有するクロロガリウムフタロシアニン顔料。 - 特許庁 - A means for selecting and altering the wavelength of 157 nm or one or more wavelengths other than the wavelength of 157 nm emitted by the fluorine excimer laser beam is provided within the fluorine excimer laser.
フッ素エキシマレーザ内部にフッ素エキシマレーザ光が発光する１５７ｎｍの波長もしくは１５７ｎｍ以外の波長の１つ以上を選択・変更する手段を設ける。 - 特許庁 - The black ink comprises at least a phthalocyanine coloring matter having a maximum absorption wavelength of at least 600 nm and a coloring matter having a maximum absorption wavelength of 450-600 nm.
少なくとも、極大吸収波長が６００ｎｍ以上のフタロシアニン系色素および極大吸収波長が４５０〜６００ｎｍの色素を含有する黒色インク。 - 特許庁 - The polypeptide may exhibit a positive Cotton effect in 220-230 nm wavelength and may exhibit a negative Cotton effect in 195-205 nm wavelength in a circular dichroism spectrum.
前記ポリペプチドは、円二色性スペクトルにおいて、波長２２０〜２３０ｎｍに正のコットン効果を示し、波長１９５〜２０５ｎｍに負のコットン効果を示してもよい。 - 特許庁 - In this device for treating a blood vessel by laser, the laser emits the laser beam of a predetermined power level within a range of wavelength 750-850 nm, preferably 805 nm.
レーザーによって血管を治療する装置において、レーザーは、好ましくは８０５ｎｍである７５０ｎｍ〜８５０ｎｍの波長範囲で特定のパワーレベルのレーザービームを発する。 - 特許庁 - The ultraviolet rays preferably have wavelengths of 200 to 450 nm and the photopolymerization initiator preferably has an absorption region in wavelength of light of 220 to 450 nm.
該紫外線は２００〜４５０ｎｍの波長を有することが好ましく、光重合開始剤は光の波長２２０〜４５０ｎｍに吸収域を有することが好ましい。 - 特許庁 - Light having ≤350 nm wavelength is preferably used as the light source for the abrasion processing and light having 150 to 300 nm wavelength is more preferably used.
アブレーション加工の光源として、３５０ｎｍ以下の波長を有する光を用いることが好ましく、１５０〜３００ｎｍの波長を有する光を用いることがさらに好ましい。 - 特許庁 - The crystallite diameter of the lithium-cobalt composite oxide is 50-80 nm in the (003) vector direction and 60-100 nm in the (110) vector direction.
リチウム−コバルト複合酸化物の結晶子径は、（００３）ベクトル方向が５０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であり、（１１０）ベクトル方向が６０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。 - 特許庁 - The obtained epitaxial zinc oxide thin film exhibits an exciton luminescence at the ultraviolet region (381 nm) when excited at 25°C by He-Cd laser (325 nm) of 15 mW.
得られた酸化亜鉛エピタキシャル薄膜は、２５℃において１５ｍＷのＨｅ−Ｃｄレーザー（３２５ｎｍ）で励起したとき、紫外部（３８１ｎｍ）に励起子発光を示すものである。 - 特許庁 - An input/output history storage part 24 stores the input/output history of a variable output system 10 (a torque command value Tq prior to a time t-1 and the history of a motor rotation speed Nm).
入出力履歴記憶部２４は可変出力システム１０の入出力履歴（時刻t-1以前のトルク指令値Tqと電動機回転速度Nmの履歴）とを記憶する。 - 特許庁 - The i layer 4 has a film thickness of 300-1,000 nm, and each of the amorphous thin film 41 and the crystal thin film 42 has a film thickness of 10-20 nm.
そして、ｉ層４は、３００ｎｍ〜１０００ｎｍの膜厚を有し、非晶質薄膜４１および結晶薄膜４２の各々は、１０ｎｍ〜２０ｎｍの膜厚を有する。 - 特許庁 - The granular layer 14 is made as the structure dispersed with electrically conductive fine particles 22 in an insulating matrix 20 and, for instance, is formed to a thickness of the order of hundreds nm.
グラニュラ層１４は、絶縁性マトリクス２０中に導電性微粒子２２を分散した構造となっており、例えば数百nm程度の膜厚に形成される。 - 特許庁 - On the occasion, R_maxA is set to be 500 nm or below, while R_maxB is set to be 300-1,000 nm and also equal to or higher than R_maxA.
