「processing liquid」を含む例文一覧(4296)
＜前へ 1 2 .... 19 20 21 22 23 24 25 26 27 .... 85 86 次へ＞- To provide an idling method of a machining device, saving on a processing liquid.
加工水を節約可能な加工装置のアイドリング方法を提供することである。 - 特許庁 - A suction means for sucking the processing liquid from the passages may be provided.
通路から流出する加工液を吸引する吸引手段を設けても良い。 - 特許庁 - LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND TIMING CONTROLLER AND SIGNAL PROCESSING METHOD USED IN THE SAME
液晶表示装置、該装置に用いられるタイミングコントローラ及び信号処理方法 - 特許庁 - SILVER HALIDE HOLOGRAPHIC PHOTOSENSITIVE MATERIAL, PROCESSING METHOD THEREFOR, BLEACHING LIQUID, AND HOLOGRAM
ハロゲン化銀ホログラフィ−感光材料、その処理方法及び漂白液並びにホログラム - 特許庁 - The substrate processing equipment 500 comprises an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a liquid immersion processing block 13, and an interface block 14.
基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、液浸露光用処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を備える。 - 特許庁 - To provide a development processing method and a development processing apparatus capable of enhancing the processing capacity by shortening the processing time in the development processing using a liquid developer containing an organic solvent.
有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理において、処理時間の短縮化を可能にして、処理能力を向上させることができる現像処理方法及び現像処理装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a substrate transporting and processing apparatus for supplying processing liquid to a substrate to be processed and performing application processing, the substrate transporting and processing apparatus securing substrate transport accuracy and suppressing processing defects.
被処理基板に処理液を供給して塗布処理を施す基板搬送処理装置において、基板搬送精度を確保し、処理不良の発生を抑制することのできる基板搬送処理装置を提供する。 - 特許庁 - In a substrate processing by the substrate processing apparatus, a hydrophobizing step (S101) for selectively hydrophobizing the peripheral edge of the main surface of the substrate and a liquid film forming step (S102) for supplying the processing liquid to the substrate which is horizontally held after the hydrophobizing process is performed and forming the liquid film of processing liquid covering the main surface of the substrate are performed.
この基板処理装置による基板の処理では、基板の主面の周縁部を選択的に疎水化させる疎水化工程（Ｓ１０１）と、前記疎水化工程が実行された後に、水平に保持された基板に処理液を供給して、当該基板の主面を覆う処理液の液膜を形成する液膜形成工程（Ｓ１０２）とが実行される。 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method which prevent a cleaning liquid accumulated in an accumulation part in a cleaning part from evaporating and also prevent the atmosphere of the evaporated cleaning liquid from entering into a processing chamber when a substrate is carried in or carried out to/from the processing chamber and a cup outer peripheral cylinder is in a lower position.
処理室内に基板を搬入したり処理室から基板を搬出したりする場合においてカップ外周筒が下方位置にあるときに、洗浄部における貯留部分に貯留された洗浄液が蒸発してこの洗浄液の雰囲気が処理室内に入り込むことを防止することができる液処理装置および液処理方法を提供する。 - 特許庁 - In the substrate processing apparatus 1, an inert gas is dissolved into the processing liquid cooled by a chiller 126 in a dissolution part 128 and the processing liquid 104, into which an inert gas is dissolved by the dissolution part 128, is stored in a processing tank 102.
基板処理装置１では、溶解部１２８において、チラー１２６により冷却された処理液に不活性ガスが溶解させられ、溶解部１２８により不活性ガスが溶解させられた処理液１０４が処理槽１０２に貯留される。 - 特許庁 - To provide a high-pressure processor stabilizing substrate processing by recognizing the liquid chemical density in high-pressure processing fluid in circulation processing, accurately recognizing the time of the completion of the substrate processing and optimally controlling the liquid chemical density.
循環処理過程における高圧処理流体中の薬液濃度を把握すると共に基板処理の完了時点を正確に把握し、薬液濃度を最適に制御することにより、基板処理の安定化を図った高圧処理装置を提供する。 - 特許庁 - To form structure having proper workability in a substrate processing equipment where a cassette station and a processing station are connected each other and the substrate discharged from a substrate cassette is liquid-processed in a liquid-processing unit of the processing station, e.g., in an equipment of coating or development forming a resist pattern.
