「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 27 28 29 30 31 32 33 34 35 .... 287 288 次へ＞- A thickness of the charge transport organic material layer 3c is in a range between 0.5 to 30 nm.
また電荷輸送性材料の層３ｃの厚みは０．５〜３０ｎｍの範囲である。 - 特許庁 - The first dielectric layer 12 has 25 to 70 nm film thickness T1.
この際、第１の誘電体層１２の膜厚Ｔ１は、２５ｎｍ以上７０ｎｍ以下である。 - 特許庁 - To provide an electrophotographic photoreceptor which is exposed with light whose wavelength is 380-500 nm.
３８０〜５００ｎｍの波長の光で露光させる電子写真感光体を提供する。 - 特許庁 - The thickness of the Pd film 106 is larger than one atom layer, being 10 nm or less.
Ｐｄ膜１０６の膜厚は、１原子層よりも大きく１０ｎｍ以下である。 - 特許庁 - The polymer particles are desirably fine particles having a mean particle size of 10 nm-10 μm.
ポリマー粒子は、平均粒子径１０ｎｍ〜１０μｍの微粒子であることが望ましい。 - 特許庁 - The organic fiber is formed out of the organic gel and has a diameter of ≤500 nm.
該有機ゲルからなり、直径５００ｎｍ以下であることを特徴とする有機ファイバー。 - 特許庁 - The primary particle diameter of the hydrophilic silica is desirably 5 to 40 nm.
また、親水性シリカの一次粒径は、５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁 - A mean particle diameter of the nano crystal particle may be in a range of 10-100 nm.
またナノ結晶粒子の平均粒径が１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲であっても良い。 - 特許庁 - Preferably the fine particle powder is fine particle silica and the particle diameter is 5-40 nm.
また、微粒子粉末が微粒子シリカであり、粒径が５〜４０nmであることが好適である。 - 特許庁 - MEASURING METHOD FOR nm 23 PROTEIN AND DIAGNOATIC METHOD FOR MALIGNANT TUMOR BY USING IT
ｎｍ２３タンパク質の測定方法及びそれを用いた悪性腫瘍の診断方法 - 特許庁 - To provide a fluorine molecular laser for generating a laser output beam of about 157 nm.
１５７nm付近のレーザ出力ビームを発生するためのフッ素分子レーザシステムを提供する。 - 特許庁 - A recording layer 4 having nearly 20 nm thickness is formed on the soft magnetic layer 3.
また、軟磁性層３上に、厚さが２０ｎｍ程度の記録層４が形成されている。 - 特許庁 - As a result, ultraviolet rays having high luminous efficiency can be obtained in a wavelength range of 220-300 nm.
これにより、２２０〜３００ｎｍに発光効率の高い紫外線を得ることができる。 - 特許庁 - A third nonlinear optical crystal 8 emits a laser beam at a wavelength of 782 nm.
第３の非線形光学結晶８は、波長７８２ｎｍのレーザ光を出射する。 - 特許庁 - A second nonlinear optical crystal 4 emits a laser beam at a wavelength of 266 nm.
第２の非線形光学結晶４は、波長２６６ｎｍのレーザ光を出射する。 - 特許庁 - A narrow band light/excitation light pumping source 52 generates blue light with a wavelength of 405 nm.
狭帯域光／励起光光源５２は、波長４０５ｎｍの青色光を発生する。 - 特許庁 - Analog switches TFT 20-11 to 20-nm are divided into (n) blocks with (m) pieces as one block.
アナログスイッチＴＦＴ２０-11〜２０-mnを、ｍ個を１ブロックとしてｎブロックに分割する。 - 特許庁 - MULTIPLE PULSE SPACE PROCESSING TO ENHANCE VIA ENTRANCE FORMATION AT 355 NM
３５５ｎｍでのヴァイア入口の形成を向上させるための多パルスによる間隔どりの処理 - 特許庁 - An LP (low pressure CVD)-SiN film is formed at a film thickness of tens nm for a contact etching stopper.
コンタクトエッチングのストッパ用にＬＰ−ＳｉＮ膜を数十ｎｍの膜厚で形成する。 - 特許庁 - The source material 8 is preferably a powder material having 10 nm to 100 μm average particle size.
また、原料８は、平均粒径が１０ｎｍ〜１００μｍの粉末であるのが好ましい。 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING BARIUM TITANATE OR STRONTIUM TITANATE WITH MEAN PARTICLE DIAMETER OF LESS THAN 10 NM
平均粒径１０ｎｍ未満のチタン酸バリウム又はチタン酸ストロンチウムの製造方法 - 特許庁 - The vapor-phase etching is performed so that the etching amount may become 10 nm to ≤0.1 μm.
この気相エッチングを、１０ｎｍ以上、０．１μｍ以下のエッチング量となるように行う。 - 特許庁 - The arithmetic average roughness of the metal oxide film is set being ≤10 nm.
また、金属酸化物膜の表面の算術平均粗さＲａを１０ｎｍ以下とする。 - 特許庁 - Preferably, the average particle size of the zeolite is 0.5-10 μm, and its pore size is 0.2-1 nm.
また、ゼオライトの平均粒子径は０．５〜１０μｍが、孔径は０．２〜１ｎｍが好ましい。 - 特許庁 - The rubber composition contains carbon black of 10-60 nm in a particle diameter.
