「processing layer」を含む例文一覧(3235)
＜前へ 1 2 .... 53 54 55 56 57 58 59 60 61 .... 64 65 次へ＞- To provide a GaN single-crystal mass and its manufacturing method regarding which crack occurrence is controlled, when making the GaN single-crystal mass grow and processing the grown GaN semiconductor device into a substrate, etc., and to provide a semiconductor device and its manufacturing method, when forming at least a single-layer semiconductor layer on the substrate-like GaN single-crystal mass and manufacturing the semiconductor device.
ＧａＮ単結晶体を成長させる際および成長させたＧａＮ単結晶体を基板状などに加工する際、ならびに基板状のＧａＮ単結晶体上に少なくとも１層の半導体層を形成して半導体デバイスを製造する際に、クラックの発生が抑制されるＧａＮ単結晶体およびその製造方法ならびに半導体デバイスおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the magnetic recording medium includes a step of forming a plurality of nanoholes in a direction substantially orthogonal to a surface of a substrate to form a nanohole structure by performing nanohole forming processing to a metal layer after the metal layer is formed on the substrate, a step of forming a carbon nanotube inside the nanohole, and a step of filling the inside of the carbon nanotube with a magnetic material.
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、基板上に金属層を形成した後、該金属層に対しナノホール形成処理を行うことにより、該基板面に対し略直交する方向にナノホールを複数形成してナノホール構造体を形成する工程、該ナノホールの内部にカーボンナノチューブを形成する工程、及び、該カーボンナノチューブの管内に磁性材料を充填する工程を含む。 - 特許庁 - In the processing method, a silver halide photographic sensitive material having at least one hydrophilic colloidal layer on a support and containing monodisperse acrylic polymer particles having carboxyl groups and ≤20% comparative standard deviation value (CV value) in the at least one hydrophilic colloidal layer is processed with 0.5-51 washing water without replenishing washing water.
支持体上に少なくとも１層の親水性コロイド層を有し、かつ該親水性コロイド層の少なくとも１層に、カルボキシル基を有し相対標準偏差値（ＣＶ値）が２０％以下である単分散アクリル系ポリマー粒子を含有するハロゲン化銀写真感光材料を、水洗水量０．５〜５リットルで、かつ水洗水無補充で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁 - To provide a production method wherein a manufacturing process is simplified more greatly compared with a conventional physical magnetic layer processing type by eliminating a magnetic layer removal step and a contamination risk is small, and a useful discrete track type magnetic recording medium having high head floating characteristics, regarding a magnetic recording medium having a magnetically separated magnetic recording pattern in at least one surface of a nonmagnetic substrate.
非磁性基板の少なくとも一方の表面に、磁気的に分離した磁気記録パターンを有する磁気記録媒体において、従来の物理的な磁気層加工型と比較しその磁性層除去工程を排除することにより格段に製造工程を簡略化し、かつ汚染リスクがすくない製造方法と、ヘッド浮上特性に優れた有用なディスクリートトラック型磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁 - The polishing method efficiently provides a surface of high quality with no deteriorated layer by processing that occurs after diamond mechanical polishing, by oxidizing the surface of silicon carbide single crystal wafer that has been rough-lapped in diamond mechanical polishing, and then removing an oxide film on the surface by finish polishing.
ダイヤモンド機械研磨で荒研磨(ラップ)した炭化珪素単結晶ウェハ表面を、酸化した後に仕上げ研磨(ポリッシュ)で表面の酸化膜を除去することで、ダイヤモンド機械研磨で発生した加工変質層を除去して高品質な表面を効率的に創成する研磨方法である。 - 特許庁 - By using the first management processing section 165, the additional monitor signal transmission line 167 and the monitor signal transmission line 162, a part of the management signal, set to an OAM layer, in a signal to be transmitted between an OLT 11 and the ONU 100 is outputted to an external node 70.
