「processing layer」を含む例文一覧(3235)

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  • A combiner 1 comprises a resin base material 11 and a polarizing and reflecting member 12 which is formed in a single body on the resin base material 11 by insertion processing by vapor-depositing a reflecting film 12B on a polarizing plate 12A, and a gradation print layer 13a is formed at the border between the resin base material 11 and the polarizing and reflecting member 12.
    コンバイナ1は、樹脂基材11と、樹脂基材11にインサート処理で一体形成された、偏光板12Aに反射膜12Bを蒸着して形成した偏光および反射部材12とからなり、樹脂基材11と偏光および反射部材12の境界にグラデーション印刷層13aが施されている。 - 特許庁
  • The insulating layer on the semiconductor wafer is polished in an interlevel insulating material processing by a water composite consisting of 0.001-1 wt% of quaternary ammonium compounds, 0.01-20 wt% of colloidal silica, 0-5 wt% of surfactants, 0-5 wt% of carboxylic acid polymer, and water as a residue.
    第四級アンモニウム化合物0.001〜1重量%、コロイダルシリカ0.01〜20重量%、界面活性剤0〜5重量%、カルボン酸ポリマー0〜5重量%及び残余としての水を含む水性組成物によりインターレベル絶縁材加工において半導体ウェーハ上の絶縁層を研磨する。 - 特許庁
  • In the manufacturing method of the semiconductor device 1, a first removing process is started in a gate electrode layer 4A on a semiconductor substrate 2, then, the terminal of the first removing process is detected, and the time of a second removing process of a next stage different in a processing condition from the first removing process is determined based on the terminal time.
    半導体装置1の製造方法において、半導体基板2上のゲート電極層4Aにおいて第1の除去処理を開始し、この第1の除去処理の終点を検出し、この終点時間に基づき、第1の除去処理に対して処理条件が異なる次段の第2の除去処理の時間を決定する。 - 特許庁
  • On the 1st insulating film 41, a 2nd insulating film 42 is laminated and formed and even if a pinhole is formed in the 1st insulating film 41 during dilute hydrofluoric acid processing, a short circuit can be prevented between a gate electrode 34 of the gate insulating film part 43 and a channel area 35 of a semiconductor layer 31 or in a dielectric part 45.
    第1の絶縁膜41上に、第2の絶縁膜42を積層して成膜していることにより、希フッ酸処理の際に第1の絶縁膜41にピンホールができた場合でも、ゲート絶縁膜部43のゲート電極34と半導体層31のチャネル領域35との間もしくは、誘電体部45でショートを防止できる。 - 特許庁
  • By subjecting a mother substrate 6 to a chemical strengthening treatment, a compression stress layer of 15 to 50 μm in thickness is formed on the surface; after a desired processing tretament is carried out on at least one surface of the mother substrate 6, the mther substrate 6 is cut along imaginary lines 10 into individual glass substrates 1.
    マザー基板6に化学強化処理を施すことにより、表面に15〜50μmの厚さの圧縮応力層を形成し、前記マザー基板6の少なくとも一方の面に所望の加工処理を行った後、前記マザー基板6を仮想の切断線10に沿って個片のガラス基板1に切断することを特徴とする。 - 特許庁
  • As a base film 11 of the expandable wafer processing tape 10 used when splitting the adhesive layer 13 along a chip by expansion, a thermoplastic crosslinking resin with a Vicat softening point specified by JIS K7206 being ≥50°C and <90°C and an increase in stress due to the thermal contraction being 9 MPa or higher is used.
    エキスパンドにより接着剤層13をチップに沿って分断する際に用いるエキスパンド可能なウエハ加工用テープ10の基材フィルム11として、JIS K7206で規定されるビカット軟化点が50℃以上90℃未満であり、熱収縮による応力の増大が9MPa以上である熱可塑性架橋樹脂を用いる。 - 特許庁
  • Bond optimal to the one liquid-type epoxy adhesive is obtained by performing NAT processing in which surfaces of various kinds of metals (1) have the roughness of micron orders, and (2) are covered with ultrafine unevenness of several tennanometer orders, and (3) formed of a metal oxide or a metal phosphorus oxide layer which are environmentally stable.
