「processing layer」を含む例文一覧(3235)
＜前へ 1 2 .... 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 次へ＞- To provide a control device, a control method and a computer program, by which, in an intermediate layer between an application program and a platform program, an intermediate processing unit is made into two layers, located respectively at an interface side of the application program and an interface side of the platform program, and the processes at the two respective layers are generalized for effective development.
アプリケーションプログラムとプラットフォームプログラムとの間の中間層にて、アプリケーションプログラムのインタフェース側、及びプラットフォームプログラムのインタフェース側に中間処理部を２層化し、且つ２層夫々における処理を汎用化することで開発を効率化することができる制御装置、制御方法及びコンピュータプログラムを提供する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the build-up substrate includes: a surface processing process S1 as a process of forming a wiring pattern of a first layer; a catalyst pattern forming process S2 of forming a catalyst pattern with an ink jet; a baking process S3 for the catalyst pattern; and an electroless copper plating process S4 of forming the wiring pattern.
ビルドアップ基板の製造工程は、１層目の配線パターンを形成する工程として、表面処理工程Ｓ１と、インクジェットで触媒パターンを形成する触媒パターン形成工程Ｓ２と、触媒パターンの焼成工程Ｓ３と、配線パターンを形成する無電解銅めっき工程Ｓ４とを備えている。 - 特許庁 - The adhesive tape for semiconductor wafer processing includes at least an adhesive layer for circuit member connection laminated on a base film, and has a width which is ≥3 mm larger, per one side, than the width of the semiconductor wafer on which the adhesive tape is stuck on each side, and is wound in a roll shape to the width.
基材フィルム上に少なくとも回路部材接続用接着剤層が積層された半導体ウエハ加工用接着テープであって、該接着テープの幅が、該接着テープを貼り付ける半導体ウエハの幅に対して片側あたり３ｍｍ以上大きく、このテープ幅でロール状に巻かれた半導体ウエハ加工用接着テープ。 - 特許庁 - The discharging method enables to processes rapidly the nonconductive work piece through discharge operations triggered under a strong voltage at gaseous insulating layer which is provided jointly by a mainly activated added gas and a chemical reaction generated between the positive electrode and the negative electrode, particularly to perform precise processing operation.
その加工法は、主動加入した気体と陽極と陰極の発生する化学反応が共同で提供する気体絶縁層により、強大な電圧下でトリガする放電作用により、不良導電性工作物に対して速やかな加工を行い、特に精密な加工作業を行えるようにする。 - 特許庁 - When CQI switch control information, notified from a high-order layer, is information showing a multiband CQI, a multiband receiving state generating part performs DCT processing of the receiving-state measurement result of each subband outputted from the receiving state measuring part, extracts a sample value of a prescribed sample point and quantizes the sample value.
上位レイヤから通知されたＣＱＩ切替制御情報がマルチバンドＣＱＩを示す情報である場合、マルチバンド受信状態生成部は、受信状態測定部から出力されたサブバンド毎の受信状態測定結果をＤＣＴ処理し、所定のサンプルポイントのサンプル値を抽出し、量子化する。 - 特許庁 - To provide an image processing apparatus or the like capable of controlling display/non-display of a function button in accordance with settings by a user before updating even when firmware (FW) is updated and updating or the like of an additional function is performed to add a new function to a lower layer of a screen or function set to non-display before updating.
ファームウェア（ＦＷ）が更新され、追加機能の更新等が行われて、更新前に非表示に設定してあった画面や機能の下位の階層に、新機能が追加されても、更新前のユーザの設定に従って機能ボタンの表示／非表示を制御できる画像処理装置等を提供する。 - 特許庁 - The cleaning and processing cloth is configured such that a number average diameter of monofilament is 1-1,000 nm; a cleaning layer 1 composed of fabrics or knitted fabrics of multifilament that is twisted with a twisted number of ≥1,000 T/M is a laminate integrated with a cushion material 3, and an Asker C hardness of the laminate is ≤70.
洗浄加工布は、単繊維の数平均直径が１〜１０００ｎｍであり、撚数が１０００Ｔ／Ｍ以上で撚糸されたマルチフィラメントの織物または編物からなる洗浄層１がクッション材３と積層一体化されなる積層体であり、その積層体のアスカーＣ硬度が７０以下の洗浄加工布である。 - 特許庁 - After a resist mask for the injection of impurities into the lower electrode 38 is peeled by plasma ashing, dilute hydrofluoric acid processing for removing a damage layer formed in the surface of a 1st insulating film 41 is carried out and then a gate insulating film part 43 in the 1st insulating film 41 has no damage, so the thin film transistor 23 has no characteristic deterioration.