第１マネージメント処理部１６５と追加監視信号伝送路１６７と監視信号伝送路１６２とを用いることにより、ＯＬＴ１１とＯＮＵ１００との間で伝送される信号のＯＡＭレイヤに設定されている管理信号の一部を外部ノード７０に出力することができる。 - 特許庁 - To realize excellent magnetic signal read out characteristics by preventing to sustain an injury in processing of facing surface of a medium by making resistance of a conductive layer of a magnetroresistive (MR) effect element small enough to pass a current for detection of a magnetic signal.
磁気抵抗効果素子に対して磁気的信号検出用の電流を流すための導電層の抵抗を十分小さくしながら、媒体対向面の加工の際に導電層が損傷を受けることを防止して、良好な磁気的信号読み出し特性を実現する。 - 特許庁 - To provide a method of surface treatment by which an antiglare layer is formed with a short processing time without necessitating a complicated process, an apparatus for plasma discharge treatment, an antiglare film and an antiglare low reflection film formed by the method of surface treatment and the apparatus for plasma discharge treatment.
処理時間が短い煩雑な工程を必要としない防眩性を有する層を生成する表面処理方法、及びプラズマ放電処理装置、また、これら表面処理方法及びプラズマ放電処理装置により形成された防眩性フィルム及び防眩性低反射フィルムの提供。 - 特許庁 - The bio-implant manufacturing method includes: a process 1 for manufacturing the base material having the porous layer on the front surface; and a process 2 for hydrothermally processing the base material obtained in the process 1 in a water solution containing at least calcium ion of 3.75 mM and at least phosphoric acid ion of 1.5 mM.
表面に多孔質層を有する基材を製造する工程１と、工程１で得られた基材を、少なくとも３．７５ｍＭのカルシウムイオン及び少なくとも１．５ｍＭのリン酸イオンを含む水溶液中にて水熱処理する工程２と、を含む生体インプラントの製造方法。 - 特許庁 - A paste-form band electrode 1 for winding is structured so that an active material mix layer 2 is formed on at least one of the main surfaces of a current collector, and grooves 3 orthogonal in the longitudinal direction are provided by laser processing at least at the start side end about the longitudinal direction.
集電体の少なくとも一主面に活物質合剤層２が形成されて成る捲回型ペースト式帯状電極１であって、長手方向の少なくとも巻き始め側端縁部に、レーザー加工により長手方向に直交する溝３が設けられていることを特徴とする。 - 特許庁 - When the printer 20 receives the image data subjected to CMY conversion transmitted from the PC 10 and the Anoto pattern data, a printing processing part 203 synthesizes the data in accordance with control information of toner amounts of color input from a layer thickness control part 202 and forms a color image.
プリンタ２０がＰＣ１０から送信されてきたＣＭＹ変換された画像データと、アノトパターンデータとを受信すると、印刷処理部２０３は、層厚制御部２０２から入力される色のトナー量の制御情報に従い、それぞれのデータを合成してカラー画像を形成する。 - 特許庁 - To provide an organic electroluminescence element allowing fine processing easily and certainly in the element manufacturing process by accurately forming film formation preventive layers in the desired shape and having a very small light emission probability of an organic light emission layer in the non-selected portion.
所望の形状の成膜防止層を精度良く形成することにより、有機電界発光素子の製造工程における微細加工を容易かつ確実に行って、非選択部分の有機発光層の発光確率が著しく小さい有機電界発光素子を製造する。 - 特許庁 - To provide an adhesive tape for processing wafer which is laminated on the wafer surface in order to protect the luminous layer or the circuit surface and to allow for grinding the backside of the wafer to a predetermined finish thickness with no problem, in a process of grinding the backside of a brittle wafer, especially a sapphire wafer.