    各種金属合金の表面が(1)ミクロンオーダーの粗度を有し、(2)数十ナノメートルオーダーの超微細凹凸で覆うようにし、(3)環境的に安定な金属酸化物または金属リン酸化物薄層で形成されるようにしたNAT処理を行うことにより1液性エポキシ接着剤に対して最適な被着材にする。 - 特許庁
  • The nucleation layer can be deposited by using a first process gas which contains tungsten hexafluoride, silane, molecular hydrogen and argon and has a flow ratio of molecular hydrogen to argon of about 1.5:1 and also a partial pressure of tungsten hexafluoride of 0.5 Torr or below and allowing the first process gas to flow into the substrate processing chamber.
    核生成層は、六フッ化タングステン、シラン、分子水素およびアルゴンを含みアルゴンに対する分子水素の流量比が約1.5:1であり、また六フッ化タングステンの分圧が0.5トルに等しいかまったはそれ以下である第1の処理ガスを、前記基板処理チャンバ中へ流すことによって堆積される。 - 特許庁
  • A cleaning section 40 is provided in an image rewriting unit comprising an erasing section 11 or a recording section 17 where a thermal recording medium 100 having a reversible recording layer 102 varying the state reversibly is subjected to erasing or recording processing by touching a heat roller 12 or a thermal head 18 thereto.
    可逆的に状態が変化する可逆記録層102を有する感熱記録媒体100に対して、ヒートローラ12又はサーマルヘッド18を接触させて消去処理又は記録処理を行う消去部11又は記録部17を有する画像書換装置等に、クリーニング部40が設けられている。 - 特許庁
  • To provide a monomer polymer and an organic composition containing the same for forming an organic anti-reflection film which absorbs a light-exposing origin between a layer to be etched and a photoresist film in order to prevent a pattern disintegration under the influence of a standing wave generated at the lower part of a photoresist film at the time of a photolithographic processing.
    本発明は、フォトリソグラフィ工程時にフォトレジスト膜の下部で発生した定在波の影響によるパターンの崩壊を防止するために、被エッチング層とフォトレジスト膜との間で露光源を吸収する有機反射防止膜形成用単量体、重合体及びこれを含む有機組成物が開示される。 - 特許庁
  • To provide a pressure-sensitive adhesive tape for semiconductor wafer processing which does not contain a surfactant and an organic tin compound as curing accelerator in a pressure-sensitive adhesive layer, exhibits superior prevention performance concerning the surface adhesive deposit and the lateral surface adhesive deposit and further exhibits superior prevention performance concerning the LM (Laser Mark) adhesive deposit.
    本発明により、粘着剤層に、界面活性剤や、硬化促進剤としての有機スズ化合物を含まず、表面糊残り、側面糊残りにおいて優れた防止性能を発揮し、かつ、LM糊残りについても優れた防止性能を発揮する半導体ウエハ加工用粘着テープを提供する。 - 特許庁
  • The manufacturing (processing) method of the nozzle plate for an inkjet head has the process of preparing the nozzle plate which has the ink repellent layer 2 formed on a surface of the side where the ink is ejected in the nozzle plate 1 with the ink ejection ports 1a formed on a substrate, and, for example, the following processes succeeding the process.
    基板にインク吐出口1aを形成してなるノズルプレート1におけるインクが吐出する側の面に、撥インク層2が形成されたノズルプレートを準備する工程と、この工程に続けて、例えば以下の工程を有することを特徴とするインクジェットヘッド用のノズルプレートの製造(加工)方法。 - 特許庁
  • After a wiring pattern arranged on an interlayer dielectric film and the wiring layout and hole layout of a hole pattern embedded in the interlayer dielectric film are obtained, the hole pattern is extracted, which is connected with the wiring pattern from the hole layout in a pattern processing region where the wiring pattern is arranged in the same wiring layer.
