「nm」を含む例文一覧(14378)

＜前へ 1 2 .... 28 29 30 31 32 33 34 35 36 .... 287 288 次へ＞
  • The inorganic particle is preferably an inorganic oxide particle having an average particle size of 50-450 nm.
    無機粒子としては、平均粒子径５０〜４５０ｎｍの無機酸化物粒子が好ましい。 - 特許庁
  • The cellulose acetate film is controlled to have an Re retardation value ranging from 0 to 20 nm.
    セルロースアセテートフイルムは、Ｒｅレターデンション値が０乃至２０ｎｍの範囲に制御されている。 - 特許庁
  • The specified section of the photoresist is exposed to the light of 200 nm or under in wavelength (Fig. 2(b)).
    フォトレジスト１の所定部分を波長２００nm以下の光に露光させる（図２（ｂ））。 - 特許庁
  • The zirconium oxide layer has a refractive index at wavelength 550 nm of ≥2.0.
    本発明の酸化ジルコニウム層は、波長５５０ｎｍにおける屈折率が２．０以上である。 - 特許庁
  • The substrate is etched in a thickness of 10 nm or more by an ion beam of inert gas.
    基板を不活性ガスのイオンビームによって、１０ｎｍ以上の厚みでエッチングする。 - 特許庁
  • The peak output wavelength of the green light-emitting diodes is preferably 510-524 nm.
    緑色発光ダイオードのピーク出力波長は５１０〜５２４ｎｍであることが好ましい。 - 特許庁
  • The oxide film shows 50% light transmittance at a wavelength of ≤320 nm at the shortest.
    酸化物膜は、光透過率が５０％を示す最短波長が３２０ｎｍ以下である。 - 特許庁
  • Subsequently, an alexandrite laser (700 to 820 nm) is irradiated on the photocatalyst film (4) from the transparent electrode (3) side.
    ついで、光触媒膜(4)に透明電極(3)側からアレキサンドライトレーザ（700-820nm）を照射した。 - 特許庁
  • The wavelength of the laser light with which the catalyst for exhaust gas cleaning is irradiated is 442 nm or shorter.
    排ガス浄化用触媒に照射するレーザー光の波長は、４４２ｎｍ以下である。 - 特許庁
  • Ozone concentration in the ozone-containing gas is preferably 1 g/Nm^3 or higher.
    使用するオゾン含有ガス中のオゾン濃度は、１ｇ／Ｎｍ^３以上とすることが好ましい。 - 特許庁
  • The halogenated polyimide film has a refractive index of e.g. ≤1.520 at 1,550 nm wavelength.
    このハロゲン化ポリイミドフィルムは、例えば、波長１５５０ｎｍでの屈折率が１．５２０以下である。 - 特許庁
  • An average size of particles of the catalyst for the cathode electrode is not more than 6 nm.
    前記カソード電極用触媒は、粒子の平均の大きさが６ｎｍ以下である。 - 特許庁
  • The pattern includes an array pattern having the smallest pitch dimension below 100 nm.
    また、前記パターンは、最小ピッチ寸法が１００ｎｍ以下である配列パターンを含む。 - 特許庁
  • This photocatalyst has photocatalytic activity at any light wavelength in the range of 315 to 700 nm.
    この光触媒は、光波長315〜700nm間のいずれも光触媒活性を有している。 - 特許庁
  • A blue laser light source D1 emits the laser beam L1 of a wavelength of 405 nm band.
    青色レーザ光源Ｄ１は、波長４０５ｎｍ帯のレーザビームＬ１を出射する。 - 特許庁
  • A method for producing tubular carbon molecules having lengths of about 5 to 500 nm is also disclosed.
