「processing liquid」を含む例文一覧(4296)
＜前へ 1 2 .... 15 16 17 18 19 20 21 22 23 .... 85 86 次へ＞- REGENERATIVE PROCESSING FACILITY OF WASTE PLASTIC AND APPARATUS AND METHOD FOR SEPARATING GAS FROM LIQUID
廃プラスチック再生処理設備ならびに気液分離装置および方法 - 特許庁 - The liquid processing device 20 removes those unnecessary objects depositing on the wafer surface.
液処理装置２０は、ウェハ表面に付着した不要部位を除去する。 - 特許庁 - LIQUID INJECTION PROCESSING METHOD AND RECEIVING TOOL USED THEREIN
液体噴射加工方法、及び液体噴射加工方法で用いられる受け具 - 特許庁 - LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND PORTABLE INFORMATION PROCESSING DEVICE PROVIDED THEREWITH
液晶表示装置及びこの装置を備えた携帯型情報処理装置 - 特許庁 - In a process of resupplying the processing liquid to the processing tank 10 from the lower tank 40, all the processing liquid passes a filter 23 arranged in a circulation line 20, and all the contaminants included in the processing liquid are removed by the filter 23.
下部タンク４０から処理槽１０に処理液が再供給される過程において、全ての処理液が循環ライン２０に設けられたフィルタ２３を通過することとなるため、処理液に含まれている全ての汚染物質がフィルタ２３によって取り除かれる。 - 特許庁 - To decrease patterning defects by preventing the drying and crystallizing of a processing liquid when separating and removing the processing liquid sticking to a substrate by an air knife and preventing the increase of the concentration of the cyclically used processing liquid by the waste gas of a processing chamber.
基板に付着した処理液をエアナイフで分離除去する際に処理液が乾燥して結晶化するのを防止するとともに、処理室の排気によって循環使用している処理液の濃度が上昇するのを防止し、パターニング不良を低減する。 - 特許庁 - A processing apparatus for processing a substrate 13 by immersing the substrate in a processing liquid comprises a processing tank 1 for containing the processing liquid, a conveyor roller 4 provided in the processing tank 1 and supporting the substrate 13 immersed in the liquid and a nozzle 21 arranged oppositely to a plate face of the substrate 13 for forming a flow of the processing liquid along the plate face of the substrate 13.
基板１３を処理液に浸漬して処理する処理装置において、上記処理液が収容される処理槽１と、この処理槽内に設けられ上記基板を上記処理液に浸漬した状態で支持する搬送ローラ４と、この搬送ローラによって支持された上記基板の板面に対向して配置されこの基板の板面に沿う処理液の流れを形成するノズル体２１とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁 - The substrate processing apparatus, including a processing apparatus which performs prescribed processing on a substrate, has first piping connected to the processing apparatus and supplying a liquid to the processing apparatus, and second piping containing the first piping and discharging the liquid from the processing apparatus.
基板に対し所定の処理を行う処理装置を有する基板処理装置であって、前記処理装置に接続され、前記処理装置に流体を供給する第一配管と、前記第一配管を内包し、前記処理装置から前記流体を排出する第二配管とを備える。 - 特許庁 - To provide a device for processing a substrate having a plurality of processing units for processing a substrate to be processed with the use of a processing liquid capable of supplying the processing liquid with a chemical included in an appropriate concentration corresponding to the process of the substrate to be processed in the processing units.
処理液を用いて被処理基板を処理する複数の処理ユニットを備えた基板処理装置であって、各処理ユニットへ、当該処理ユニットにおける被処理基板の処理に応じた適切な濃度で一つの薬液種が含まれた処理液が供給され得る基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing equipment and a substrate processing method which are capable of securing an enough time for processing a substrate with a processing liquid without increasing the substrate transfer speed.
基板の搬送速度を増加させることなく処理液による基板の処理時間を確保することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus whereby the amount of use of processing liquid can be reduced by causing a strong water stream change in a processing tank and the processing with high quality can be attained.