下部電極38への不純物の注入の際のレジストマスクをプラズマアッシングして剥離した後に、第１の絶縁膜41の表面に入ったダメージ層を除去する希フッ酸処理をすることにより、第１の絶縁膜41中のゲート絶縁膜部43にダメージがないため薄膜トランジスタ23の特性劣化は発生しない。 - 特許庁 - To provide an original sheet for a heat-sensitive lithographic printing plate which can be directly mounted on a printing machine to perform printing without performing development processing after exposure and is hardly stained and exhibits excellent wear resistance and in which abrasion ( scattering) of the hydrophilic layer is suppressed and a device for exposure to light and a light source are less stained.
露光後、現像処理を行うことなく直接印刷機に装着して印刷することが可能であり、印刷での汚れ難さ及び耐刷性に優れ、しかもレーザー露光時、親水層のアブレーション（飛散）が抑えられ、露光装置や光源の汚染が少ない感熱性平版印刷版用原板を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a head substrate, in which the surface layer of an orifice plate is subjected to water repellent processing in order to eliminate or significantly reduce head cleaning and nozzle arrays being formed on the orifice plate are arranged two-dimensionally with high density, effectively using a thin film process while decreasing the number of process steps.
ヘッドクリーニングの削除又は大巾な削減を可能とするために、オリフィスプレートの表面層を撥水処理するとともに、オリフィスプレートに形成されるノズル列を高密度に２次元的に配列したヘッド基板を薄膜プロセスを用いて効果的に、すなわち工程数を削減して製造できる方法を提供する。 - 特許庁 - An image processing apparatus includes: an analysis part (130) for obtaining information on a display order of a plurality of layers from the cross-sectional image; and a display control part (140) for controlling to sequentially change display forms of each layer based on the information on the display order and to display on a display device (30).
断層像から複数の層の表示順に関する情報を得る解析部（１３０）と、 前記表示順に関する情報に基づき各層の表示形態を順次に変更して表示装置（３０）に表示させる制御をする表示制御部（１４０）と、を有することを特徴とする画像処理装置。 - 特許庁 - The lithographic printing plate precursor is dipped in the liquid developer, an image recording layer of the lithographic printing plate precursor is developed, and simultaneously protection processing for forming a surface protective film is performed, and a polarizing rubber roller is used as a development squeeze roller for squeezing the liquid developer adhering to the developed lithographic printing plate precursor.
平版印刷版原版を現像液に浸漬させ、平版印刷版原版の画像記録層を現像処理するとともに表面保護膜を形成する保護処理を同時に行い、現像処理された平版印刷版原版に付着した現像液を絞る現像絞りローラとして極性ゴムローラを用いる。 - 特許庁 - The method of manufacturing the solar cell module 100 includes the processes of: forming a pair of a first notch 21 and a second notch 22 in the rear-side protective material 14; respectively opening a pair of movable parts 14P; and performing insulation processing for a metal layer 14b exposed on the respective surfaces of the pair of movable parts 14P.
太陽電池モジュール１００の製造方法は、裏面側保護材１４に一対の第１切り込み２１と第２切り込み２２とを形成する工程と、一対の可動部１４Ｐそれぞれを開く工程と、一対の可動部１４Ｐそれぞれの表面に露出する金属層１４ｂに絶縁加工を施す工程とを備える。 - 特許庁 - A controller chip 12 for receiving a command from the outside and performing processing corresponding to the command, a memory chip connected to the controller chip 12 to store data and an IC card function chip connected to the controller chip 12 to process security data are layered on a substrate, and the IC card function chip is arranged at a position other than the lowest layer.
外部からコマンドを受け、このコマンドに応じた処理を行うコントローラチップ１２と、コントローラチップ１２に接続され、データを記憶するメモリチップと、コントローラチップ１２に接続され、セキュリティデータを処理するＩＣカード機能チップとが基板上に積層され、ＩＣカード機能チップは最下層以外の位置に配置されている。 - 特許庁 - A nucleation layer is then deposited on the substrate surface in the same processing chamber by alternately pulsing a tungsten-containing compound (130) and a reducing gas (150) selected from the group consisting of silane (SiH_4), disilane (Si_2H_6), dichlorosilane (SiCl_2H_2), derivatives thereof and combinations thereof.
