「processing liquid」を含む例文一覧(4296)
＜前へ 1 2 .... 18 19 20 21 22 23 24 25 26 .... 85 86 次へ＞- To obtain an innoxious liquid chemical for flame retarding processing, which imparts a processing object with high flame retardancy.
本発明の課題は、処理対象物に高い難燃性を与える無害な難燃処理用液剤を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a method for cleaning a glass substrate for a liquid crystal which is capable of in-line setting, large area processing, and high-speed processing.
インライン化が可能で、大面積処理や処理の高速化の出来る液晶用ガラス基板の洗浄方法の提供。 - 特許庁 - The electric discharge machining device is equipped with a processing trough 10 of the body part 1 and a concentration managing device 3 of a processing liquid supplying device 2.
放電加工装置は、本機１の加工槽１０と加工液供給装置２の濃度管理装置３を備える。 - 特許庁 - To realize a processing apparatus and a method, where a target processing can be carried out at a low cost when a processing liquid is fed through a spin-less method to carry out prescribed processing.
スピンレス法により処理液を供給して所定の処理を行う場合に、低コストで、目的とする処理を施すことができる処理装置及び処理方法を提供する。 - 特許庁 - To improve phenomena that processing capability is reduced owing to a processing liquid stuck to a photosensitive material, and processing is temporarily stopped when a photosensitive material is sent to a plurality of processing tanks.
感光材料に付着した処理液による処理能力の低下や、感光材料が複数の処理槽に送られる際に処理が一時的に停止する現象を改善する。 - 特許庁 - To provide a two-fluid nozzle capable of shortening a processing time using a processing liquid while suppressing damages on a substrate, and to provide a substrate processing apparatus employing the same and a substrate processing method.
基板へのダメージを抑制しつつ、処理液による処理時間を短縮することができる二流体ノズル、ならびにそれを用いた基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide substrate processing equipment, capable of forming a good application film on a substrate by sprayed and supplied processing liquid, and to provide a substrate processing system, and a substrate processing method.
噴霧供給された処理液によって、基板上に良好な塗布膜を形成することができる基板処理装置、基板処理システム、および基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - The planar work is the object of the immersion processing, and the immersion processing is executed by feeding the planar work together with the cassette into a processing tank containing a processing liquid and then pulling it up.
板状ワークは浸漬処理の対象物であり、処理液を入れた処理糟内に板状ワークがカセットごと投入され、その後引き上げられることにより浸漬処理が実行される。 - 特許庁 - The wide angle nozzles 7_1-7_6 spray the processing liquid to the vicinity of a center part of a turning circle of the substrate 10 and the straight nozzles 8_1-8_4 spray the processing liquid to the peripheral part of the turning circle.
広角ノズル７_1 〜７_6 は基板１０の回転円の中心部近傍に処理液をスプレーし、ストレートノズル８_1 〜８_4 は回転円の外周部に処理液をスプレーする。 - 特許庁 - In the method, it is preferable that the glass substrate is almost vertically arranged in the chemical processing liquid, and an ascending flow is produced in the chemical processing liquid by bubbles.
この方法において、ガラス基板を化学加工液中に略垂直配置し、気泡により化学加工液中に上昇液流を生じさせていることが好適である。 - 特許庁 - In the processing method, a workpiece is immersed in the processing liquid obtained by subjecting the liquid contacting to the ceramics ball to ion-exchange treatment, and is cut while electrically discharging.
セラミックスボールに接触させた液体をイオン交換処理することによって得られた加工液に被加工物を浸漬させ，放電しながら被加工物を切削する加工方法。 - 特許庁 - To provide a liquid processing device which can prevent the processing liquid from being left on a lift pin after drying a substrate, and can process the lower surface of the substrate efficiently.
基板の乾燥後にリフトピンに処理液が残ることを防止することができ、かつ、基板の下面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a wire saw capable of uniformly supplying a processing liquid to a wire of a wire row formed between groove rollers, by preventing convergence to the inside of the processing liquid by surface tension.
表面張力による加工液の内側への収束を防止し、溝ローラ間に形成されるワイヤ列のワイヤに均一に加工液を供給できるワイヤソーを提供する。 - 特許庁 - Since the mist reacts with the processing liquid to additionally form a hydroxide radical and, since the mist and the processing liquid perform heat generation reaction, the efficiency in removal of the photoresist can be improved.
ミストは、処理液と反応して水酸化ラジカルを追加的に形成し、ミストと処理液が発熱反応するため、フォトレジスト膜の除去効率を向上させることができる。 - 特許庁 - To provide a liquid processing method that eliminates an unprocessed part of a substrate as a result of supporting the substrate by a support portion, and prevents mist of processing liquid from being generated.