ゴム組成物は、粒子直径が１０ｎｍ以上６０ｎｍ以下のカーボンブラックを含んでいる。 - 特許庁 - The average grain size of the conductive inorganic oxide particle is preferably 5-200 nm.
導電性無機酸化物粒子の平均粒径は、５ｎｍ〜２００ｎｍであると好ましい。 - 特許庁 - An average particle size of the silica-based composite oxide particles is in the range of 5-500 nm.
前記シリカ系複合酸化物粒子の平均粒子径が５〜５００ｎｍの範囲にある。 - 特許庁 - In some examples, the reflection band of the multilayer structure is smaller than 100 nm.
いくつかの例では、該マルチレイヤー構造の反射帯域が１００ナノメートル未満である。 - 特許庁 - PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITION SENSITIZED FOR WAVELENGTH RANGE FROM 300 TO 450 NM
３００〜４５０ＮＭの波長範囲に関して増感された光重合可能な組成物 - 特許庁 - The light-emitting device 2 uses a light source which emits light with wavelengths 450-650 nm.
発光器２は、波長４５０〜６５０ｎｍの光を発生する光源を使用している。 - 特許庁 - The indium-tin-iron catalyst is composed of catalytic fine particles 24, whose diameters are prepared in the range of 1 nm-100 μm.
触媒微粒子２４の直径は１ｎｍ〜１００μｍの範囲に調製される。 - 特許庁 - The first metal film 14a has a film thickness of 1 to 10 nm.
第１の金属膜１４ａは、膜厚が１ｎｍ以上であって且つ１０ｎｍ以下である。 - 特許庁 - An average size of the graphene pieces is 50 nm or less with the number of layers of 9 or less.
グラフェン小片の平均サイズが５０ｎｍ以上であり、層数が９層以下である。 - 特許庁 - The film thicknesses of the alignment stabilization film ST1 and ST2 are specified to a range of 10 to 150 nm.
配向安定化膜ＳＴ１、ＳＴ２の膜厚を１０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲とする。 - 特許庁 - Preferably, the maximum grain size of the oxides dispersed into the structure is ≤15 nm.
好ましくは組織中に分散する酸化物の粒径は最大で１５ｎｍ以下である。 - 特許庁 - The housing case substantially transmits light at a wavelength of 600 nm or longer.
また、上記収納ケースは、波長が６００ｎｍ以上の光を実質的に透過する。 - 特許庁 - The uneven shape has projections of 50 to 1,200 nm in maximum height.
凹凸形状は、最大高さが５０ｎｍ以上１２００ｎｍ以下である凸部を有している。 - 特許庁 - An average particle diameter of the colloidal silica 4 is limited within a range of 10-100 nm.
コロイダルシリカ４の平均粒子径は、１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲に制限されている。 - 特許庁 - The two substrates are bonded before the layer thicknesses of the substance layers 102 reach 1 nm.
物質層１０２の層厚が、１ｎｍになる前に、２つの基板の着接を行う。 - 特許庁 - The surface of the glass substrate is polished and its surface roughness Ra is no larger than 2 nm.
ガラス基板の表面が研磨され、その表面粗さＲａが２ｎｍ以下とされた。 - 特許庁 - The maximum of the peak-to- peak difference of the reflectance in the region from 500 to 650 nm is ≤1.0%.
さらに、500〜650ｎｍにおける反射率の振幅の差の最大値が1.0％以下である。 - 特許庁 - It is essentially important that the width of the high impurity concentration region 6 is not wider than 30 nm.
高濃度領域６の幅が３０ｎｍ以下であることが本質的に重要である。 - 特許庁 - The ultrathin film is approached to the metal nano-particle with the minimum distance of 3.4 nm.
この超薄膜を、金属ナノ粒子単粒子層と3.4nmの最小距離で近接させる。 - 特許庁 - The optical fiber has an effective area of 100 μm^2 or more at a wavelength of 1,550 nm.
光ファイバは、１５５０ｎｍの波長で１００μｍ^２以上の実効面積を有する。 - 特許庁 - The cellulose acetate film is controlled to have an Re retardation value ranging from 0 to 20 nm.
セルロースアセテートフイルムは、Ｒｅレターデンション値が０乃至２０ｎｍの範囲に制御されている。 - 特許庁 - Lights of ≤360 nm wavelength, is reduced by the second transparent substrate 250.
波長が３６０ｎｍ以下の光については第２の透明基板２５０で減少させる。 - 特許庁 - This makes it possible to adjust the objected optical axis of the laser light with an original wavelength of 157 nm.
これにより本来の波長１５７ｎｍのレーザ光の光軸が調整される。 - 特許庁 - Consequently, the unnecessary light of 580 nm in wavelength included in the G-color light is removed.
これにより、Ｇ色光に含められた波長５８０ｎｍの不要光が除去される。 - 特許庁 - The average particle size distribution of the lanthanum hydroxide is ≤500 nm.
また、前記水酸化ランタンの平均粒度分布は５００ｎｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁 - The film is exposed to broadband ultraviolet radiation of less than 240 nm.
一実施形態では、該フィルムが、２４０ｎｍ未満の広帯域の紫外線照射へ露光される。 - 特許庁
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