交互にタングステン含有化合物（１３０）と、シラン（ＳｉＨ_４）、ジシラン（Ｓｉ_２Ｈ_６）、ジクロルシラン（ＳｉＣｌ_２Ｈ_２）、その誘導体、更に、これらの組合せから成る群から選択された還元性ガス（１５０）を律動的に送ることにより、その後、核形成層が同一の処理チャンバ内の基板表面上に堆積される。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a semiconductor package which can reduce difference in thermal contraction of photosensitive insulation resin on both sides of a metallization layer, significantly reduce warpage on a semiconductor package substrate, and lead to substantial cost reduction by the benefit of bulk processing of both sides, and to provide a substrate for a semiconductor package, a semiconductor package, and an electronic apparatus.
金属層両面の感光性絶縁樹脂の熱収縮差を軽減し、半導体パッケージ基板の反りを大幅に軽減することを可能とし、両面一括加工のために大幅なコスト削減にも繋がる半導体パッケージの製造方法、半導体パッケージ用基板、半導体パッケージ及び電子機器を提供する。 - 特許庁 - In the image display medium wherein display particles having at least two colors are interposed between at least a display substrate and a rear substrate and an electric field is applied between electrodes to perform display, an insulating layer with which the display particles come in contact is formed by atmospheric plasma discharge processing method.
少なくとも表示基板と背面基板の間に少なくとも２色の表示用粒子を挟み込み電極間に電界を印加することで表示を行う画像表示媒体において、表示用粒子が接する絶縁層が大気圧プラズマ放電処理方法にて形成されることを特徴とする画像表示媒体。 - 特許庁 - The electrode contact member of the vacuum circuit breaker comprises the Cu-Cr alloy base metal 1 containing 40-80 wt.% of Cu and 20-60 wt.% of Cr, and the Cr fine dispersion layer 2 of 500 μm to 3 mm in thickness formed on the surface of the base metal 1 through surface treatment by friction stir processing.
真空遮断器の電極接点部材は、Ｃｕの含有量が４０〜８０重量％とＣｒの含有量が２０から６０重量％とを含むＣｕ−Ｃｒ合金母材１の表面に、摩擦攪拌による表面処理で形成した厚さ５００μｍ〜３ｍｍのＣｒ微細分散層２を形成する。 - 特許庁 - To provide a pressure-sensitive adhesive film which hardly peels when applied to a rectangular-shaped adherend with a small pasting area and also hardly causes protrusion of an adhesive at punching and waste removal in processing of a printing label while the film has a hiding property by having a laminated structure with a hiding layer.
隠蔽層を有する積層構造による隠蔽性粘着フィルムであっても、貼り付け面積が小さい直方体形状の被着体に適用した際に剥がれが発生しにくく、印刷ラベル加工時の打ち抜きや、カス上げの際に粘着剤のはみ出しが発生しにくい粘着フィルムを提供すること。 - 特許庁 - To provide a pressure-sensitive adhesive sheet which excels in the adhesion between a base material and a pressure-sensitive adhesive layer and the adhesion to an adherend, is easy in reapplying the adherend, can perform high precision processing of the adherend, and enables easy release without causing staining due to the remaining adhesive on the adherend after completion of the conversion.
基材と粘着剤層との密着性、及び被着体との密着性に優れ、被着体の貼り直しが容易であるとともに、被着体について高精度の加工を行うことができ、かつ、加工完了後は、被着体に糊残り等による汚染を生ずることなく容易に剥離可能な粘着シートを提供する。 - 特許庁 - To provide a conductive pattern manufacturing method which does not visibly recognize a conductive pattern even if a width of an insulation processing region is widened by partly insulating a transparent conductive layer when the conductive pattern is formed and which is capable of obtaining a conductive pattern having stable electric performance by surely insulating an insulating part.
透明な導電層を部分的に絶縁化して導電パターンを形成する際に絶縁化処理の領域の幅を広くしても、導電パターンが視認されず、また、絶縁部を確実に絶縁させて安定した電気的性能を有する導電パターンを得ることができる導電パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The solid processing agent is a core/shell type one consisting of a core particle and a plurality of shell layers covering the core particle, wherein at least two layers of the plurality of shell layers have the same composition and at least one layer is disposed in such a way that it comes in direct contact with the core particle.
