「nm」を含む例文一覧(14378)

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  • An active layer 17 is provided to produce light in a wavelength range of 580 nm to 800 nm.
    活性層１７は、５８０ｎｍ以上８００ｎｍ以下の波長範囲の光を生成するように設けられている。 - 特許庁
  • An average thickness of the palladium layer 4 is 5 nm or more.
    パラジウム層４の平均厚みは５ｎｍ以上である。 - 特許庁
  • The light H to be applied has unique water absorption wavelength of 950 nm or 1,450 nm.
    照射する光Ｈは、その光の波長を９５０ｎｍ又は１４５０ｎｍの水の特異吸収波長とする。 - 特許庁
  • The ITO layer has a refractive index in the wavelength 400 nm of light being 1.85-2.35 and a film thickness of 5-50 nm.
    ＩＴＯ層は、光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．８５〜２．３５、膜厚が５〜５０ｎｍである。 - 特許庁
  • 1-50 nm is desirable for film thickness of the non-magnetic layer 5.
    非磁性層５の膜厚は１〜５０ｎｍが好ましい。 - 特許庁
  • For example, an Ar ion laser at the wavelength λ=334 nm or a He-Cd laser at the wavelength λ=325 nm is used.
    例えば、波長λ＝３３４ｎｍのＡｒイオンレーザーやλ＝３２５ｎｍのＨｅ−Ｃｄレーザーを使用する。 - 特許庁
  • (2) The optical density of the dark-color isolation wall at 555 nm is 2.0 to 10.
    (2)濃色離画壁の555nmにおける光学濃度が2.0〜10。 - 特許庁
  • The film thickness t1 of the Ni layer 21 is kept within a range of 30 to 100 nm.
    Ni層２１の膜厚t1は30nm〜100nmの範囲内である。 - 特許庁
  • This twisting rigidity (K1) is 5 Nm/deg or more.
    この捩り剛性（Ｋ１）は、５Ｎｍ／ｄｅｇ以上である。 - 特許庁
  • A NO_x occluding material comprises small particles below 100 nm in average particle size and large particles at least 100 nm in average particle size.
    NO_x 吸蔵材を、平均粒径が 100nm未満の小粒子と平均粒径が 100nm以上の大粒子とから構成した。 - 特許庁
  • The steel sheet has a coating having an average film thickness of 10 nm to 2,000 nm and containing crystalline lamellar material on the surface of the sheet.
    鋼板の表層には、平均膜厚が10nm〜2000nmである結晶性層状物を含有する皮膜を有する。 - 特許庁
  • The average particle diameter of the primary particles is 5 to 500 nm.
    一次粒子の平均粒径は５〜５００ｎｍである。 - 特許庁
  • The CNT-containing porous film includes the carbon nanotube (A) having ≤5 nm diameter and an organic compound (B) wherein the dipole moment μ and the molecular length L of the organic compound (B) satisfy inequalities: 1.5 nm<L<2.5 nm when 10D>μ>5D, and 1.5 nm<L<3.5 nm when μ<5D.
    本発明に係るＣＮＴ含有多孔質膜は、直径が５ｎｍ以下のカーボンナノチューブ（Ａ）および有機化合物（Ｂ）を含み、前記有機化合物（Ｂ）の双極子モーメントμと分子長Ｌが、１０Ｄ＞μ＞５Ｄの場合は１．５ｎｍ＜Ｌ＜２．５ｎｍであり、μ＜５Ｄの場合は１．５ｎｍ＜Ｌ＜３．５ｎｍである。 - 特許庁
  • A substance carrier has nanocarbon having an inner diameter of 2-5 nm and an opening having a diameter of 1-2.5 nm in a wall surface.
    物質担体は壁面に１〜２．５ｎｍの径の開口を備えた内径が２〜５ｎｍのナノ炭素を有する。 - 特許庁
  • An average thickness of the palladium layer 4 is 5-500 nm.
    パラジウム層４の平均厚みは５〜５００ｎｍである。 - 特許庁
  • The hologram 7 for detecting track exists at upper half part of the 650 nm beam and does not exist at lower half part of the 650 nm beam.