    層間絶縁膜に設けられる配線パターン、及び層間絶縁膜に埋め込まれるホールパターンの配線レイアウト及びホールレイアウトを取得して、同一配線層内で配線パターンを配置するパターン処理領域においてホールレイアウトの中から配線パターンに接続されるホールパターンを抽出する。 - 特許庁
  • In the signal processing circuit suitable to be used for at least one node of plural nodes forming the communication network, when the state of the link layer of one node is changed from the active state capable of communication to the inactive state incapable of communication, one node automatically issues bus reset.
    通信ネットワークを形成する複数のノードのうちの少なくとも1のノードに使用するのに適した信号処理回路であって、1のノードのリンク層の状態が通信可能なアクティブ状態から通信ができない非アクティブ状態に変化した場合に、1のノードが自動的にバスリセットを発行する。 - 特許庁
  • The tab terminal for electrolytic capacitor is constituted by welding an aluminum core wire having a depression part to a lead wire end formed by forming a metal layer of tin on the surface of the core wire, and characterized in that whisker growth suppression processing is carried out for weld zone surfaces of the lead wire end and aluminum core wire.
    芯材表面にスズからなる金属層が形成されてなるリード線端部に、圧扁部を有するアルミ芯線が溶接されてなる電解コンデンサ用タブ端子であって、前記リード線部と前記アルミ芯線との溶接部表面に、ウィスカの成長抑制処理が施されていることを特徴とする。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing an electromagnetic wave shield film, in which a continuous metal pattern is formed on a belt-like base by using a photosensitive material having a photosensitive layer on the belt-like base, by performing exposure through a mask having a predetermined pattern while lowering power consumption, and by performing development processing; and to provide an electromagnetic wave shield film.
    帯状支持体の上に感光性層を有する感光材料を使用し、消費電力を低くし、所定のパターンを有するマスクを介して露光し、現像処理を経て、帯状支持体の上に連続した金属パターンを形成する電磁波遮蔽フィルムの製造方法及び電磁波遮蔽フィルムの提供。 - 特許庁
  • To provide a multilayer printed circuit board, capable of preventing occurrences of cracks or the like in the board or an interlayer resin insulating layer, when an optical waveguide to be incorporated in the multilayer printed circuit board, or particularly, when an optical path conversion mirror is formed by using mechanical processing or the like and having superior connection reliability of light signals.
    多層プリント配線板に内蔵される光導波路を形成する際、特に、機械加工等を用いて光路変換ミラーを形成する際に、基板や層間樹脂絶縁層にクラック等が発生することを防止することができ、また、光信号の接続信頼性に優れた多層プリント配線板を提供すること。 - 特許庁
  • There is provided a plant processing method using a UV curable gel, wherein a first gel of low viscosity is coated on the surface of a plant substrate to form a comparatively thin coated film of the first gel, irradiating UV to completely cure the coated film of the first gel to form the first coating layer of smooth surface.
    紫外線硬化型ジェルを使用する植物の加工方法であり、粘性の低い第1のジェルを植物基材の表面に塗布して、第1のジェルの比較的薄い塗膜を形成し、紫外線照射して第1のジェルの塗膜を完全に硬化させて、表面が滑らかな第1のコーティング層を形成する。 - 特許庁
  • In a liquid crystal display device of a vertical alignment mode, a liquid crystal layer 25 having negative dielectric anisotropy is held between a pair of substrates 13 and 14, vertical alignment processing is applied to the surface of each of substrates 13 and 14, and a plurality of pixel electrodes 1 are provided on the TFT array substrate 13.