コア粒子と該コア粒子を覆う複数のシェル層から構成されるコア／シェル型の固体処理剤であって、該複数のシェル層の少なくとも２層は同一組成を有していてかつその１層は該コア粒子と直接接するように配されていることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料用固体処理剤。 - 特許庁 - The semiconductor device is such that a bump electrode 6 is formed by plating processing on the top face of the electrode pad 4, below which a semiconductor element and an interconnection are formed, and an insulating layer 3a is formed, at a location where deposition of plating does not occur, such as a scribe line 10 and the edge of a chip for eliminating deposition of plating at these places.
この発明は、下方に半導体素子や配線が設けられた電極パッド４の上面にメッキ処理でバンプ電極６を設けた半導体装置であって、チップのエッジまたはスクライブライン１０に絶縁層３ａが設けられ、当該箇所にメッキの析出を無くしたことを特徴とする。 - 特許庁 - The processing method for a photosensitive planographic printing plate is characterized in that a photosensitive planographic printing plate material having a photosensitive layer on a support is imagewisely exposed, developed in a developing solution containing substantially no silicate, and then processed with an alkali aqueous solution containing a silicate by 0.1 to 2.0 mass%.
支持体上に感光層を有する感光性平版印刷版材料を、画像露光し、実質的に珪酸塩を含まない現像液で現像処理した後、珪酸塩を０．１〜２．０質量％含有するアルカリ水溶液で処理することを特徴とする感光性平版印刷版材料の処理方法。 - 特許庁 - To provide a polyimide metal laminate which has a polyimide resin layer excellent in modulus of elasticity at high temperatures, transparency, and dimensional stability, does not cause problems such as sinking, wiring dislocation, peeling, and plating permeation, and is used widely in a TAB tape processing line and suitable for a substrate for COF.
高温での弾性率、透明性、寸法安定性に優れたポリイミド樹脂層を持つポリイミド金属積層体を提供すること、沈み込みや、配線ずれ、剥離、メッキの染み込みなどの問題を発生しない、ＴＡＢテープ加工ラインで広く使用されている、ＣＯＦ用基材として適するポリイミド金属積層体を提供すること。 - 特許庁 - The method of manufacturing the epitaxial wafer at least comprises a heat treatment process conducting heat treatment for a silicon single crystal in ingot state, a wafer processing process wherein the heat-treated ingot is sliced into wafers with mirror surface, and an epitaxial growth process wherein an epitaxial layer is formed on the wafers.
エピタキシャルウエーハの製造方法であって、少なくとも、インゴット状態のシリコン単結晶に熱処理を行なう熱処理工程と、前記熱処理したインゴットを鏡面状のウエーハに加工するウエーハ加工工程と、前記ウエーハ上にエピタキシャル層を形成するエピタキシャル成長工程を有するエピタキシャルウエーハの製造方法。 - 特許庁 - Since the heat insulating material 13 is positioned on the back part of the surface processing layer 14, the transfer properties of the fine shape 14a are enhanced and, since the heat insulating material 15 is arranged adjacent to the fine shape 14a, the heat radiation of the resin is reduced and the transfer properties of the fine shape 14a is still more enhanced.
断熱材１３が表面加工層１４の背部に位置することで、微細形状１４ａの転写性が向上し、さらに、断熱材１５が微細形状１４ａに隣接して配置されていることで樹脂の放熱が減少し、微細形状１４ａの転写性が一層向上する。 - 特許庁 - An 'application management' object 40, a 'function management' object 50 and a 'database management' object 60 for integrally managing these objects 41 to 43, 51 to 56, 61, 62 in each layer are arranged on optional computers out of the computers 10a to 10c and various processing for the OCR is dispersely executed by mutual connection among respective management objects.
また、これらのオブジェクトを各層毎に統括的に管理する「アプリケーション管理」オブジェクト４０、「機能管理」オブジェクト５０、「データベース管理」オブジェクト６０を各計算機１０ａ〜１０ｃの任意の計算機に配置して、ＯＣＲに関する各種の処理を各管理オブジェクト間の相互連絡により分散して行う。 - 特許庁 - The substrate 10 for LED chip fixation is obtained by forming a recess 14 for storing an LED chip 20 on one surface of a metal plate 11 through sheet metal processing and then forming a high-reflection coating 12 including a metal reflecting layer on the one surface of the metal plate 11 including at least a surface of the recess.