    トラック検出用ホログラム７は、６５０ｎｍビームの上半分に有り、６５０ｎｍビームの下半分にはない。 - 特許庁
  • The deposition rate of the silicon film is preferably 0.02 to 1 nm/s, and more preferably 0.05 to 0.5 nm/s.
    シリコン膜の堆積速度は、好ましくは０．０２〜１ｎｍ／ｓであり、より好ましくは、０．０５〜０．５ｎｍ／ｓである。 - 特許庁
  • The silicon oxide film 8 has a thickness of 15-40 nm while the silicon nitride film 9 has a thickness of 20-50 nm.
    酸化シリコン膜８は１５ｎｍ〜４０ｎｍの厚さであり、窒化シリコン膜９は２０ｎｍ〜５０ｎｍの厚さである。 - 特許庁
  • As a result, the emission spectrum is shifted to the long wavelength side centering a wavelength of 365 nm rather than a wavelength of 254 nm.
    その結果波長２５４ｎｍよりも、波長３６５ｎｍを中心とした長波長側にシフトしていく。 - 特許庁
  • Therein, Re(40)_450 and Re(40)_550 represent retardation values respectively measured at wavelengths 450 nm, 550 nm.
    ここで、Ｒｅ（４０）_450、Ｒｅ（４０）_550はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍで測定したレターデーション値を示す。 - 特許庁
  • The silver halide is exposed with the light having the peak at 510 nm wavelength close to the optimum wavelength of 530 nm.
    最適波長５３０ｎｍに近い光波長５１０ｎｍにピークを有する光でハロゲン化銀を感光させる。 - 特許庁
  • In this case, light emission having a wavelength of 600 nm can be confirmed.
    波長６００ｎｍ以上の発光を確認できた。 - 特許庁
  • To planarize a substrate or thin film having an uneven portion of several nm on a surface.
    数nmサイズの凹凸部を表面に有する基盤や薄膜を、原子レベルにまで平坦化することを目的とする。 - 特許庁
  • A near-infrared light of 600 nm to 800 nm having a superior permeability to a skin of a human body can be irradiated efficiently.
    人体の皮膚への透過性に優れる６００nmから８００nmの近赤外光を効率良く放射できる。 - 特許庁
  • The average film thickness of the metallic layers of the isolated island-shaped structures is preferably specified to 0.1 nm, 2 nm.
    島状に孤立した構造の金属層の平均膜厚を０．１ｎｍ以上で、２ｎｍ以下とするのが良い。 - 特許庁
  • To provide a producing method which mass-produces a sintered body of metal oxide having a fine crystal grain size of nm order.
    nmオーダの微細な結晶径を備えた金属酸化物焼結体を量産し得る製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The gating has a pitch of 240 nm (λ=1.55 μm).
    グレイティングは、２４０ｎｍ（λ＝１．５５μｍ）のピッチである。 - 特許庁
  • The metal cluster 2 has ≥1 nm average particle size.
    金属クラスター２の平均粒径は１ｎｍ以上である。 - 特許庁
  • The spacer layer 14b has a thickness of 3-5 nm.
    前記スペーサー層１４ｂの厚さは、３〜５ｎｍである。 - 特許庁
  • The maximal transmittance of the optical filter part with respect to light with wavelength of 630 nm to 750 nm is less than 2%.
    波長が６３０ｎｍ〜７５０ｎｍである光についての光フィルタ部の最大透過率が２％以下である。 - 特許庁
  • The maximal transmittance of the optical filter part with respect to light with wavelength of 550 nm to 630 nm is less than 1%.
    波長が５５０ｎｍ〜６３０ｎｍである光についての光フィルタ部の最大透過率が１％以下である。 - 特許庁
  • The ITO (tin-doped indium oxide) layer has refraction of 1.85-2.35 with the light of 400 nm in wavelength and is 5-50 nm in film thickness.