基板が支持部に支持されることに起因する基板の未処理部分をなくすことができ、処理液のミストの発生も防止することができる液処理方法を提供する。 - 特許庁 - A processing liquid discharge pipe 44 for discharging a processing liquid flowing from the internal tank 40 and flowing into the external tank 43 is connected to the bottom of the internal tank 43.
外槽４３の底部には、内槽４０から流れ出し、外槽４３内に流れ込む処理液を排出するための処理液排出管４４が接続されている。 - 特許庁 - To maintain the amount of a processing liquid constant regardless of the kinds of photosensitive materials and to eliminate such complex work as use of processing liquid tanks varying in volume.
感光材料の種類に拘らず、処理液の量を一定とすることができ、異なる容積の処理液槽を用いるといった煩雑な作業を解消する。 - 特許庁 - To provide a system for detecting the supply pressure of processing liquid being supplied by a pressurizing system and delivering clean processing liquid from an delivery opening onto the surface of a substrate.
加圧方式で供給される処理液の供給圧を検出し、吐出口から清浄な処理液を基板表面へ吐出できるような装置を提供する。 - 特許庁 - When the processing liquid flows over from the internal tank 40, the plate-like member 43c of the automatic flap mechanism 400 rotates around the rotary shaft 43b in accordance the flow of the processing liquid.
内槽４０から処理液が溢れ出す場合、オートフラップ機構４００の板状部材４３ｃは、処理液の流れに応じて回転軸４３ｂを中心として回転する。 - 特許庁 - This restrains movement of the processing liquid on the substrate 9 together with the rotation of the substrate 9 from being blocked by the processing liquid emitted from the nozzle 34.
これにより、基板９上の処理液の基板９の回転に伴う移動が、ノズル３４からの吐出される処理液により阻害されることが抑制される。 - 特許庁 - The processing liquid contains an organic solvent having a standard boiling point of ≥175°C and a content rate of the solvent in the processing liquid is <30 mass%.
前記処理液は、標準沸点が１７５℃以上である有機溶剤を含有し、前記処理液に占める前記溶剤の含有率は３０質量％未満である。 - 特許庁 - The control means controls the processing liquid supply means to cause the processing liquid supply means to discharge the fluid in the order of the central discharge opening 11, the intermediate discharge opening 12 and the peripheral discharge opening 13.
制御手段は、処理液供給手段を制御して、中央吐出口１１、中間吐出口１２、周縁吐出口１３の順番で処理液を吐出させる。 - 特許庁 - To provide a processing liquid discharging head which reduces the installation cost due to increase in the number of heads and is easy to maintain and repair, and to provide a processing liquid discharging device including the same.
ヘッド数の増加による設置費用を減らし、維持補修が容易である処理液の吐出ヘッドユニットおよびこれを具備した処理液の吐出装置を提供する。 - 特許庁 - As the vibration means 4 is actuated, therefore, vibration is added to the processing liquid R existing on the attached surface P1 of the support P for agitating the processing liquid R.
このように、振動手段４の作動により、支持体Ｐの付着面Ｐ１上に存在する処理液Ｒに振動を与え、当該処理液Ｒを撹拌する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a liquid crystal element, which is free from the occurrence of static electricity and stain during alignment processing and eliminates the need of washing and liquid crystal injection after alignment processing.
配向処理において静電気や汚損が発生させず、また、配向処理後の洗浄や液晶注入の必要がない液晶素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing equipment and a method for processing a substrate, in which the thickness of the liquid film of treatment liquid formed on the surface of a substrate is measured correctly.
基板の上面に形成される処理液の液膜の厚さを正確に測定することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供することである。 - 特許庁 - To provide a processing liquid tank for a wire electric discharge machine capable of shortening a setup time for immersion type processing without increasing the installation area of the liquid tank.
加工液タンクの設置面積を大きくせず、かつ浸漬式加工における段取り時間を短縮することができるワイヤ放電加工機の加工液タンクを提供する。 - 特許庁 - When a data amount of ejection data for ejecting the processing liquid at the time of the fifth scan in which only the processing liquid is ejected is not larger than a predetermined amount, the fifth scan is prohibited.
処理液のみ吐出させる第５走査時に処理液を吐出させるための吐出データのデータ量が所定量以下のときは、第５走査は実施しない。 - 特許庁 - Chemicals are supplied to the first upper processing liquid supply pipe 35 from a first in-piping-blending unit 51 through a second upper processing liquid supply pipe 38.
第１上側処理液供給管３５には、第２上側処理液供給管３８を介して第１配管内調合ユニット５１から薬液が供給される。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method which supply a process liquid to an entire main surface of a substrate while reducing the consumption of the process liquid.