ＬＥＤチップ固定用基板１０は、金属板１１の一方の面にＬＥＤチップ２０を収納するための凹部１４を板金加工により形成した後、少なくとも該凹部の表面を含む金属板１１の一方の面上にメタル反射層を含む高反射コーティング１２を形成して得られる。 - 特許庁 - A helical antenna 50 includes a metal plate 54 arranged at the lower end of a helical element 52, a feeding conductor which is electrically connected to a signal processing circuit inside a terminal device at least when an antenna device is inserted into a portable communication terminal device and an insulation layer 56 arranged between the metal plate and the feeding conductor.
ヘリカルアンテナ５０は、ヘリカル素子５２の下端に配置されている金属板５４と、少なくともアンテナ装置が携帯通信端末器に挿入された時に端末器の内部の信号処理回路に電気的に連結される給電導体と、金属板と給電導体との間に配置される絶縁層５６とを含む。 - 特許庁 - In the image forming method, an exposed silver halide photographic sensitive material with a silver halide emulsion layer and a processing member containing a developing agent and/or its precursor and a base and/or its precursor are overlapped, and development is carried out to form an image in the silver halide photographic sensitive material.
ハロゲン化銀乳剤層を有し露光済であるハロゲン化銀写真感光材料と、現像主薬及び／又は現像主薬プレカーサと塩基及び／又は塩基プレカーサとを含有する処理部材と、を重ね合わせて現像を行い、前記ハロゲン化銀写真感光材料に画像を形成させる画像形成方法である。 - 特許庁 - To provide a fabric for ink jet printing, which does not drop an ink-receiving layer formed on the fabric by its preliminary treatment by vibrations caused by the expansion or contraction of the fabric, the conveyance of the fabric, or the like, can give a printed fabric having an excellent quality, and is excellent in processing stability.
インクジェット捺染加工中、前処理にて布帛に形成したインク受容層が、布帛の伸び縮みや搬送などによる振動により布帛から脱落することが無いようにすることによって、優れた品質の捺染物を提供することができる加工安定性に優れたインクジェット捺染用布帛を提供する。 - 特許庁 - In the projection display apparatus by three-plate processing, ITO (indium tin oxide) having ≤2,000 cm^-1 absorbance for light at 410 nm wavelength is used for a pixel electrode 9a formed at a lower layer of an alignment film 16 of a liquid crystal apparatus 961B which modulates at least blue light.
３板方式からなる投射型表示装置にあって、少なくとも青色を光変調する液晶装置９６１Ｂの配向膜１６の下層に位置して形成される画素電極９ａに、波長４１０ｎｍの光に対する光吸収係数が２０００ｃｍ^-1以下のＩＴＯが用いられることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a high gloss decorative sheet having a high gloss feeling, excellent in mirror surface properties and marking erasing properties and having an ionizing radiation curable resin, which suppresses the slip properties of a panel at the time of processing of the decorative sheet into a decorative panel, in its surface protective layer, and a decorative panel constituted by joining the decorative sheet and a substrate.
高光沢感を有する化粧シートにおいて、表面の鏡面性およびマジック消去性に優れ、かつ化粧板に加工した際の板のすべり性をおさえた電離放射線硬化性樹脂を表面保護層に有する化粧シート及び該シートと基板とを接合した化粧板を提供すること。 - 特許庁 - In this configuration, the thickness of the resin layer is set to be ≥40 μm, When a limit peeling temperature obtained by performing a predetermined peeling test is defined as Tr(°C) and the temperature of the fixing roller when fixing processing is executed is defined as Tc (°C), Tr≥Tc+60 or Tr≥Tc+75 is satisfied.
この構成において、樹脂層の厚みを４０μｍ以上にし、所定のピーリング試験を行うことによって得られる限界剥離温度をＴｒ（℃）、定着処理が実行される時の上記定着ローラの温度をＴｃ（℃）とする場合、Ｔｒ≧Ｔｃ＋６０またはＴｒ≧Ｔｃ＋７５が満たされる。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a semiconductor device in which ARL is used for processing a silicon oxide film in the upper layer of a local interconnection tungsten film and subsequently even if passing through a high temperature film forming process, a defect due to the exfoliation of a boundary face between the local interconnection tungsten film and the silicon oxide film is prevented from occur.