本発明は、脆性ウェハ、特にサファイアウェハの裏面を研削する工程において、該ウェハ表面に貼合することにより発光層や回路面を保護するとともに、該ウェハの裏面を所定の仕上げ厚さまで問題なく研削することを可能とする、ウェハ加工用粘着テープを提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacture which is capable of achieving mass production of information recording media small in shadowing and extremely low in noise at a low cost and high efficiency by eliminating the low adhesion property of a substrate and an information layer and low processing efficiency which are the problems with irradiation of the substrate with UV rays.
基板への紫外線照射で問題となる、基板と情報層との低密着性及び低処理効率を解消し、シャドウイングが小さくノイズが著しく低い情報記録媒体の大量生産が低コスト、高効率で達成できる製造方法を提供する。 - 特許庁 - The protecting layer 21 blocks the surface processing agent from contacting with moisture in the air, maintains the coating effect thereof (effect for bonding the metal material 11 and the resin 14), and can maintain the firm waterproofness for a long time in the bonding face 26 of the metal material 11 and the resin 14.
保護層２１が、表面処理剤の、大気中の水分との接触を遮断し、その塗布効果（金属材１１と樹脂１４とを固着させる効果）を保持させ、金属材１１と樹脂１４との接合面２６において強固な防水性を長期間保持可能とした。 - 特許庁 - For example, if the chemical substance layer forming processing is performed after the press molding, the crevice 30 produced in the interface of the mother material 10 and the conductive intervening thing 20 is filled by volume expansion of the mother material 10, and the fault, which is produced when the crevice 30 existed, can be canceled.
例えば、プレス成形後に化学物層形成処理を行うと、プレス成形によって母材１０と導電性介在物２０との界面に生じていた隙間３０が母材１０の体積膨張により埋められ、隙間３０が存在することによって生じていた不具合が解消される。 - 特許庁 - To provide a development processing solution for a lithographic printing plate and a method for manufacturing a lithographic printing plate which achieve development in an acidic to neutral region and overcome the problem of developability in the development and the problem of dispersion stability of photosensitive layer components (development scum) removed by the development.
酸性から中性域で現像可能であり、そして、その際に問題となる現像性、更に現像によって除去した感光層成分（現像カス）の分散安定性の問題を克服した平版印刷版用現像処理液及び平版印刷版の製版方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a developing unit capable of preventing hysteresis phenomenon, and attaining high-speed image forming processing, by quickly and surely collecting residual toner on a developing roller and also quickly and surely forming a thin toner layer on a developing roller, and to provide an image forming apparatus equipped with the developing unit.
現像ローラ上の残存トナーの回収及び現像ローラ上へのトナー薄層の形成を迅速且つ確実に行うことにより、履歴現象を防止するとともに画像形成処理の高速化も実現可能な現像ユニット及びそれを備えた画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a development processing solution for a lithographic printing plate which allows development in an acidic to neutral region and overcomes the problems of developability and dispersion stability of photosensitive layer components removed by development (development scum), and a plate-making method of a lithographic printing plate.
酸性から中性領域で現像可能であり、そして、その際に問題となる現像性、更に現像によって除去した感光層成分（現像カス）の分散安定性の問題を克服した平版印刷版用現像処理液及び平版印刷版の製版方法を提供する - 特許庁 - To provide an antibacterial laminate which has cushioning properties, soft touch, or non-slip effects while keeping necessary rigidity by a hard plastic layer, is suitable for the production of a processed molding excellent in hygienic properties, and can obtain a product stably even in deep drawing processing.
硬質プラスチック層によって必要な剛性を保持しながら、クッション性、柔らかな触感あるいは滑り止め効果を有し、しかも衛生性に優れた加工成形品を製造するのに好適で、深絞り加工を行っても、安定して製品が得られる抗菌積層体を提供することにある。 - 特許庁 - To provide an ultrasonic vibrator whose process of separately providing a metal electrode on the substrate side is eliminated, which selects ceramics for which processing at high temperature is required as a material of a vibrating membrane or a sacrifice layer in manufacture, and whose flexibility is raised in a manufacturing process.