    ＩＴＯ層は、波長４００ｎｍの光の屈折率が１．８５〜２．３５、膜厚が５〜５０ｎｍである。 - 特許庁
  • At discharging, a particle diameter of the transition metal generated from the compound is larger than 0 nm and not more than 500 nm.
    放電時に化合物から生成する遷移金属の粒子径が０ｎｍより大きく５００ｎｍ以下である。 - 特許庁
  • The lighting device has a blue LED for emitting light of wavelengths ranging from 460 nm to 470 nm as a light source.
    照明装置は、４６０ｎｍ〜４７０ｎｍの波長の光を発光する青色ＬＥＤを光源としている。 - 特許庁
  • The visible ray wavelength region corresponds to a range of 450-650 nm.
    可視光波長領域は、４５０〜６５０ｎｍである。 - 特許庁
  • Recording is performed on the optical recording medium with light having 600 to 720 nm wavelength.
    この光記録媒体に600〜720nmの波長で記録する。 - 特許庁
  • The laser beam is generated by a solid-state laser (105), having an operating wavelength range of about 330 nm to about 440 nm.
    レーザビームは、約３３０ｎｍ〜約４４０ｎｍの動作波長範囲を有する固体レーザ(105)により生成される。 - 特許庁
  • The near ultraviolet light has a wavelength of 220 to 380 nm.
    近紫外光の波長は２２０〜３８０ｎｍである。 - 特許庁
  • Desirably, the carbon fiber aggregate is composed of very fine single-wall carbon nanotubes having a diameter of 0.6 nm to 1 nm.
    好ましくは直径が０．６ｎｍ〜１ｎｍの極細単層カーボンナノチューブからなる炭素繊維集合体。 - 特許庁
  • The thickness of the oxide layer is 0.05 to 10 nm.
    前記酸化物層の厚さが０．０５〜１０ｎｍである。 - 特許庁
  • The light intensity from the arc light necessary therefor is from 0.1 W/m^2 to 10 kW/m^2 and the wavelength range is from 180 nm to 450 nm.
    これに必要なアークライトからの光強度は0.1W/m2から10kW/m2で波長範囲は180nmから450nmの範囲である。 - 特許庁
  • The phosphor converting light having wavelength of 500 nm or less to that having wavelength of 500-600 nm is used.
    蛍光体には、波長５００ｎｍ以下の光を波長５００〜６００ｎｍの光に変換するもの用いる。 - 特許庁
  • The pore size of the polarizable electrode 1 is 1 to 20 nm, and the pore size of the separator 2 is 10 nm or smaller.
    分極性電極１の細孔径が、１〜２０ｎｍであり、セパレータ２の細孔径は１０ｎｍ以下である。 - 特許庁
  • The ceramic body has a total transmittance higher than 92% in the wavelength range of 400 nm to 700 nm.
    セラミックボディが４００ｎｍから７００ｎｍの波長領域で９２％よりも高い全透過率を有する。 - 特許庁
  • The ultrafine compound preferably has a grain size of 0.5 to 50 nm.
    この超微粒化合物の粒径は0.5〜50nmが好ましい。 - 特許庁
  • The particle size of the light scattering particles is specified to 20-1,000 nm, and the particle size of the light absorbing particles is specified to 1-200 nm.
    光散乱粒子の粒径は２０〜１０００ｎｍ、光吸収粒子の粒径は１〜２００ｎｍとする。 - 特許庁
  • The information limit of the TEM was found to be 0.19 nm.
    そのTEMのインフォーメーションリミットが0.19nmであることがわかった。 - 科学技術論文動詞集
  • The diameter of the electron probe was demagnified to 0.2 nm on the specimen.
    電子プローブ径は、試料上で0.2nmに縮小された。 - 科学技術論文動詞集
  • The maximum particle diameter of the fine particle is 10 nm-20 μm.
    微粒子の最大粒径が１０ｎｍ〜２０μｍである。 - 特許庁
  • The average pore diameter is preferably 2-200 nm.
    その孔の平均孔径は好ましくは２〜２００ｎｍにある。 - 特許庁
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