    本発明の液晶装置は、一対の基板13,14間に誘電異方性が負の液晶層25が挟持されるとともに各基板13,14の表面に垂直配向処理が施され、TFTアレイ基板13上に複数の画素電極1が設けられた垂直配向モードの液晶装置である。 - 特許庁
  • To provide an excellent polyester film having satisfactory optical characteristics for use as a substrate of an antireflection film, excellent also in handleability, lubricity and windability after both side processing, and capable of preventing deterioration due to scratching and peeling of a functional layer even in the absence of a protective film or the like.
    反射防止膜の基材として使用するのに十分な光学特性を有し、かつポリエステルフィルムの両面加工後の取り扱い性、滑り性、巻き取り性にも優れ、保護フィルム等の存在がなくてもキズ、機能層の剥がれの発生等による品質低下を防止できる優れたポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁
  • To provide a heat fixing member, which can make lower the probability that toner fixation and wear due to a separation claw are induced when the member is mounted on an actual machine, and its manufacturing method by introducing a parameter for regulating the waveform shape of a roughness curve and making clear the standards of processing of a release layer surface.
    粗さ曲線の波形形状を規制するパラメータを導入して、離型層表面を加工するときの管理基準を明確にし、実機搭載時にトナー固着や分離爪による摩耗を誘発する確率を従来よりも低くし得る加熱定着部材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide an image protecting film which enables smooth performance of thermal transfer processing, which imparts good protective properties to an image surface and which eliminates the fear that inconvenience, such as set-off and blocking, may be caused by the formation of a protective layer, and an image protecting method and overcoated recorded matter, using the image protecting film.
    熱転写処理をスムーズに行うことができ、且つ画像面に対し良好な保護特性を付与すると共に、裏写りやブロッキングなどの保護層形成に起因する不都合が生じるおそれのない画像保護フィルム、並びにこれを用いた画像保護方法及びオーバーコート記録物を提供すること。 - 特許庁
  • When an opening method by a laser processing technique is used, the water-repellent layer 11 is formed by substituting the hydrogen atom on the wall face of the opening part 10 and the surface of the plastic material part for fluorine atom to realize an excellent release property for the printing materials on the side to be in direct contact with a matter to be printed.
    またレーザー加工技術による開口法を用いた場合には、プラスチック材料部の開口部10壁面及び表面の水素原子をフッ素原子に置換することにより撥水性層11を形成し、直接被印刷物に接する側での印刷材料に対する良好な抜け性を実現する。 - 特許庁
  • The adhesive sheet for processing a semiconductor substrate is obtained by applying an adhesive consisting of a base polymer, a radiation polymerizable compound and a radiation polymerization initiator on a surface of a resin film base material prepared by adding 1-80 pts.wt. of a polymer-type antistatic agent to 100 pts.wt. of polypropylene to form an adhesive layer.
    ポリプロピレン100重量部に対して、高分子型帯電防止剤を1〜80重量部添加した樹脂フィルム基材面上に、ベースポリマーと放射線重合性化合物と放射線重合性重合開始剤とからなる粘着剤を塗布し、粘着剤層を形成してなる半導体基板加工用粘着シート。 - 特許庁
  • To constitute a fluid impermeable metallic layer with such advantages that its fluid impermeability is extremely high and can be formed with an extremely small and uniform thickness without pinholes and further, the problem of a residual stress in processing, even when a bend-shaped part or a bellows- shaped part is provided in a hose, in a fluid conveyance hose.
    流体輸送ホースにおいて、流体不透過性が極めて高度であり、しかもピンホールを伴わずに極めて薄く均一な厚さに形成でき、かつホースに曲がり管形状部又は蛇腹管形状部を備える場合にも加工上の残留応力の問題を伴わない流体不透過金属層を構成すること。 - 特許庁
  • In the processing method in which a planographic printing plate having at least a silver halide emulsion layer on an anodically oxidized aluminum substrate and utilizing a silver complex salt diffusion transfer process is subjected to at least development after exposure, a developing solution used contains an alkaline earth metal and glycerol or polyglycerol.