処理槽内で強い水流変化を起させて、処理液の使用量を少なくすると共に高い品質の処理ができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus equipped with a processing liquid recovering mechanism capable of preventing mixture of consumed processing liquids.
使用済みの各処理液が混合することを防止することができる処理液回収機構を備えた基板処理方法及び基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus capable of suppressing agitation of the processing liquid in the processing chamber and efficiently discharging particles and other foreign objects to the outside of the processing chamber.
処理槽の内部における処理液の攪拌を抑制し、パーティクル等の異物を効率よく処理槽の外部へ排出することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide substrate processing equipment in which throughput of substrate processing being carried out by immersing a substrate into processing liquid stored in a processing tank can be enhanced furthermore.
処理槽に貯留された処理液に基板を浸漬することにより行われる基板処理のスループットをさらに向上させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device which can further improve throughput of substrate processing which is carried out by immersing a substrate in processing liquid stored in a processing tank.
処理槽に貯留された処理液に基板を浸漬することにより施される基板処理のスループットを、さらに向上させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - A developing processor is equipped with a processing tank 30 which stores the processing liquid for developing the photosensitive material, a water supplement unit which supplements the processing tank with water, and the float type liquid level sensor 20 having a signal generating device 24 which generates a detection signal according to at least one detected liquid level of the processing liquid in the processing tank.
写真感光材料を現像処理するための処理液を貯留する処理タンク30と、処理タンクに対して水を補充する補水装置と、処理タンク内の処理液の少なくとも１つの液面レベルの検知に基づいて検知信号を生成する信号発生デバイス24を有するフロート式液面センサ20とを備えた現像処理装置。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a lithographic printing plate, exhibiting safe and excellent developability and processing performance in a one liquid process by a processing liquid in a weak alkali pH range, preferably a processing liquid having a pH of 8.5 to 10.5.
弱アルカリ領域のｐＨ領域の処理液、好ましくはｐＨ８．５〜１０．５の処理液による１液処理において、安全かつ、優れた現像性及び処理能力を示す、平版印刷版の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The processing liquid is discharged toward a wafer W from the discharge port 10 of the processing-liquid discharge pipe 8, while the tip of the processing-liquid discharge pipe 8 is being oscillated vertically, by allowing a nitrogen gas to flow in a gas circulation path 13.
そして、ガス流通路１３に窒素ガスを流すことにより、処理液吐出管８の先端部が上下方向に揺動されながら、処理液吐出管８の吐出口１０から処理液がウエハＷに向けて吐出される。 - 特許庁 - When a Li^+ concentration in the processing liquid 14 reaches a range of 0.07 to 0.09 wt.% preferably, the processing liquid 14 is replaced by a new processing liquid 14.
さらに、化学強化処理液１４中のＬｉ^+濃度が好ましくは０．０７〜０．０９重量％の範囲に到ったときには、化学強化処理液１４が新たな化学強化処理液１４に交換されるように構成されている。 - 特許庁 - To prevent the occurrence of the unequal ejection occurring in the clogging of ejection nozzles by continuously improving the flow property of the processing liquid in a spray pipe for ejecting the processing liquid, thereby lessening the stagnation of the processing liquid at the time of non-ejection.
処理液噴出用のスプレーパイプにおいて、パイプ内の処理液の流動性を継続的に向上し、非噴出時の処理液の滞留を軽減することによって、噴出ノズルの目詰まりに起因する噴出むらを防止する。 - 特許庁 - To prevent quality deterioration of an image formed on a recording medium and to maintain the image quality, even when recording the image without using pre-processing liquid when the pre-processing liquid runs short or when only a small amount of the pre-processing liquid remains.
前処理液が切れた場合又は少量しか残っておらず、前処理液を使用せずに画像記録を行う場合においても、記録媒体に形成される画像の品質劣化を防止して、画像品質を維持する。 - 特許庁 - This substrate processor is provided with a gas supply nozzle 32 and a gas supply pipe 34 for supplying gaseous nitrogen heated by a heater 38 to the liquid surface of the rinsing liquid inside the processing vessel 10, and the liquid surface of the rinsing liquid is heated at pulling of the substrate W, from the rinsing liquid inside the processing vessel.