カセットステーションと処理ステーションを接続し、基板カセットから取り出された基板を処理ステーション内の液処理ユニットにて液処理する基板処理装置、例えばレジストパターンを作る塗布、現像装置において、作業性の良い構成とすること。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device capable of preventing metal ion from being mixed into processing liquid and properly carrying out a given processing by giving the metal-ion-free processing liquid in a precise flow volume to the substrate, and a thermal type flowmeter.
処理液への金属イオンの混入を防止するとともに、金属イオンフリーの処理液を正確な流量で基板に与えて所定の処理を良好に行うことができる基板処理装置および該装置に適した熱式流量計を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid processing device which can discharge promptly a process liquid collected in a waste liquid cup, and at the same time, can collect securely also the process liquid leaked out to the back side of a substrate retainer.
排液カップに集められた処理液を速やかに排出できるとともに、基板保持体の裏面側に漏出した処理液についても確実に集液できる液処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a coat processing method and coat processing device capable of reducing the quantity of a coating liquid to be applied without bringing the increase of the equipment cost in the coating of the whole surface of a substrate with a coating liquid such as a resist liquid.
レジスト液のような塗布液を基板の全面に塗布するにあたり、装置コストの高騰を招くことなく、塗布液の使用量を削減することができる塗布処理方法および塗布処理装置を提供すること。 - 特許庁 - This disclosed semiconductor manufacturing device reverses the flow of the treatment liquid passing inside a filter 6, between the product processing time when it wet-treats a semiconductor wafer and the treatment liquid drainage time when it drains the treatment liquid after wet processing.
開示される半導体製造装置は、半導体ウェハをウエット処理する製品処理時と、ウエット処理後の処理液を排液する処理液排液時とで、フィルタ６内を通過する処理液の流れを逆方向にする。 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus which can surely advance a holding member into a chamber for liquid processing in the apparatus for moving the holding means which holds a substrate to liquid process the substrate.
基板を保持した保持手段をチャンバへ移動させて液処理を行う液処理装置において、保持手段を液処理が行われるチャンバへ確実に進入させることを可能とした液処理装置を提供する。 - 特許庁 - The delay index K contains elements such as an area or amount of a processing liquid (the second liquid) stuck (or scheduled to be stuck) to the tip area Pb of the paper P and an amount of the processing liquid left on the roller 10a without being dried.
遅延指標Ｋは、用紙Ｐの先端領域Ｐｂに付着した（又は付着する予定の）処理液（第２液）の面積又は量、ローラ１０ａに乾かずに残存する処理液の量などの要素を含んでいる。 - 特許庁 - This urine (liquid) quantity measuring instrument 1 is provided with an imaging part and an image processing circuit, and a position of a liquid face in an urine collecting container 2 is detected noncontactly by image processing to detect an urine quantity based on the position of the liquid face.
尿測量装置１は、撮像部と画像処理回路とを備えており、画像処理により採尿容器２における液面の位置を非接触で検出し、この液面の位置に基づいて尿量を検出する。 - 特許庁 - To discharge effectively trash or the like in processing liquid and process a substrate with high cleanliness factor, and prevent mutual contamination by discharging process liquid, while supplying cleaning liquid to the inner wall of a processing tank.
処理槽内壁に洗浄液を供給しながら処理液を排出することにより、処理液中のゴミ等を効率よく排出して清浄度高く基板を処理することができ、相互汚染を防止することができる。 - 特許庁 - To simplify the constitution and the control system of a chemical liquid supply system and reduce the foot print, in an apparatus that performs processing of wafers with a processing liquid which is a mixture of a chemical liquid and deionized water.
薬液と純水とを混合させた処理液により基板の処理を行う装置において、薬液供給系の構成や制御系を簡易化し、設置スペースも小さくすることができる装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus capable of processing liquid remaining on the back of a substrate or the back and edge portions of the substrate while preventing liquid from reaching the surface of the substrate without use of a complicated mechanism.
複雑な機構を用いることなく液が基板の表面に到達することを阻止した状態で基板の裏面、または基板の裏面およびエッジ部を液処理することができる液処理装置を提供すること。 - 特許庁 - The mist-like processing liquids 11a and 11b are introduced by disposing a composite nozzle 4 formed of a liquid feed pipe 5 feeding the processing liquid and an air jet pipe 6 forming the given angle to the liquid feed pipe on the front and both sides of the outer peripheral blade 2.