製造において、基板側に金属性の電極を別度設ける工程を省くことが可能である上に、高温での処理が必要であるセラミックスを振動膜又は犠牲層の材料として選択でき、製造工程において自由度が高まる超音波振動子を提供する。 - 特許庁 - The ultraviolet ray can also irradiate to the part of the thin film after the orientation processing is applied to the thin layer formed on the substrates 15, 16, on which electrodes are formed beforehand, and after the liquid crystal panel 5 is completed by enclosing liquid crystal between the substrate members 11, 12.
また前記紫外線は、前記電極形成後の基板１５，１６上に形成された薄膜に前記配向処理が施された後、前記基板部材１１，１２間の液晶が封入されて液晶パネル５が完成した後に、前記薄膜内の前記部分に照射されてもよい。 - 特許庁 - To provide a permanent protection hard mask for protecting the dielectric characteristics of a main dielectric layer that has undesired low permittivity of a semiconductor device due to undesired increase in permittivity, undesired increase in current leakage, and a low device yield caused by surface scratch, when a continuous treatment processing is conducted.
誘電率の不所望な増大による半導体デバイスの不所望な低誘電率，不所望な電流漏洩の増大，および連続処理工程の際の表面スクラッチによる低いデバイス歩留まりを有する主誘電体層の誘電体特性を保護する永久的保護ハードマスクを提供する。 - 特許庁 - By repeating processing in steps S2 to S5, the existence of even a communication device which the communication device cannot directly communicate with can be recognized on the basis of communication information from a communication device which the communication device can directly communicate with, and it can be recorded in the second layer of the communication table.
このステップＳ２乃至Ｓ５の処理が繰り返しされることにより、直接的に通信可能である通信装置からの通信情報に基づき、直接的に通信不可能であった通信装置についてもその存在を把握することができ、通信テーブルの第２層に記録することができる。 - 特許庁 - To provide an acrylic resin film excellent in discoloration resistance at the time of heat processing, whethering discoloration resistance, chemical resistance, anti-staining properties and emboss followability, and having good deodorizing function, and a laminate having a layer comprising the acrylic resin film having a good deodorizing function, excellent matting properties or the like.
優れた熱加工時耐変色性、耐候変色性、耐薬品性、耐汚染性およびエンボス追従性と良好な消臭機能を有するアクリル樹脂フィルムおよび消臭機能と、優れた艶消し性等を有する上記アクリル樹脂フィルムからなる層を有する積層体を提供する。 - 特許庁 - Since an insulation film containing hydrogenation polysiloxane is employed as the interlayer insulation film 103 and etching is carried out using etching gas containing at least fluorocarbon gas and oxidation based gas, such a structure as the deterioration layer 105 of hydrogenation polysiloxane on the processing surface is thick at the upper part and thin at the lower part is obtained.
水素化ポリシロキサンを含む絶縁膜を層間絶縁膜１０３として用い、エッチングガスとしてフロロカーボンガスと酸化系ガスを少なくとも含むエッチングにより加工するため、水素化ポリシロキサンの加工面での変質層１０５が上部で厚く、下部で薄い構造が得られる。 - 特許庁 - In the optical converter bridge 40 of a provider side, a photophysical layer terminating part 402 receives an Ethernet (registered trademark) frame from the optical fiber transmission line 20 according to its transmission speed, applies waveform processing such as photoelectric conversion to the Ethernet frame and supplies the Ethernet frame to a medium access control part 404.
事業者側の光変換ブリッジ４０において、光物理層終端部４０２は、光ファイバ伝送路２０からのイーサネット（登録商標）フレームをその伝送速度により受けて、光−電気変換などの波形処理をして媒体アクセス制御部４０４に供給する。 - 特許庁 - To provide a continuous web processing device capable of suppressing impairment of quality of a product caused by the instability of layer of a front girth part and a rear girth part in double-folding a continuous web having a crotch part with intermittently formed leg openings while conveying the continuous web.