ヒータ３８で加熱された窒素ガスを処理槽１０内のリンス液の液面に対して供給するガス供給ノズル３２とガス供給管３４を備え、処理槽内のリンス液中から基板Ｗを引き上げる際にリンス液の液面を加熱する。 - 特許庁 - To promote the stirring of a processing liquid which comes into contact with the emulsion surface of a photosensitive material and to suppress uneven processing.
感光材料の乳剤面に触れる処理液の攪拌を促進し、処理ムラを抑えることを課題とする。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device capable of controlling sneaking of a processing liquid onto a peripheral end face of a substrate.
基板の周端面への処理液の回り込みを制御することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To simultaneously clean a carrying roller in a developing unit on judging the state of a processing liquid in a photographic processing apparatus.
写真処理装置において、現像処理部の搬送ローラのクリーニングが同時に行なえる方法を提供する。 - 特許庁 - Single wafer processing type substrate processing equipment comprises a liquid supply means, a gas supply means, and a drying means.
枚葉式の基板処理装置は、液体供給手段と、気体供給手段と、乾燥手段とを備える。 - 特許庁 - This invention can be applied to an image processing apparatus for processing an image to be displayed on a liquid crystal display or the like.
本発明は、液晶ディスプレイ等に表示させる画像を処理する画像処理装置に適用可能である。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus capable of controlling temperature of a processing liquid in a reservoir tank at a low cost.
低コストで貯留槽内の処理液の温度を調整することが可能な基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an information processing apparatus considering the strength of the information processing apparatus having a liquid crystal panel and a filter panel mounted thereon.
液晶パネルとフィルタパネルとを実装したときの強度を考慮した情報処理装置を提供する。 - 特許庁 - The image processing system includes four cameras 1a to 1d, an image processing device 30, and a liquid crystal display 10.
画像処理システムは、４つのカメラ１ａ〜１ｄと、画像処理装置３０と、液晶ディスプレイ１０とを備えている。 - 特許庁 - VIDEO SIGNAL PROCESSING CIRCUIT, DISPLAY APPARATUS, LIQUID CRYSTAL DISPLAY APPARATUS, PROJECTION TYPE DISPLAY APPARATUS, AND VIDEO SIGNAL PROCESSING METHOD
映像信号処理回路、表示装置、液晶表示装置、投射型表示装置及び映像信号処理方法 - 特許庁 - To provide an image data processing device and a liquid ejector in which dots formed on a recording medium by pre-discharge do not stand out by a few arithmetic processing.
少ない演算処理で予備吐出によって記録媒体に形成されたドットを目立ちにくくする。 - 特許庁 - LIQUID PROCESSING AGENT COMPOSITION FOR COLOR DEVELOPMENT FOR SILVER HALIDE COLOR PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL AND DEVELOPMENT PROCESSING METHOD
ハロゲン化銀カラー写真感光材料用の発色現像用液体処理剤組成物及び現像処理方法 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus which can more securely prevent convex portions from collapsing and also can increase the processing efficiency of a substrate.
凸形状部の倒壊をより確実に防止するだけではなく、被処理体の処理効率を高くすること。 - 特許庁 - To provide an exposure device accurately performing exposure processing and measurement processing based on liquid immersion process.
液浸法に基づく露光処理及び計測処理を精度良く行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a replenishing tank for a development processing device capable of simply and easily filling a processing solution tank with replenishing liquid.
補充液の充填が簡単且つ容易に行える現像処理装置用の補充タンクを提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus which prevents a processing liquid atmosphere from diffusing upward from a substrate center part.
基板処理装置において、基板中央部から上方へと処理液雰囲気が拡散することを防止する。 - 特許庁 - The number of times of immersing the substrate W in the processing liquid is counted by a processing lot number counting part 21.
基板Ｗを処理液中に浸漬した回数は処理ロット数計数部２１によって計数されている。 - 特許庁 - To provide a liquid feeding pump for feeding various kinds of processing liquid used in development processing of a film or photosensitive material, surely preventing a back flow of the processing liquid and feeding a minute amount of the processing liquid with simple structure not using an electronic circuit or the like for controlling a valve.