    陽極酸化されたアルミニウム支持体に少なくともハロゲン化銀乳剤層を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版を露光後少なくとも現像処理する方法において、該現像液がアルカリ土類金属と、グリセリンまたはポリグリセロールを含有することを特徴とする平版印刷版の現像処理方法。 - 特許庁
  • The optimum distance in light measuring processing relating to a subject is obtained based on the cuticle information of a measured subject and an optimum transmit/receive distance table defining the optimum distance for measuring light whose optical path length of a corium layer and route are always constant in different wavelengths by each cuticle information.
    計測対象となる被検体の表皮情報と、異なる波長において真皮層の行路長や経路が常に一定にされた光を計測するための最適距離を表皮情報毎に定義する最適送受光距離テーブルとに基づいて、当該被検体に関する光計測処理における最適距離を取得する。 - 特許庁
  • Since the vulcanized article obtained from the fluorine rubber composition exhibits excellent effects such as heat conductivity, heat resistance, durability, mold-processing (non-adhesive) property, etc., in a good balance, the rubber layer singly can be used as the cushioning material for the press-molding effectively.
    このフッ素ゴム組成物から得られる加硫成形品は、成形プレス用クッション材に要求されるクッション性、熱伝導性、耐熱性、耐久性、成形加工(非粘着)性等をバランスよく満足させるといった優れた効果を奏するので、ゴム層単独で、成形プレス用クッション材として有効に用いることができる。 - 特許庁
  • The method for manufacturing a lithographic printing plate includes steps of: preparing a lithographic printing precursor having an image forming layer containing an IR absorbent, a polymerization initiator, an ethylenically unsaturated compound and a binder polymer on a hydrophilic support; imagewisely exposing the lithographic printing plate precursor; and processing the imagewisely exposed lithographic printing plate precursor with a processing liquid containing a carbonate ion, a hydrogen carbonate ion and a water-soluble polymer compound.
    赤外線吸収剤、重合開始剤、エチレン性不飽和化合物、及び、バインダーポリマーを含有する画像形成層を親水性支持体上に有する平版印刷版原版を準備する工程、前記平版印刷版原版を画像露光する工程、並びに、画像露光された平版印刷版原版を、炭酸イオン、炭酸水素イオン及び水溶性高分子化合物を含有する処理液で処理する処理工程、を含むことを特徴とする、平版印刷版の製造方法。 - 特許庁
  • The digital color image forming method from the color photographic sensitive materials containing a compound forming dyestuffs having the maximum absorption wavelength by development processing in a non-visible wavelength region and having silve halide emulsion layer is characterized in that the image components of the dyestuffs included in the visible color separation images are subjected to subtraction processing by using the reading images in the non-visible wavelength region of the dyestuffs.
    現像処理により最大吸収波長が非可視波長領域にある色素を形成する化合物を含有する、ハロゲン化銀乳剤層を有するカラー写真感光材料からのデジタルカラー画像形成方法において、可視色分解画像中に含まれる該色素の画像成分を、該色素の非可視波長領域における読み取り画像を用いて減算処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料のデジタルカラー画像形成方法である。 - 特許庁
  • Iron oxide flakes for the microwave absorber has a flat shape while having the ratio of a longest diameter to a maximum thickness of 5 or more and contains the total quantity of Fe of 50 mass % or more as the composition in iron oxide flakes obtained by peeling an oxide layer generated on the surface of a wire rod made of steel by hot processing.
    熱間加工により鋼製線材の表面に生成した酸化物層を剥離させて得られる酸化鉄粉であって、その形状が扁平状を有すると共にその最長径と最大厚みの比が5以上で且つその組成としてトータルFe量を50質量%以上含有することを特徴とする電磁波吸収体用扁平状酸化鉄粉。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a magnetoresistance effect element, for increasing efficiency of a hard bias by performing ion milling after lift-off after formation of a hard film in the forming process of the magnetoresistance effect element, and processing the hard film tip part near the uppermost layer of the magnetoresistance effect element.