脚回り開口部が間欠的に形成された股下部とを有する連続ウエブを搬送しながら２つに折り畳む場合において、前胴回り部と後胴回り部との重ね合わせが不安定になることに起因する製品の品質低下を抑制し得る連続ウエブの処理装置を提供する。 - 特許庁 - A first electrode of the plasma processing apparatus fits a dielectric 205 having the same material as a base material into an upper base material 105a formed from a desired dielectric, and adheres and fixes the upper base material 105a and the dielectric 205 by a conductive adhesion layer 210a.
プラズマ処理装置の第１の電極は、所望の誘電体から形成された上部基材１０５ａに、該基材と同じ材質の誘電体２０５を嵌め込み、上部基材１０５ａと誘電体２０５との間を導電性接着層２１０ａにより接着固定させる。 - 特許庁 - To readily and quickly monitor moisture the variations in an unsaturated layer, by extracting actual minute variations in he specific resistance by an original technique that uses apparent specific resistance data itself obtained by an electric exploration technique, and by allowing high-speed data processing without having to perform inverse analysis.
電気探査の手法により得られた見掛比抵抗データそのものを使用し、逆解析は行わずに高速のデータ処理を可能とする独自の手法により、微細な実際の比抵抗変化を抽出して、不飽和層内の水分変化を簡便に且つ迅速にモニタリングできるようにする。 - 特許庁 - This adhesive film includes a base material film, and a pressure sensitive adhesive layer formed on the base material film, and is used for processing a semiconductor wafer, wherein weight reduction in the pressure sensitive adhesive at a reflow temperature measured by differential thermal analysis is ≤1.5%.
本発明の粘着フィルムは、基材フィルムと該基材フィルム上に設けられた粘着剤層とからなり、半導体ウエハを加工するために用いる粘着フィルムであって、示差熱分析により測定した、リフロー温度における前記粘着剤層の重量減少が１．５％以下である。 - 特許庁 - The composite semipermeable membrane is manufactured by forming a polyamide separation-functional layer formed by polycondensing a multiple functional amine with a polyfunctional oxyhalide on a microporous supporting film, and thereafter carrying out processing for allowing the composite semipermeable membrane to contact a cyclic sulfuric ester.
微多孔性支持膜上に、多官能アミンと多官能酸ハロゲン化物とを重縮合させてなるポリアミド分離機能層を形成させることにより複合半透膜を製造した後、複合半透膜を環状硫酸エステルに接触させる処理を行うことによって得られる複合半透膜。 - 特許庁 - The base-reactive, surface-modifying agent is reactive to hydroxide and increases the surface hydrophobicity of a pattern formed in a layer of the radiation-sensitive composition upon treatment with a basic developing solution during lithographic processing of a substrate.
塩基に反応性の表面を改質する薬剤は、水酸化物に対して反応性のものであると共に基体のリソグラフィーの加工をする間に塩基性の現像する溶液での処理の際に放射に敏感な組成物の層に形成されたパターンの表面の疎水性を増加させる。 - 特許庁 - The Fe-based electrode layer takes in the carbon as a by-product of a sinter processing process for the ohmic electrode to suppress an increase in contact resistance between the SiC semiconductor substrate and ohmic electrode, caused by accumulation of carbon on a junction interface between the SiC semiconductor substrate and ohmic electrode.
Ｆｅ系電極層が、オーミック電極のシンター処理工程における副生成物であるカーボンを取り込むことによって、カーボンがＳｉＣ半導体基板とオーミック電極との接合界面に堆積してＳｉＣ半導体基板とオーミック電極とのコンタクト抵抗が高くなることを抑制できる。 - 特許庁 - To provide a flexible multi-layer circuit substrate that is prepared by using a polyimide film remarkably improving adhesion reliability after an environment test such as PCT and a cold shock test, and can be used for the interposer of a semiconductor package dealing with minute processing for high density.