ミスト状の加工液は、加工液を供給する給液管とこれに所定角度を成す空気噴射管とからなる複合ノズルを外周刃ブレードの前方及び両側方に配置して供給する。 - 特許庁 - If it is detected that any component concentration is lacked, the total quantity (total supplementary quantity) of processing liquids to be supplemented in order to raise a liquid level in the processing liquid tub 10 to a supplement suspension liquid level height is calculated.
いずれかの成分濃度の不足が検出されると、処理液槽１０内の液面を補給停止液面高まで上昇させるために補給すべき処理液の総量（補給総量）が求められる。 - 特許庁 - To provide a functional liquid supply device in which the stoppage of drawing processing by a functional liquid droplet discharge head in the exchange of a main tank is not required.
メインタンクは交換時に、機能液滴吐出ヘッドによる描画処理を停止する必要のない機能液供給装置。 - 特許庁 - Cutting liquid supplied to a hole drilling machine 5 discharges cutting drainage liquid together with chips produced in cut processing.
削孔機５に供給された切削液は切削加工によって生じる切り屑と一緒になった切断排水液を排出する。 - 特許庁 - Since the copper based metal can simply be brought into contact with the waste liquid 30a, the antibacterial liquid decomposition processing unit 80 can be miniaturized.
排液３０ａに銅系金属を接触させるだけでよいので、消毒液分解処理ユニット８０を小型化できる。 - 特許庁 - A calculation unit detects the filling level of the liquid in the processing space (22) which depends on the filling level of the liquid inside the chamber (34).
計算ユニットが、該室（３４）内の液体の充填レベルに依存し、プロセス空間（２２）内の液体の充填レベルを検出する。 - 特許庁 - DICARBOXYL ACID COMPOUND HAVING SILPHENYLENE RESIDUE, POLYAMIDE USING THE SAME, LIQUID CRYSTAL ORIENTATION PROCESSING AGENT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
シルフェニレン残基を有するジカルボン酸化合物及びそれを用いたポリアミド、液晶配向処理剤並びに液晶表示素子 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus which can perform liquid cleaning and two-fluid cleaning of the lower surface of a substrate efficiently.
基板の下面に効率良く液体洗浄および二流体洗浄を行うことができる液処理装置を提供する。 - 特許庁 - The parts feeder 1 stores a coolant liquid of a processing machine 2 in a vibration bowl 10 as a washing liquid.
部品供給装置１は、振動ボウル１０内に加工機２のクーラント液を洗浄液として貯留するようになっている。 - 特許庁 - To provide a liquid leakage detector which is capable of detecting the liquid leakage between the tanks of a device having the plural processing tanks.
複数の処理槽を有する装置の槽間の液漏れを検出することのできる液漏れ検出装置を提供すること。 - 特許庁 - OIL-IN-WATER DROP TYPE EMULSIFIED LIQUID FOR PROCESSING MEAT, PROCESSED MEAT PRODUCT IN WHICH THE EMULSIFIED LIQUID IS INJECTED AND ITS PRODUCTION
食肉加工用水中油滴型乳化液、該乳化液を注入した食肉加工製品及びその製造方法 - 特許庁 - To provide a coating processing method for a substrate in which a coating liquid is effectively used and a coating liquid film is made uniform.
塗布液の有効利用及び塗布液膜の均一化を図れるようにした基板の塗布処理方法を提供すること。 - 特許庁 - To effectively prevent a processing liquid in a mist state from sticking on a substrate before the substrate reaches a predetermined liquid supply point.
基板が所定の液供給地点に到達する以前に、ミスト状の処理液が基板に付着することを有効に防止する。 - 特許庁 - A liquid drop nozzle 21 and a processing liquid nozzle 31 are arranged above a wafer W held by a spin chuck 10.
スピンチャック１０に保持されたウエハＷの上方側には、液滴ノズル２１および処理液ノズル３１が配置されている。 - 特許庁 - To provide a processing device of a coolant liquid where metal powder, dust or the like hardly accumulates in a bottom of a coolant tank and a coolant liquid is hardly deteriorated.