ローカル配線タングステン膜の上層のシリコン酸化膜の加工にＡＲＬを使用し、その後に高温の成膜プロセスを経ても、ローカル配線タングステン膜とシリコン酸化膜界面の膜剥がれによる欠陥の発生を抑制できる半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The logical format management module 21 refers to a bit map memory 34 corresponding to a disk access request from a host, judges whether or not the entire access area is already formatted, requests disk access to the low-order layer module 22 in the case of judging that it is already formatted, and issues a logical format processing request when it is not formatted yet.
論理フォーマット管理モジュール２１は、ホストからのデイスクアクセス要求に応じて、ビットマップメモリ３４を参照し、当該アクセス領域全てが、フォーマット済かを判定し、フォーマット済と判断した場合に、下位層モジュール２２にデイスクアクセスを要求し、フォーマット済でなければ、論理フォーマット処理要求を発行する。 - 特許庁 - The copper foil for laser perforation processing is characterized in that a surface layer, which comprises a metal or alloy with an electric resistivity at a room temperature of 50n Ωm, a melting point of 2855 K or lower and a boiling point of 2855 K or higher or both of them, is formed on the surface on laser irradiation side of a copper foil.
銅箔のレーザ照射側の表面に、室温での電気抵抗率が50n Ωm 以上であって、融点が2855K 以下であり、且つ沸点が2855K 以上である金属または合金の何れか若しくは両方からなる表面層が形成されていることを特徴とするレーザ穴あけ加工用銅箔である。 - 特許庁 - This method for processing a raw meat is characterized in that a raw meat in a forming pipe 2 is preheated to a protein denaturation temperature or lower than it by Joule heating based on turning on electricity to the raw meat and the protein denaturation layer is formed at the surface of the raw meat by microwave heating to provide the raw meat with shape retention.
成形管２内の原料食肉類を該原料食肉類への通電に基づくジュール加熱によって蛋白変成温度以下の温度まで予備加熱した後、マイクロ波加熱によって原料食肉類の表面側に蛋白変成層を形成して保形性を付与することを特徴とする。 - 特許庁 - In such a state of a standby mode that a power supply is not supplied to the content processing part 600, the home server 400 authenticates the remote operation apparatus 100 and instructs power supply based on a power supply request from the authenticated remote operation apparatus 100 by using a communication protocol whose rank is higher than that of a network layer.
このホームサーバー４００は、コンテンツ処理部６００に電源が供給されていない待機モードの状態で、ネットワークアクセス層より上位の通信プロトコルを用いて、遠隔操作機器１００の認証と、認証された遠隔操作機器１００からの電源投入要求に基づいた電源投入指示とを行う。 - 特許庁 - When an image region on the fundus image Ef' displayed on a display part 240A is specified by an operational part 240B, an image processing part 230 forms a tomographic image G corresponding to the image region based on the tomographic image Gi and obtains the position of a prescribed layer of a fundus Ef in the tomographic image G.
画像処理部２３０は、表示部２４０Ａに表示された眼底画像Ｅｆ′上の画像領域が操作部２４０Ｂにて指定されたときに、断層画像Ｇｉに基づいて当該画像領域に対応する断層画像Ｇを形成し、この断層画像Ｇにおける眼底Ｅｆの所定の層の位置を求める。 - 特許庁 - Then, similarly in succeeding actual execution work, the penetration depth and a penetration speed of the ground improvement processing machine, a suspension load value and load current value or a load torque value of the electric motor are measured to respectively monitor whether or not the measured values satisfy a specific condition, and when either one condition is satisfied, it is judged as being landed on a support layer.
続く実施工でも同じく地盤改良処理機の貫入深度、貫入速度、吊り荷重値、電動機の負荷電流値又は負荷トルク値を測定し、その測定値が一定の条件を満たすか否かをそれぞれ監視し、いずれか一の条件が満たされると支持層へ着底したと判定する。 - 特許庁 - Upon the receipt of an IP address allocation request from the layer 2 processing section 45, a DHCP server function section 41 confirms a VLAN or the LAN interface sections 46-1 to 46-n, and allocates the IP address to each of the VLAN or the LAN interface sections 46-1 to 46-n according to the number of allocated addresses set to an address management database 42.