ＰＣＴや冷熱衝撃試験などの環境試験後における接着信頼性が著しく改善されたポリイミドフィルムを用いて作成され、高密度化のための微細加工に対応可能な半導体パッケージのインターポーザーにも用いることができるフレキシブルな多層回路基板を提供する。 - 特許庁 - To provide an olefinic thermoplastic elastomer sheet which has rubber elasticity, flexibility, and molding and processing characteristics comparable to those of previous olefinic thermoplastic elastomers, has good mechanical characteristics and is excellent particularly in marring resistance, its manufacturing method, and a laminate having a surface layer comprising the sheet.
従来のオレフィン系熱可塑性エラストマーと同様のゴム弾性、柔軟性および成形加工性を有し、しかも、機械的特性が良好で、特に耐傷付性に優れたオレフィン系熱可塑性エラストマーシートおよびその製造方法並びにこのシートよりなる表層を有する積層体を提供する。 - 特許庁 - The present invention is basically based on knowledge that a system is adjusted to the optimal state for processing the next frame by including information on the next frame in a physical layer header (PHY header) of a certain frame, and thus, radio communication with high throughput is achieved.
本発明は、基本的には、あるフレームの物理層ヘッダ（ＰＨＹヘッダ）に次のフレームの情報を含めることで、次のフレームを処理するために最適な状態にシステムを調整することができ、これによりハイスループットな無線通信を達成できるという知見に基づく。 - 特許庁 - When it is decided that the communication controller is mounted on the music device having the different signal processing form, data transmission to and reception from the communication controller and data transmission to and reception from a music system network are temporarily stopped according to its lower layer.
異なる信号処理形式の音楽装置に差し換えられて装着されたと判定した場合には、その有する下位層に従っての音楽装置と前記通信用制御装置との間におけるデータ送受信及び音楽システムネットワークへのデータ送受信を一時的に停止する。 - 特許庁 - Correction processing with a predetermined content to at least any of thicknesses of the element figures, plane figures and arrangement positions on a conductor layer which are reflected to input data through a conductor figure input means is conducted to at least the conductor figures of the element figures.
また、エレメント図形の少なくとも導体図形に対し、導体図形入力手段による入力データに反映された、該エレメント図形の厚さ、平面形状及び導体レイヤ上の配置位置の少なくともいずれかに、予め定められた内容の補正処理を行なう。 - 特許庁 - To manufacture a wiring structure that uses an interlayer film of an insulating organic material with less processes, without using an etching mask or etching stopper layer in an interlayer film work, nor affected by a reactive product generated through plasma processing.
層間膜加工におけるエッチングマスクやエッチングストッパ層を用いることなく、また、プラズマ処理により生成する反応生成物の悪影響を受けることなく、絶縁性を有する有機材料による層間膜を用いた配線構造をより少ない工程で製造できるようにする。 - 特許庁 - The heater plate is formed by ceramics, and the baking system is constituted including a base plate on which the wafer for baking processing is placed, and a heater formed by a metal plated layer on a bottom face of the base plate.
密閉空間を形成するチャンバーと、前記チャンバー内に設置されるヒータープレートと、を含み、前記ヒータープレートは、セラミックで形成され、ベーク加工のためのウェハーが載置されるベースプレートと、前記ベースプレートの底面に金属メッキ層で形成されたヒーターと、を含んでベーク装置を構成する。 - 特許庁 - To provide a metallic tone decorated sheet excellent in transparency and made by laminating and unifying a metal deposited film and a thermoplastic resin film in which a processing step for providing an adhesive layer is saved and its productivity is good and its manufacturing can be run more easily.
金属蒸着フィルムと熱可塑性樹脂シートとが積層一体化された金属調加飾シートにおいて、接着層を設ける工程を省略し、生産効率がよく、より簡易に製造することができ、透明性にも優れた金属調加飾シートを提供する。 - 特許庁 - In the carrier, the two-component developer, the processing cartridge and the image forming apparatus 100, the coat layer is provided on the surface of a core material comprising a magnetic body.