    長さが約５ないし５００ｎｍの管状炭素分子の製造法も開示される。 - 特許庁
  • MONOMER HAVING HIGH SILICON CONTENT AND SUITABLE FOR BILAYER RESIST FOR 194 nm AND ITS POLYMER
    １９３ｎｍ用二層レジストに適するケイ素含有量の高いモノマーおよびポリマー - 特許庁
  • TABLE TENNIS PACKET TREATED FOR LIGHT EMISSION BY ULTRAVIOLET IRRADIATION (WAVELENGTH 365 NM)
    紫外線（波長３６５ｎｍ）照射により発光する処理を施した卓球用ラケット。 - 特許庁
  • The recesses 7 are limited to an area ratio of 0.2 to 0.50:1 and 200 to 600 nm in average diameter.
    この凹部７は、面積比率２０〜５０％、平均径２００〜６００ｎｍの範囲とする。 - 特許庁
  • The conductive micro meso-porous material has a specific porosity distribution (a porous diameter of 0.4 to 5 nm).
    導電性のミクロ・メソポーラス材料は特定の細孔分布を持つ（０．４〜５ｎｍ細孔径）。 - 特許庁
  • As for the volume average aggregate diameter of inorganic fine particle (A), 100-300 nm is desirable.
    無機微粒子（Ａ）の体積平均凝集粒子径は１００〜３００ｎｍが好ましい。 - 特許庁
  • To easily and reliably support an NOx occluding material as hyperfine particles of several ten nm or below.
    NO_x 吸蔵材を数10nm以下のきわめて微細な粒子として容易かつ確実に担持する。 - 特許庁
  • Preferably the grain size of the oxide dispersed in the texture is 25 nm or less at maximum.
    好ましくは組織中に分散する酸化物の粒径は最大で２５ｎｍ以下である。 - 特許庁
  • The expandable particle has an average particle size of about 100 nm or less (preferably 1-100nm).
    前記粒子の平均粒径は１００ｎｍ以下（好ましくは１〜１００ｎｍ）程度である。 - 特許庁
  • The average length of the chain-like colloid particles has an average length of, for example, about 40 to 200 nm.
    鎖状コロイド粒子の平均長さは、例えば４０〜２００ｎｍ程度である。 - 特許庁
  • The optical film preferably has an absolute value of a retardation value (Re) of 50 nm or less.
    本発明の光学フィルムは、リタデーション値（Ｒｅ）の絶対値が５０ｎｍ以下であるとよい。 - 特許庁
  • The resultant particle has ≤100 nm average particle diameter and is mono-dispersed.
    得られた粒子は、平均直径が１００ｎｍ以下で単分散しているものである。 - 特許庁
  • The outermost layer of the metallic granular element 31 is oxidized with a thickness of 0.5-100 nm.
    金属粒状体３１の最表層は、０．５〜１００ｎｍの厚さで酸化されている。 - 特許庁
  • The average diameter of the hole is ≤20 nm, and the luminescent material is a rare earth.
    孔の平均直径が２０ｎｍ以下であり、前記発光材料は希土類である。 - 特許庁
  • The surface roughness of the magnetic recording medium is specified to be in the range of 0.1≤Ra≤2.0 nm.
    また、磁気記録媒体の表面粗さを、０．１ｎｍ≦Ｒａ≦２．０ｎｍの範囲内とする。 - 特許庁
  • To efficiently produce a microcrystal of vanadium pentoxide having a layer length of 100 nm or less.
    層長が１００ｎｍ以下の五酸化バナジウムの微細結晶を効率的に製造する。 - 特許庁
  • Each of offices ST1-STm is provided with in-office monitoring devices N1-Nm.
    各局舎ＳＴ１〜ＳＴｍに局舎内監視装置Ｎ１〜Ｎｍをそれぞれ設ける。 - 特許庁
  • The active layer 15 made from InGaN is made into a thick film having a film thickness of 4 nm to critical film thickness.
    InGaNからなる活性層１５を、4nm以上臨界膜厚以下の膜厚に厚膜化した。 - 特許庁
  • The low refractive index layer has a refractive index of 1.30-1.60 and a film thickness of 5-310 nm.