クーラント槽の底部に金属粉、ゴミ等が溜まりにくく、クーラント液が劣化にくいクーラント液の処理装置を提供する。 - 特許庁 - A liquid layer of pure water is formed after the liquid peaking of the pure water is carried out on the whole principal surface of the substrate which completes pure-water washing processing.
純水洗浄処理が終了した基板の主面全面に純水を液盛りし、純水の液層を形成する。 - 特許庁 - Accordingly, the influence due to mingling of the liquid W and the developing solution 32 is prevented from being exerted on liquid development processing.
したがって、液体Ｗと現像液３２と混ざり合うことによる影響が液体現像処理に及ぶのを防止している。 - 特許庁 - The liquid injection processor performs processing to a workpiece by injecting the liquid with the solid particles.
固体粒子とともに液体を噴射することによって加工対象物に対して加工を行う液体噴射加工装置である。 - 特許庁 - The development processing device 1 controls the development processing liquid to liquid temperature suitable for development processing of a photosensitive material in response to the start of input of order information input from an input section 40 or communication section 30.
現像処理装置１は、入力部４０又は通信部３０から入力される注文情報の入力開始に応じて現像処理液を写真感光材料の現像処理に適した液温に調節する。 - 特許庁 - In the unit 2, the substrate W is housed in a processing space of a processing chamber 21, and the liquid film is freezed with the temperature in the processing space lowered to the temperature lower than a freezing point of the pretreatment liquid.
凍結処理ユニット２では、基板Ｗは処理室２１内の処理空間に収容され、処理空間の温度が前処理液の凝固点よりも低い温度に低下されることで液膜が凍結される。 - 特許庁 - Each processing chamber 30 has a feeding port 33 for feeding therethrough a processing liquid, an exhausting port 34 for exhausting therethrough an exhausting liquid, and a processing space 32 whose surface corresponding to the region to be processed is opened.
処理チャンバー３０は、処理液を供給するための供給口３３、処理液を排出する排出口３４、および処理すべき領域に対応する一面が開放された処理空間３２を備える。 - 特許庁 - The development section 14 is provided with a plurality of processing tanks 24 filled with different kinds of processing liquid, and an exhaust section 40 for discharging odor gas produced from the processing liquid after decomposing/deodorizing it with ozone.
現像部１４には、それぞれ種類の異なる処理液が充填される複数の処理槽２４と、処理液から発生する臭気ガスをオゾンよって分解・脱臭した後に排気するための排気部４０が設けられる。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device, capable of fundamentally eliminating the electrostatic fault or the like by a simple method, a substrate processing method and a manufacturing method of a substrate, using the processing method, and a manufacturing device of a liquid crystal device, using the manufacturing method and a manufacturing method of the liquid crystal device.
単純な方式で静電気障害等の根本的解決を図ることができる基板処理装置、その基板処理方法及びその基板処理方法を用いた基板製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To make uniform the quantity of a processing liquid such as a developer to be applied in the crosswise direction of a photograph film in a photograph film developing and processing device of a type to develop the photograph film by directly applying the processing liquid on the emulsion side thereof.
現像液などの処理液を写真フィルムの乳剤面に直接塗布して現像するタイプの写真フィルム現像処理装置において、写真フィルムの幅方向における処理液の塗布量を均一にする。 - 特許庁 - To provide a photosensitive material processing device which does not spill or scatter a processing liquid to a place where a photosensitive material is processed or to its circumference in the replacement or the like of the processing liquid and gives stable finished quality.
処理液の交換等において感光材料を処理する場所やその周囲に処理液がこぼれたり飛散することがなく、安定した仕上がり品質の得られる感光材料処理装置を得ること。 - 特許庁 - To provide an apparatus for processing liquid capable of irradiating different frequency ultrasonic waves sequentially or simultaneously, forming more uniform ultrasonic fields in a processing vessel and increasing efficiency of liquid processing.
異なる周波数の超音波を順次または同時に照射できると共に、処理容器中でより均一な超音波音場を形成でき、液体処理の効率を向上できるようにした液体処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus which can clean the lower surface of a substrate efficiently.
基板の下面を効率良く洗浄することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁 - The surface of the pressure receiving part 12 to receive the gas-liquid mixed phase flow is subjected to bending processing.
前記気液混合流を受ける受圧部１２の面１２１は湾曲加工される。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