磁性体よりなるコア材表面にコート層を設け、前記コート層は、少なくとも、一般式（Ａ）の水ガラス成分、一般式（Ｂ）のポリアルキレンイミン成分および一般式（Ｃ）のリン酸二水素アルカリ金属成分の反応物を含むキャリア、これを用いた二成分現像剤、プロセスカートリッジ、および画像形成装置１００。 - 特許庁 - In the processing method for a planographic printing plate in which a planographic printing plate having an infrared sensitive layer on a support is developed with an alkali developer after imagewise exposure, the alkali developer at the start of development contains nonreducing sugar and an alkali-soluble resin.
支持体上に赤外線感光層を有する平版印刷版を画像露光後、アルカリ現像液を用いて現像処理する処理方法において、現像開始時の該アルカリ現像液が非還元糖とアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする平版印刷版の処理方法。 - 特許庁 - Also, the processing method for board has the process of machining the board 101 by a laser beam from the rear surface of one surface of the board 101 toward the one surface, and a guidance hole 109 is formed on the board 101 by making the laser beam reach the laser stopping layer 108.
また、基板の加工方法は、基板１０１の一方の面の裏面から一方の面に向い基板１０１にレーザー光により加工を行い、レーザー光をレーザーストップ層１０８に到達させることにより基板１０１に先導穴１０９を形成することを有する。 - 特許庁 - To provide a polyester decorative panel having curved chamfered partrs susceptible of bending processing of curvature with a radius of 3-10 mm, having a polyester resin layer having a pencil hardness of 2-5H and excellent in scratch resistance and not polluting environment.
半径が３〜１０ｍｍの曲率の曲げ加工を行なうことができると共にポリエステル樹脂層の鉛筆硬度が２〜５Ｈと耐擦傷性に優れ、かつ、環境を汚染することがない曲面状面取り部を有するポリエステル化粧板およびその製造方法を提供することである。 - 特許庁 - To provide various mold releasing polyester films suitable for a green sheet for ceramic capacitor with thermal wrinkles reduced during processing, the protection of a liquid crystal polarizing plate, a photoresist, a multi-layer substrate produced by being coated with an epoxy resin, etc.
環境負荷を低減するために従来品より厚みが薄いフィルムであっても、加工時の熱しわが少ないセラミックコンデンサ用グリ−ンシ−ト、液晶偏光板保護、フォトレジスト、さらにはエポキシ樹脂をコ−ティングして製造される多層基板用などに好適な各種離型用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁 - Gate electrodes 22 are formed on an upper surface, both right and left side surfaces and bottom surface of a semiconductor layer 11a for channel formation formed by processing a semiconductor substrate 11 into a Fin shape and a channel region is included which is surrounded on four sides by the gate electrodes 22.
半導体基板１１をＦｉｎ状に加工して形成されたチャネル形成用半導体層１１ａの上面、左右両側面及び底面にゲート電極２２が形成され、ゲート電極２２により４面を囲まれるチャネル領域を有することを特徴とする。 - 特許庁 - The fixing agent for processing a silver halide photographic dry plate having at least one silver halide emulsion layer on a glass supporting body is characterized by containing an oxidizer which is capable of dissolving metallic silver or a chelate metal salt respectively.
ガラス支持体上に少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真乾板を処理するための定着剤が、各々、金属銀を溶解可能な酸化剤またはキレート金属塩を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真乾板用定着剤。 - 特許庁 - The member for the semiconductor manufacturing apparatus incorporated in the semiconductor manufacturing apparatus for processing a semiconductor wafer is made of a porous alumina substrate with a surface layer having a porosity of 20-60% and the depth of a pore of 10-100 μm.
半導体ウエハを処理する半導体製造装置に配置される半導体製造装置用部材において、表層が２０％〜６０％の気孔率を持ち、気孔の深さが１０μｍ〜１００μｍの多孔質のアルミナ基材であることを特徴とする半導体製造装置用部材。 - 特許庁
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