ＤＨＣＰサーバ機能部４１はレイヤ２処理部４５からＩＰアドレス割り当て要求を受信すると、ＶＬＡＮまたはＬＡＮインタフェース部４６−１〜４６−ｎを確認し、ＶＬＡＮまたはＬＡＮインタフェース部４６−１〜４６−ｎ毎にアドレス管理データベース４２に設定された割り当て個数にしたがってＩＰアドレスを割り当てる。 - 特許庁 - In one embodiment, the method for low temperature aerosol deposition includes forming an aerosol of fine particles in an aerosol generator, dispensing the aerosol from the aerosol generator into a processing chamber toward a surface of a substrate, maintaining the substrate temperature at between 0 degrees Celsius and 50 degrees Celsius, and depositing a layer from a material in the aerosol on the substrate surface.
一実施形態において、低温エアロゾル堆積方法は、エアロゾル発生器において微粒子エアロゾルを形成し、エアロゾル発生器から処理チャンバへ基板表面に向かってエアロゾルを分配し、基板温度を摂氏約０度〜摂氏５０度の間に維持し、エアロゾル中の材料から基板表面に層を堆積することを含む。 - 特許庁 - To provide an exhaust emission control device, in which a black smoke eliminating filter and a catalyst layer are arranged, in a series in a processing pack, which can suppress the pressure loss of backwash filter air and improve the backwash capability of the black smoke eliminating filter without increasing capacity of a backwash air supply equipment.
処理パック内に黒煙除去フィルタ及び触媒層を直列に配設してなる排ガス浄化装置において、逆洗空気の圧力損失を抑制して、逆洗空気供給設備の容量を増大することなく黒煙除去フィルタの逆洗能力を向上せしめ得る排ガス浄化装置を提供する。 - 特許庁 - Even in a computer different in ability (plotting processing operation speed of a screen is slow), time used for the display of a prescribed operation is previously set in a scenario for displaying a picture following the scenario in same time and a control layer 13a controls the update of the screen so that the operation is completed within setting time.
性能の異なる（画面の描画処理動作速度の遅い）計算機であっても同じ時間でシナリオに従った画像を表示させるために、シナリオにおいて予め、ある動作の表示に用いる時間を設定しておき、制御層１３ａにより、この設定時間内で動作が完了するように、画面の更新を制御する。 - 特許庁 - In a method for forming a color image, the silver halide color photographic material and the photosensitive material is subjected to high-temperature quick processing by a high-speed sheet conveyance system, an emulsion layer contains high silver chloride type silver halide particles containing silver iodide or Ir halo complex salt having a specific structure, by 0.05-1 mol % per mol of silver halide.
乳剤層がハロゲン化銀１モルあたり０．０５〜１モル％の沃化銀又は特定構造のＩｒハロ錯塩を含有する高塩化銀型ハロゲン化銀粒子を含むハロゲン化銀カラー写真感光材料、及び該感光材料を高速シート搬送方式で高温迅速処理するカラー画像形成方法。 - 特許庁 - An ultrasonic welding processing is performed by bringing a horn which transmits vibration energy in contact with an ultrasonic vibrator into intimate contact with an inorganic oxide particle layer with a mean particle diameter of not less than 5 and not more than 500 nm formed on a transparent electrode surface.
透明電極表面に製膜された平均粒子径５ｎｍ以上５００ｎｍ以下の無機酸化物粒子層に、超音波振動子に接触して振動エネルギーを伝達するホーンを密着させて超音波溶着処理を行うことを特徴とする光電変換用無機酸化物半導体電極の製造方法。 - 特許庁 - To obtain an impurity diffusion processing method in a semiconductor element manufacturing process which forms a uniform impurity diffusion layer and can carry on an impurity diffusion process high in performance and a yield, an impurity diffusing device for use in the same method, and a semiconductor element containing a solar cell, etc., high in a yield.
均一な不純物拡散層を形成し、性能や歩留まりの高い不純物拡散処理が可能な半導体素子製造工程における不純物拡散処理方法および同方法に用いる不純物拡散装置、並びに、歩留まりの高い太陽電池等を含む半導体素子を得ること。 - 特許庁 - To provide a support for an image material obtained by high speed stable production while good adhesive properties and curl properties are maintained by making a resin used in the back the coextrusion processing of high density polyethylene and low density polyethylene without thickness nonuniformity in the width direction, in particular by defining the physical properties of the resin of an adhesive layer.
裏面に用いる樹脂を幅方向の厚みムラなく高密度ポリエチレンと低密度ポリエチレンの共押し出し加工とし、特に接着層の樹脂物性を規定する事によって、良好な接着性とカール性を維持しながら高速安定生産が可能である画像材料用支持体を提供する。 - 特許庁
- 特許庁
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