    本発明は、磁気抵抗効果素子の製造方法に関し、より詳細には磁気抵抗効果素子の形成過程においてハード膜成膜後のリフトオフを行った後にイオンミリングを行い、磁気抵抗効果素子の最上層近辺のハード膜先端部分を加工することによりハードバイアスの効率を高めた磁気抵抗効果素子を製造する方法に関するものである。 - 特許庁
  • To provide a sheet type adhesive having excellent adhesive force between a semiconductor chip and a lead frame, a package board or the like, and capturing ionic impurities in an adhesive layer, to provide a tape for processing a wafer, the tape produced by using the sheet type adhesive, and to provide a semiconductor device manufactured by using the sheet type adhesive.
    半導体チップとリードフレームやパッケージ基板等との間の接着力に優れ、かつ、接着剤層の内部のイオン性不純物を捕集することが可能なシート状接着剤、及び、該シート状接着剤を用いて作製したウエハ加工用テープ、並びに、該シート状接着剤を用いて作製された半導体装置を提供する。 - 特許庁
  • The hologram image processing method for hologram image formation includes exposing and sensitizing a silver halide photographic sensitive material for holography having on a support at least one photosensitive silver halide emulsion layer containing a silver halide emulsion having an average grain size of 10-50 nm and a silver bromide content of ≥90 mol%.
    支持体上に少なくとも1層の、平均粒子サイズが10nm以上50nm以下で臭化銀含有率が90mol%以上のハロゲン化銀乳剤を含む感光性ハロゲン化銀乳剤層を有するホログラフィー用ハロゲン化銀写真感光材料を、露光後、増感処理するホログラム画像形成のためのホログラム画像処理方法。 - 特許庁
  • The method for fabricating a semiconductor device has processes of forming wiring 102 and 108 on the semiconductor device 100 formed a fixed circuit, forming a resin layer 112 whose surface is approximately flat, and processing the back surface of the semiconductor substrate 100.
    半導体装置の製造方法であって,所定回路が形成された半導体基板100表面上に配線102,108を形成する工程と,前記配線上に,その表面が略平坦な樹脂層112を形成する工程と,前記樹脂層112を形成した後,前記半導体基板100の裏面を加工する工程と,を有する。 - 特許庁
  • The flexible printed wiring board has a circuit formed by etching electrolytic copper film stuck on a polyimide resin film base material, also has the surface with the circuit thereon coated with a cover lay film, and has a contactness improvement processing layer on the circuit surface which comes into contact with the cover lay film.
    ポリイミド樹脂フィルム基材と張り合わせた電解銅箔をエッチングすることにより形成した回路を備え、当該回路の存在する表面をカバーレイフィルムで被覆したフレキシブルプリント配線板において、カバーレイフィルムと接触する回路表面に密着性改良処理層を備えることを特徴としたフレキシブルプリント配線板等を採用する。 - 特許庁
  • In this etching method, since fluorine-based gas plasma is generated on a processing workpiece 10 to form, in advance, a fluorine compound thin film on a copper thin film (e.g., a source electrode 21 and a drain electrode 22) exposed in an electrode groove 18, the copper thin film can be prevented from corrosion in etching a silicon layer 17 with halogen gas plasma.
    本発明では処理対象物10上でフッ素系ガスのプラズマを発生させ、電極溝18内に露出する銅薄膜(例えばソース電極21、ドレイン電極22)にフッ素化合物薄膜を予め形成しておくので、ハロゲンガスのプラズマでシリコン層17をエッチングする際に、銅薄膜がハロゲンガスのプラズマで腐食されない。 - 特許庁
  • The method further comprises: a step of forming a resist pattern in the second region by the photolithography process; and a step of processing the insulating layer and the film to be processed using the side wall film in the first region and the resist pattern in the second region as masks and then forming a wiring trench in the film to be processed.