バルブの制御に電子回路等を使用しない簡単な構成でありながら、確実に処理液の逆流を防止し、かつ微少量の処理液を搬送することが可能な、フィルムまたは写真感光材料を現像処理する際に使用する種々の処理液を送るための液送ポンプを提供すること。 - 特許庁 - The conveying mechanism TE and liquid dipping part 90 constitute an out-tank processing unit 50 which processes the photosensitive material P outside a processing tank capable of being conveyed vertically in the processing liquid, and the liquid dipping part 90 includes a discharge mechanism 91 which discharges the processing liquid a contact place between the friction means and the photosensitive material P.
搬送機構ＴＥと液浸部９０とは、感材Ｐを処理液内で上下方向に搬送可能な処理槽の外で処理する槽外処理ユニット５０を構成しており、液浸部９０は摩擦手段と感材Ｐとの接当箇所に処理液を吐出する吐出機構９１を含む構成とした。 - 特許庁 - After a developer 3 and another processing liquid 4 are applied onto an emulsion side 1a of a photograph film 1 by processing liquid application heads 30 and 40, the thickness of the applied processing liquid is controlled by application quantity control rollers 33, 34, 43 and 44 and the photograph film is conveyed to a processing liquid removing device 50 by a conveyer belt 22.
処理液塗布ヘッド３０及び４０により、現像液３及びその他の処理液４を写真フィルム１の乳剤面１ａ上に塗布した後、布量調節ローラ３３と３４及び４３と４４により塗布した処理液の膜厚を調整し、搬送ベルト２２により処理液拭除装置５０まで搬送する。 - 特許庁 - To improve a photographic processing apparatus equipped with a development processing section which performs development processing for a sensitive material having been exposed by using development processing liquid so that the time needed for drying processing of a drying section can be shortened.
露光処理された感光材料を現像処理液によって現像処理する現像処理部を備えた写真処理装置を、乾燥部での乾燥処理に要する時間を短縮可能に改良する。 - 特許庁 - To display a shot image subjected to image recovery processing on a back liquid crystal of an imaging device by an appropriate processing load and processing time.
適切な処理負荷及び処理時間で撮像装置の背面液晶に画像回復処理された撮影画像を表示できるようにする。 - 特許庁 - The video processing apparatus, the video processing method and the program can be applied for a video processing apparatus which controls display of a holding type display device such as a liquid crystal display device.
本発明は、液晶型表示装置等のホールド型表示装置の表示を制御する画像処理装置に適用可能である。 - 特許庁 - A pair of carrier rollers and processing liquid are sealed in a processing cartridge 14 and photographic paper is processed inside the processing cartridge 14.
処理カートリッジ１４は、その内部に搬送ローラ対を封入していると共に処理液を封入しており、内部で印画紙の処理を行う。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus that can clean a retention means and at the same time, save the amount of processing liquid consumed, and to provide a substrate processing method.
保持手段を洗浄することができ，かつ，処理液の消費量を節約できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - The processing liquid feeding section 40 can be inserted into the processing space 36, which is formed by the processing space formation section 30, from the outside.
処理液供給部４０は、処理空間形成部３０により形成される処理空間３６に外部から挿入可能となっている。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus capable of processing a plurality of substrates with a processing liquid with the same concentration in chambers.
この発明は複数の基板をチャンバで同じ濃度の処理液で処理することができるようにした基板の処理装置を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus which can prevent wet residue of processing liquid from occurring on a substrate while improving throughput of the substrate processing apparatus.
基板処理装置のスループットを向上させつつ、基板に処理液の濡れ残りが発生するのを防止できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To constitute a developing processor which performs proper processing by suppressing improper processing of a photographic paper lifted from the surface of a liquid in a processing tank.
処理槽の液面から引き上げた印画紙の不適正な処理の進行を抑制して適正な処理を行う現像処理装置を構成する。 - 特許庁
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