このとき、Ｒ_ｍａｘＡは５００ｎｍ以下に設定され、Ｒ_ｍａｘＢは３００〜１０００ｎｍに設定されるとともにＲ_ｍａｘＡ以上に設定されている。 - 特許庁 - The granular activated carbon satisfies expression; 75<(S-500)/20+MPR [wherein, S is BET specific surface area (m^2/g); MPR is micropore volume ratio (pore volume of ≤1.6 nm/pore volume of ≤20 nm×100)].
式 75<（S−500）／20 + MPR但し、 S：BET比表面積（m^2/g） MPR：ミクロポア容積率 （1.6nm以下の細孔容積／20nm以下の細孔容積 ×100） を満たす粒状活性炭が、前記課題を解決した。 - 特許庁 - The resulting sulfite or sulfate is a solid and grows in a form of bulk of particles incapable of passing through the porous oxide layer 2 whose average pore diameter is 0.5 nm to 10 nm and is fixed to the nuclei 1.
これらは固体でありバルク状に粒成長することから、平均細孔径が 0.5nm〜10nmの多孔質酸化物層２を通過できず核体１に固定化される。 - 特許庁 - The (i) layer 4 has a film thickness of 300-1,000 nm, and each of the amorphous thin film 41 and the crystal thin film 42 has a film thickness of 10-20 nm.
そして、ｉ層４は、３００ｎｍ〜１０００ｎｍの膜厚を有し、非晶質薄膜４１および結晶薄膜４２の各々は、１０ｎｍ〜２０ｎｍの膜厚を有する。 - 特許庁 - A first prepit formed in the system lead-in area 24A has 80 to 110 nm depth and 160 to 190 nm half value width.
システム・リードイン領域２４Ａに形成される第１プリピットの深さを、８０ｎｍ以上、１１０ｎｍ以下とし、第１プリピットの半値幅を、１６０ｎｍ以上、１９０ｎｍ以下とする。 - 特許庁 - When there is a diffusion preventing film on either the upper or the lower interface, the physical film thickness must be in a range of 2.8 nm or larger and 5.0 nm or smaller.
上界面もしくは下界面どちらか一方に拡散防止膜がある場合には、物理膜厚を２．８ｎｍ以上５．０ｎｍ以下の範囲にする必要がある。 - 特許庁 - A second prepit formed in the system lead-out area 24B has 25 to 35 nm depth and 170 to 210 nm half value width.
システム・リードアウト領域２４Ｂに形成される第２プリピットの深さを、２５ｎｍ以上、３５ｎｍ以下とし、第２プリピットの半値幅を、１７０ｎｍ以上、２１０ｎｍ以下としている。 - 特許庁 - The magnetic nanoparticles contain an iron alloy, have a mean particle size of not less than 1 nm and not more than 5 nm and a coercivity of not less than 0.1 KA/m and not greater than 16 KA/m.
鉄合金を含み、平均粒径が１ｎｍ以上５ｎｍ未満であり、かつ保磁力が１６ＫＡ／ｍ以下０．１ＫＡ／ｍ以上である磁性微粒子。 - 特許庁 - The sensitizing dye has the absorption maximum in the range of 300 nm to 500 nm and has the solubility parameter (SP value) in the range expressed by |SP value of the sensitizing dye - SP value of the mixture of the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group and the binder resin|≤8 MPa^1/2.
｜増感色素のＳＰ値−エチレン性不飽和基を有する重合可能な化合物とバインダー樹脂との混合物のＳＰ値｜≦８ＭＰａ^1/2 - 特許庁 - To obtain a good pattern shape when a resist film is patternwise exposed with light of 1 nm band to 180 nm band to form a resist pattern.
露光光として１ｎｍ帯〜１８０ｎｍ帯の光を用いてパターン露光を行なってレジストパターンを形成する場合に、良好なパターン形状が得られるようにする。 - 特許庁 - In this case, the particle size of the particulate of titanium oxide is preferably set to be 5 nm to 20 nm, and the spray particle diameter when the titanium oxide solution is sprayed is preferably set to be 1 μm to 20 μm.
この際、酸化チタンの微粒子の粒径を５ｎｍ〜２０ｎｍ、酸化チタン水溶液を噴霧する際の噴霧粒子径を１μｍ〜２０μｍとすることが好ましい。 - 特許庁
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