    さらに、前記第2領域においてフォトリソグラフィ工程によりレジストパターンを形成する工程と、前記第1領域における前記側壁膜と前記第2領域における前記レジストパターンとをマスクとして前記絶縁膜および前記被加工膜を加工し、前記被加工膜に配線溝を形成する工程と、を備えている。 - 特許庁
  • The method for manufacturing a diamond electron source which includes a top end portion as a diamond electron discharging point includes a process A in which a top end shape of the sharp top portion is rectified to a spherical surface by using a focused ion beam processing unit and a process B in which a process-damaged layer formed by the process A is removed by plasma.
    本発明が提供するダイヤモンドの電子放射点として先鋭部を有するダイヤモンド電子源の製造方法は、該先鋭部の先端形状を集束イオンビーム加工装置を用いて球面形状に補正する工程Aと、該工程Aによって形成された加工変質層をプラズマによって除去する工程Bとを有することを特徴とする。 - 特許庁
  • In a coating processing step S10, the porous magnetic powder is coated with a thermosetting coating layer having flexibility of a degree traceable to the deformation of the porous magnetic powder in the pressure forming step S18 and the porous magnetic powder is thermally set in a thermal treatment step S20 to enhance the insulation and the mechanical strength.
    また、コーティング処理ステップS10において、加圧成型ステップS18における多孔質磁性体粉末の変形に追従可能な程度の可撓性を備える熱硬化性コーティング層で多孔質磁性体粉末を被覆しておき、熱処理ステップS20において熱硬化させることで、絶縁性および機械的強度の向上を図ることができる。 - 特許庁
  • The electromagnetic wave shielding material is fabricated by carrying out a development processing after exposing a photographic sensitive material having at least a layer composed of photosensitive silver halide and binder on a support, wherein the photosensitive material contains at least one kind of conductive substance of which volume resistance value is more than 1.0×10^-5 Ωcm, and less than 10.0 Ωcm.
    支持体上に少なくとも感光性ハロゲン化銀及びバインダーからなる層を有する感光材料に、露光後、現像処理を行うことにより作製され、感光材料が、体積抵抗値1.0×10^-5Ω・cm以上、10.0Ω・cm以下の導電性物質を少なくとも1種類含有する電磁波遮断材料。 - 特許庁
  • The screen has configuration such that an opening is provided nearby the focus of a lenticular lens on an image observation side surface of a first component, the opening having a light absorption layer with a finite width at a border part between the openings, antireflection processing is applied to an image observation side surface of a second component, and the first component and second component are coupled to each other.
    スクリーンとして、第1の構成要素の画像観視側面のレンチキュラーレンズの焦点近傍には開口部を設け、該開口部が相互の境界部分には有限幅の光吸層を設け、また、第2の構成要素の画像観視側面には反射防止処理を施し、前記第1の構成要素と前記第2の構成要素とを結合した構成とする。 - 特許庁
  • In a printing plate material having an image forming layer comprising at least one of a heat-fusible fine particle dispersion and a heat melting fine particle dispersion, and a photo-thermal conversing agent on an aluminum substrate, the aluminum substrate is characterized by being treated with an organic acid water solution after roughening processing and anodizing are applied.
    アルミニウム支持体上に、熱融着性微粒子分散体及び熱溶融性微粒子分散体の少なくとも一方と光熱変換剤を含有する画像形成層を有する印刷版材料において、該アルミニウム支持体が、粗面化処理、陽極酸化を施された後に有機酸水溶液で処理されることを特徴とする印刷版材料。 - 特許庁
  • To obtain a unit cell structure suited to a highly integrated device and a high speed operation in a semi-customized conductor integrated circuit device wherein the degree of freedom about the substrate design of transistors is improved and the wiring layer conversion for processing input/output signals of unit cells which would obstruct the layout of other wiring layers is possibly reduced.