処理液の消費量を低減しつつ、基板の主面全域に処理液を供給することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。 - 特許庁 - A member 5 (liquid repellent film 6) as a processing target and a photomask 7 are spaced to define a space between the liquid repellent film 6 formed on the processing target member 5 and the photomask 7.
被処理部材５（撥液膜６）とフォトマスク７との間を離間させて、被処理部材５上に形成された撥液膜６とフォトマスク７との間に空間を生じさせる。 - 特許庁 - To provide a memory type liquid crystal display device capable of switching between whole display processing and partial display processing according to driving conditions of memory type liquid crystal.
メモリ性液晶の駆動条件に応じて、全体表示と部分表示処理とを切り替えることが可能なメモリ性液晶表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - Also, a lower end of the second processing liquid flow passage 28 is used as an annular second processing liquid discharge port 34 surrounding the gas discharge port 31 and discharging the DIW.
また、第２処理液流路２８の下端は、気体吐出口３１を取り囲みＤＩＷを吐出する円環状の第２処理液吐出口３４となっている。 - 特許庁 - MULTI-LAYER CONTAINER, METHOD FOR STORING LIQUID AGENT IN MULTI-LAYER CONTAINER, AND APPARATUS FOR PROCESSING MULTI-LAYER CONTAINER
多層容器、多層容器の液剤収納方法、及び多層容器の処理装置 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus capable of suppressing occurrence of a water mark.
ウォーターマークの発生を抑制することができる液処理装置を提供すること。 - 特許庁 - ALKALINE DEVELOPMENT PROCESSING LIQUID FOR PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE AND PLATE MAKING METHOD FOR PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE
平版印刷版用アルカリ現像処理液及び平版印刷版の製版方法 - 特許庁 - To provide an apparatus and a method of processing a compensation film for a liquid crystal display.
液晶デイスプレイ用コンペンセーションフィルムの加工装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - A flow of a propagation liquid is formed in a propagation bath 30 of a substrate processing equipment 1.
基板処理装置１の伝搬槽３０内に伝搬液の流れを形成する。 - 特許庁 - The present invention may be applied to an image processing apparatus like a liquid crystal display device.
本発明は、液晶ディスプレイなどの画像処理装置に適用することができる。 - 特許庁 - SILICON WAFER, METHOD FOR PROCESSING THE SAME, AND PROCESS FOR MANUFACTURING LIQUID INJECTION HEAD
シリコンウェハの加工方法及びシリコンウェハ、並びに液体噴射ヘッドの製造方法 - 特許庁 - The processing liquid discharged from a nozzle 5 is supplied to the upper surface of a wafer W.
ノズル５から吐出された処理液は、ウエハＷの上面に供給される。 - 特許庁 - WASHING LIQUID USED FOR DUAL DAMASCENE STRUCTURE FORMATION PROCESS, AND PROCESSING METHOD OF SUBSTRATE
デュアルダマシン構造形成プロセスに用いられる洗浄液および基板の処理方法 - 特許庁 - To provide a high-reliability liquid sample introduction device capable of high-speed processing.
高信頼性且つ高速処理が可能な、液体試料導入装置を実現する。 - 特許庁 - DEVELOPING DEVICE, METHOD OF PROCESSING DEVELOPER LIQUID, METHOD OF PRODUCING PRINTING PLATE, AND FILTRATION DEVICE
現像装置、現像液の処理方法、印刷版の製造方法、及びろ過装置 - 特許庁 - To provide a liquid phase etching apparatus fast in etching processing speed and capable of fine patterning.
加工速度が速く微細加工の可能な液相エッチング装置を提供する。 - 特許庁 - DYNAMIC SCREEN SIGNAL GRAY SCALE PROCESSING APPARATUS FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ITS METHOD
液晶表示装置のダイナミック画面信号グレイスケール処理装置、及びその方法 - 特許庁 - LIQUID CRYSTAL DISPLAY APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM EQUIPPED WITH THE SAME, AND ITS DRIVING METHOD
液晶ディスプレイ装置、それを具備した情報処理システム、及びその駆動方法 - 特許庁 - To improve a yield in processing a cavity plate which composes a liquid droplet delivery head.
液滴吐出ヘッドを構成するキャビティプレートの加工における歩留まり改善。 - 特許庁 - Thereby, the end portion of the substrate W rises to the temperature corresponding to the chemical liquid processing.
これにより、基板Ｗの端部が薬液処理に応じた温度に昇温する。 - 特許庁 - The humidifying liquid is discharged to the outside during a completion processing job of an image forming system.
画像形成システムの終了処理ジョブ中に、加湿液を外部へ排出する。 - 特許庁
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