    低屈折率層は、屈折率が１．３０〜１．６０で膜厚が５〜３１０ｎｍである。 - 特許庁
  • The surface after etching with the solution is so polished that the surface roughness is 1 nm in RMS.
    水溶液でのエッチング後の表面粗さをＲＭＳで１ｎｍに抑える研磨を行う。 - 特許庁
  • It is preferable that the catalytic fine particles have particle diameters within a range of 0.4-10 nm.
    触媒微粒子は、粒径が０．４〜１０ｎｍの範囲にあるものであることが好ましい。 - 特許庁
  • Preferably, the method is applied to the lubricating film having a film thickness of 2.0 nm or less.
    また、この方法は、膜厚が２．０ｎｍ以下の潤滑膜に適用することが好ましい。 - 特許庁
  • A total thickness of the layers formed by the carbon material is within a range of 1-200 nm.
    （Ｃ）炭素材料が形成する層の総厚みが、１ｎｍ〜２００ｎｍの範囲である。 - 特許庁
  • To provide a light source device which generates continuous light having a wavelength of 210 nm or less with a simple structure.
    ２１０ｎｍ以下の波長を有する連続光を、簡単な構成で発生する。 - 特許庁
  • The optical glass has ≤650°C glass transition point and refractive index of ≥1.70 at 633 nm wavelength.
    ガラス転移点≦６５０℃、６３３ｎｍでの屈折率≧１．７０である前記光学ガラス。 - 特許庁
  • To emit light having a long wavelength of 600 nm or more by incorporating a large quantity of In therein.
    Ｉｎを多く含ませて６００ｎｍ以上の長波長の発光を可能にする。 - 特許庁
  • The centerline surface average roughness Ra of the surface of the layer 20 is 4 nm or smaller.
    また、上層２０の表面の中心線平均粗さＲａが４ｎｍ以下である。 - 特許庁
  • POLYMER COMPOSITION INCLUDING DOUBLE-WALLED CARBON NANOTUBE WITH AVERAGE MAJOR DIAMETER OF 4 NM OR LESS AND PRODUCTION METHOD
    平均外径４ｎｍ以下の２層ＣＮＴを含むポリマー組成物および製造方法 - 特許庁
  • The average grain size of the fine crystal grains is controlled to 1-50 nm.
    微細結晶粒の平均粒径は１ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲内に制御する。 - 特許庁
  • The crystalline layer contains at least one crystal grain having a grain diameter of 500 nm or more.
    結晶質層は、粒径が５００ｎｍ以上の結晶粒を少なくとも一つは含む。 - 特許庁
  • Further, light having wavelength of about ≤1,000 nm is irradiated for a period of time within about 1 ms.
    更に、波長約１０００nm以下の光を、約１ミリ秒以内の時間照射する。 - 特許庁
  • The resin composition comprises a thermoplastic resin and fibers having a diameter of not greater than 90 nm.
    熱可塑性樹脂、及び直径が９０ｎｍ以下である繊維からなる樹脂組成物。 - 特許庁
  • Information recording is performed by irradiating the recording layer with the laser beam having 380-430 nm wavelength.
    波長３８０ｎｍ〜４３０ｎｍのレーザ光照射により情報の記録が行われる。 - 特許庁
  • The camera 32 has sensitivity on red in a range where wavelength is 600 to 700 nm.
    電子カメラ３２は、波長６００〜７００ｎｍの範囲に赤色の感度をもっている。 - 特許庁
  • The spherical carbon porous body preferably has an average pore diameter of 3.0 nm or less.
    球状カーボン多孔体は、平均細孔径が３．０ｎｍ以下であるものが好ましい。 - 特許庁
＜前へ 1 2 .... 28 29 30 31 32 33 34 35 36 .... 287 288 次へ＞

例文データの著作権について

  • 特許庁
    Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.