    セミカスタム半導体集積回路装置において、トランジスタの下地の設計に関する自由度を向上させ、更に、他の配線層敷設の妨げとなるような、ユニットセルの入出力信号を処理するための配線層変換を極力低減した、設計自由度が高く、高集積化および高速動作に適したユニットセルの構造を実現する。 - 特許庁
  • After forming a bonding part made of metal in a contour-like shape and etching (surface activation processing) the bonding part by plasma, by bonding objects to be bonded each other by pushing and breaking a deposition layer which re-adhered to the bonding part, a space formed by being surrounded in the contour-like shape by the bonding part between bonding surfaces can be sealed into a predetermined atmosphere.
    金属からなる接合部を輪郭状に形成し、該接合部をプラズマによりエッチング(表面活性化処理)した後、接合部に再付着した付着物層を押し破って被接合物どうしを接合することで、接合面間に接合部によって輪郭状に囲まれて形成される空間を所定の雰囲気に封止することができる。 - 特許庁
  • The CME 42 makes an output operation such as ringing of a call being of the terminal with the message from the L3E 41 and gives a request message to the L3E 41 with an entry operation such as off-hook by a user to conduct a series of pseudo call processing such as setup/interruption request of a layer 1 link, incoming call notice display and call display or the like.
    CME42は、このL3E41からのメッセージにより端末の呼出用ベルを鳴らす等の出力動作を行うと共に、使用者のオフ・フック等の入力動作によりL3E41に要求メッセージを出したりすること等でレイヤ1リンクの確立・切断要求,着信通知表示、呼出表示等の擬似的な一連の呼処理を行う。 - 特許庁
  • When the surface of the negative electrode 22 (negative electrode active material layer 22B) can be observed by using a SEM and a particle area per each negative electrode active material particle can be calculated by making image-processing of a SEM image, average particle areas of the plurality of negative electrode active material particles included in a designated observation area are 1-60 μm^2.
    SEMを用いて負極22(負極活物質層22B)の表面を観察し、SEM像を画像処理して負極活物質粒子ごとに粒子面積を算出できるようにしたとき、所定の観察エリア内に含まれる複数の負極活物質粒子の平均粒子面積は、1μm^2 以上60μm^2 以下である。 - 特許庁
  • To provide a photographic recording material provided with an ink jet image receptor superior in ink jet printing aptitude on the opposite side of a photosensitive layer, and particularly, capable of ink jet letter printing high in density and free from oozing in the images of characters and the like and the ink jet after development processing and superior in dryability.
    感光層の反対の面に優れたインクジェット印字適性を有するインクジェット受像層を設けた写真記録材料の提供にあり、特に現像処理後にインクジェットで印字が出来、その画像濃度が高く、文字等の画像の滲みも無く、インクの乾燥性にも優れたインクジェット受像層を有する写真記録材料を提供する。 - 特許庁
  • The method includes a step of surface-treating the surface of an ion conductive polymer film so as to obtain surface uniformity by using the plasma processing process, a step of adsorbing metal electrodes to both sides of the ion conductive polymer film, a step of reducing polymer metal composites to both sides of the ion conductive polymer film, and a step of forming a coating layer.
    プラズマ処理工程を利用してイオン伝導性高分子膜の表面が均一になるように表面処理する段階と、前記イオン伝導性高分子膜の両面に金属電極を吸着する段階と、前記イオン伝導性高分子膜の両面に高分子金属複合体を還元する段階と、コーティング層を形成する段階とを含む。 - 特許庁
  • To provide a GaN single crystal and a method for producing the same for preventing the occurrence of a crack when growing a GaN single crystal, when processing the grown GaN single crystal into a substrate and the like, and when forming at least a single semiconductor layer on the substrate-like GaN single crystal to produce a semiconductor device.
    GaN単結晶体を成長させる際および成長させたGaN単結晶体を基板状などに加工する際、ならびに基板状のGaN単結晶体上に少なくとも1層の半導体層を形成して半導体デバイスを製造する際に、クラックの発生が抑制されるGaN単結晶体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
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